偏振装置的制作方法

技术特征：
1.一种用于成像装置的偏振装置，所述偏振装置包括：使入射光偏振到预定线性方向上的光偏振装置，所述光偏振装置包括：线栅；以及相位调制纳米结构的阵列，形成在线栅上，相位调制纳米结构的阵列将入射光的相位改变预定相变量。2.根据权利要求1所述的偏振装置，其中，相位调制纳米结构的阵列包括高介电指数纳米结构的阵列。3.根据权利要求2所述的偏振装置，其中，相位调制纳米结构的所述预定相变量是基于相位调制纳米结构的第一宽度和第二宽度，第一宽度垂直于第二宽度。4.根据权利要求1所述的偏振装置，其中，对于归一化强度1，偏振装置的视场为30度。5.根据权利要求1至4中任一项所述的偏振装置，其中，所述偏振装置还包括：第一偏振装置，使入射光偏振到第一方向上；第二偏振装置，使入射光偏振到第二方向上，第一方向和第二方向彼此正交；第三偏振装置，使入射光偏振到第三方向上；以及第四偏振装置，使入射光偏振到第四方向上，第三方向和第四方向彼此正交并且分别从第一方向和第二方向旋转45度，第一偏振装置、第二偏振装置、第三偏振装置和第四偏振装置各自包括：光偏振装置，使入射光偏振到偏振装置使入射光偏振的方向上，所述光偏振装置包括：线栅；以及相位调制纳米结构的阵列，形成在线栅上。6.根据权利要求5所述的偏振装置，其中，第一方向、第二方向、第三方向和第四方向分别包括垂直方向、水平方向、对角线方向和反对角线方向。7.根据权利要求1所述的偏振装置，其中，线栅的至少一条线包括一系列的金属
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绝缘体
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金属线结构。8.根据权利要求1所述的偏振装置，所述偏振装置还包括：光谱滤光器，使预定波长范围的入射光穿过。9.一种用于成像装置的偏振装置，所述偏振装置包括：使入射光偏振到预定线性方向上的光偏振装置，所述光偏振装置包括：线栅，线栅的至少一条线包括一系列的金属
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绝缘体
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金属线结构；以及相位调制纳米结构的阵列，形成在线栅上，相位调制纳米结构的阵列将入射光的相位改变预定相变量。10.根据权利要求9所述的偏振装置，其中，所述一系列的金属
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绝缘体
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金属线结构中的至少一个金属
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绝缘体
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金属线结构包括多晶硅、氧化铝、二氧化硅和氧化钛中的一种作为绝缘体。11.根据权利要求9所述的偏振装置，其中，相位调制纳米结构的阵列包括高介电指数纳米结构的阵列。12.根据权利要求11所述的偏振装置，其中，相位调制纳米结构的所述预定相变量是基于相位调制纳米结构的第一宽度和第二宽度，第一宽度垂直于第二宽度。13.根据权利要求9所述的偏振装置，其中，对于归一化强度1.0，偏振装置的视场为30度。
14.根据权利要求9至13中任一项所述的偏振装置，其中，偏振装置还包括：第一偏振装置，使入射光偏振到第一方向上；第二偏振装置，使入射光偏振到第二方向上，第一方向和第二方向彼此正交；第三偏振装置，使入射光偏振到第三方向上；以及第四偏振装置，使入射光偏振到第四方向上，第三方向和第四方向彼此正交并且分别从第一方向和第二方向旋转45度，第一偏振装置、第二偏振装置、第三偏振装置和第四偏振装置各自包括：光偏振装置，使入射光偏振到偏振装置使入射光偏振的方向上，所述光偏振装置包括：线栅，线栅的至少一条线包括所述金属
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绝缘体
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金属线结构；以及相位调制纳米结构的阵列，形成在线栅上。15.根据权利要求14所述的偏振装置，其中，第一方向、第二方向、第三方向和第四方向分别包括垂直方向、水平方向、对角线方向和反对角线方向。16.根据权利要求9所述的偏振装置，所述偏振装置还包括：光谱滤光器，使预定波长范围的入射光穿过。17.一种用于成像装置的偏振装置，所述偏振装置包括：使入射光偏振到预定线性方向上的光偏振装置，所述光偏振装置包括：线栅，线栅的至少一条线包括金属
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绝缘体
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金属线结构；以及相位调制纳米结构的阵列，形成在线栅上，相位调制纳米结构的阵列将入射光的相位改变预定相变量，相位调制纳米结构的阵列包括高介电指数纳米结构的阵列，相位调制纳米结构的所述预定相变量是基于相位调制纳米结构的第一宽度和第二宽度，第一宽度垂直于第二宽度。18.根据权利要求17所述的偏振装置，其中，所述偏振装置还包括：第一偏振装置，使入射光偏振到第一方向上；第二偏振装置，使入射光偏振到第二方向上，第一方向和第二方向彼此正交；第三偏振装置，使入射光偏振到第三方向上；以及第四偏振装置，使入射光偏振到第四方向上，第三方向和第四方向彼此正交并且分别从第一方向和第二方向旋转45度，第一偏振装置、第二偏振装置、第三偏振装置和第四偏振装置各自包括：光偏振装置，使入射光偏振到偏振装置使入射光偏振的方向上，所述光偏振装置包括：线栅，线栅的至少一条线包括所述金属
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绝缘体
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金属线结构；以及相位调制纳米结构的阵列，形成在线栅上。19.根据权利要求18所述的偏振装置，其中，第一方向、第二方向、第三方向和第四方向分别包括垂直方向、水平方向、对角线方向和反对角线方向。20.根据权利要求17所述的偏振装置，所述偏振装置还包括：光谱滤光器，使预定波长范围的入射光穿过。

技术总结
提供了一种偏振装置，所述偏振装置包括提供片上同时全斯托克斯偏振参数(线偏振和圆偏振)和多/高光谱成像的偏振滤光器和光谱滤光器。偏振滤光器使入射光偏振到预定线性方向上。光偏振滤光器包括线栅和相位调制纳米结构的阵列。线栅包括至少一条线，所述至少一条线包括一系列的金属


技术研发人员：拉德瓦努尔
受保护的技术使用者：三星电子株式会社
技术研发日：2021.03.04
技术公布日：2021/10/11