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一种抛光液供给位置核准装置和化学机械抛光系统的制作方法

2021-10-16 11:26:00 来源:中国专利 TAG:核准 抛光 供给 装置 基板

技术特征:
1.一种抛光液供给位置核准装置,其特征在于,包括固定座和水平板,所述固定座可拆卸地设置于抛光盘的外周壁,所述水平板连接于所述固定座的顶部并朝向抛光盘的中心设置;所述水平板设置于抛光垫与抛光液供给臂之间,抛光液经由所述抛光液供给臂的端部滴落至所述水平板的顶面,水平板的顶面设置有刻度线以量测抛光液的滴落位置。2.如权利要求1所述的抛光液供给位置核准装置,其特征在于,所述水平板朝向抛光盘的端面的投影线与抛光盘的中心点重合,所述刻度线为圆弧线,所述圆弧线的圆心与所述抛光盘或抛光垫的中心重合。3.如权利要求1所述的抛光液供给位置核准装置,其特征在于,还包括显示试纸,其设置于所述水平板的顶面,抛光液滴落至显示试纸后,所述显示试纸的颜色发生改变。4.如权利要求3所述的抛光液供给位置核准装置,其特征在于,所述显示试纸与抛光液匹配设置,其粘接于所述水平板的顶面。5.如权利要求1所述的抛光液供给位置核准装置,其特征在于,所述水平板平行于所述抛光垫设置,所述水平板的底面与抛光垫的顶面之间的间距为2mm

10mm。6.如权利要求1所述的抛光液供给位置核准装置,其特征在于,还包括定位件,其设置于固定座的侧部并位于水平板的下部,所述定位件的内侧壁为圆弧结构,所述圆弧结构的尺寸与抛光垫的外径相匹配。7.如权利要求6所述的抛光液供给位置核准装置,其特征在于,所述定位件的部分或全部位于所述抛光盘的上侧,所述定位件位于所述抛光盘上侧的高度大于所述抛光垫的厚度。8.如权利要求6所述的抛光液供给位置核准装置,其特征在于,所述定位件由非金属材料制成。9.如权利要求8所述的抛光液供给位置核准装置,其特征在于,所述定位件由聚苯硫醚制成。10.一种化学机械抛光系统,其特征在于,包括权利要求1至9任一项所述的抛光液供给位置核准装置。

技术总结
本实用新型公开了一种抛光液供给位置核准装置和化学机械抛光系统,所述抛光液供给位置核准装置包括固定座和水平板,所述固定座可拆卸地设置于抛光盘的外周壁,所述水平板连接于所述固定座的顶部并朝向抛光盘的中心设置;所述水平板设置于抛光垫与抛光液供给臂之间,抛光液经由所述抛光液供给臂的端部滴落至所述水平板的顶面,水平板的顶面设置有刻度线以量测抛光液的滴落位置。量测抛光液的滴落位置。量测抛光液的滴落位置。


技术研发人员:许振杰 梁清波
受保护的技术使用者:华海清科股份有限公司
技术研发日:2020.12.17
技术公布日:2021/10/15
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