一种用于氮化镓材料制备的喷嘴装置的制作方法

技术特征：
1.一种用于氮化镓材料制备的喷嘴装置，包括定位阶梯外框，其特征在于：定位阶梯外框的底部为开口状，所述定位阶梯外框的内侧设置有法兰衔接管，法兰衔接管的顶部端口法兰连接有石英制外容器，石英制外容器的内侧设置有石英制内容器和石英制导气管，石英制内容器的底部一端环形侧面设置有嵌入卡块，石英制导气管的末端以石英制内容器底部端口为中心环形设置有石英制喷头；所述石英制内容器的正下方设置有内喷管，内喷管的顶部端口环形侧面开设有与嵌入卡块相适配的嵌入卡槽，石英制内容器上的嵌入卡块旋转卡入嵌入卡槽的内侧，法兰衔接管的内侧固定安装有中喷管，内喷管穿插在中喷管的内侧，所述内喷管和中喷管均为两级阶梯管，内喷管的阶梯衔接处与中喷管的内侧壁之间密封设置有内衔板，内衔板上均匀开设有内导流孔，中喷管的阶梯衔接处与法兰衔接管内侧壁之间密封设置有外衔板，外衔板上均匀开设有外导流孔；所述石英制内容器的环形侧面安装有对中喷管端口相适配的防止扩散板，石英制导气管贯穿防止扩散板与石英制喷头相连接。2.根据权利要求1所述的一种用于氮化镓材料制备的喷嘴装置，其特征在于：所述内喷管外侧壁、中喷管和放置扩散板之间组成内独立导气腔道，所述中喷管外侧壁、法兰衔接管和定位阶梯外框之间组成外独立导气腔道，所述石英制内容器和内喷管相互连通组成中心独立导气腔道。3.根据权利要求1所述的一种用于氮化镓材料制备的喷嘴装置，其特征在于：所述中喷管的外侧壁与法兰衔接管和定位阶梯外框内侧壁之间均留有导流间隙。4.根据权利要求1所述的一种用于氮化镓材料制备的喷嘴装置，其特征在于：所述法兰衔接管的底部端口与定位阶梯外框的内侧底部密封接触连接配合。5.根据权利要求1所述的一种用于氮化镓材料制备的喷嘴装置，其特征在于：所述嵌入卡块与相对应嵌入卡槽内侧壁之间的配合关系为间隙配合。6.根据权利要求1所述的一种用于氮化镓材料制备的喷嘴装置，其特征在于：所述内喷管的底部端口高于中喷管的底部端口，中喷管的底部端口高于定位阶梯外框的底部端口。7.根据权利要求1所述的一种用于氮化镓材料制备的喷嘴装置，其特征在于：所述石英制喷头位于中喷管的内侧。

技术总结
本实用新型涉及氮化镓制备相关组件结构技术领域，且公开了一种用于氮化镓材料制备的喷嘴装置，包括定位阶梯外框，定位阶梯外框的底部为开口状，所述定位阶梯外框的内侧设置有法兰衔接管，法兰衔接管的顶部端口法兰连接有石英制外容器，石英制外容器的内侧设置有石英制内容器和石英制导气管，石英制内容器的底部一端环形侧面设置有嵌入卡块，石英制导气管的末端以石英制内容器底部端口为中心环形设置有石英制喷头。该用于氮化镓材料制备的喷嘴装置，避免氨气和氯化镓直接提前进行混合反应，使得其所导出的氢气和氮气分别与氨气和氯化镓进行有效的分别混合之后再进行反应，从而有效的增加了原料的混合反应效率。效的增加了原料的混合反应效率。效的增加了原料的混合反应效率。


技术研发人员：山本晓 张海涛 刘良宏 许彬 庞博
受保护的技术使用者：无锡吴越半导体有限公司
技术研发日：2020.12.07
技术公布日：2021/10/23