一种微透镜阵列膜的制作方法

1.本实用新型涉及防伪技术领域，具体涉及一种微透镜阵列膜。


背景技术：

2.伪造的钞票、有价证券、证书、标签、高附加值的商品等给人民的生产和生活造成极大的损失和危害，甚至威胁国家安全，人们花费大量的时间和精力研究新型的安全技术，检验数据载体的真实性，防止伪造和生产。有别于少数的专家和技术人员，芸芸大众需要大众的防伪技术。大众技术特点是在通常状态下，不借助任何仪器，用肉眼或感觉器官能够直接识别特征，最易为广大人民群众所辨别。
3.通常大众技术主要有印刷、水印、激光全息、变色油墨等，在现阶段，一种新型的技术高、成本低、易识别、可仲裁的新一代技术是将微透镜阵列和微图文阵列结合实现的摩尔放大技术。现有技术中通过摩尔放大技术制作的微透镜阵列膜，其能够在微透镜所在侧对微图文进行查看。当微透镜所在侧做封装要求时，便无法对微图文进行查看，因此，现有技术的微透镜阵列膜有待改进。


技术实现要素：

4.针对现有技术的缺陷和不足，本实用新型的目的在于提供一种微透镜阵列膜，其具有可在微透镜所在侧封装、安装，可在微图文侧查看微图文内容，微图文清晰，厚度更薄的优势。
5.为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种微透镜阵列膜，包括：基材；设置于所述基材一侧上的微透镜阵列层；设置于所述基材上远离所述微透镜阵列层一侧的微图文阵列层，所述微图文阵列周期与所述微透镜阵列周期匹配；以及，设置于所述微透镜阵列层表面上的反射层，所述反射层用于反射所述微图文阵列层通过所述微透镜阵列层形成的图像，以实现在微图文阵列层一侧查看微图文。
6.进一步地，所述反射层为涂覆于所述微透镜阵列层表面上的介质膜，所述介质膜至少设置有一层。
7.进一步地，所述介质膜设置有一层，且该层介质膜为高折射率介质材料，所述高折射率介质材料的折射率大于1.9，所述高折射率介质材料选自硫化锌、硒化锌、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛中的任意一种。
8.进一步地，所述介质膜至少设置有两层，且分为高折射率介质材料和低折射率介质材料，所述介质膜的涂覆顺序为高折射率介质材料和低折射率介质材料交替，且靠近所述微透镜阵列层表面一侧涂覆高折射率介质材料；所述低折射率介质材料的折射率小于1.45，所述高折射率介质材料的折射率大于1.9。
9.进一步地，所述高折射率介质材料选自硫化锌、硒化锌、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛中的任意一种；所述低折射率介质材料选自氟化镁、氟化铝、氟化钡中的任意一种。
10.进一步地，所述高折射率介质材料的厚度在5纳米
‑
30纳米或100纳米
‑
130纳米之间；所述低折射率介质材料的厚度在5纳米
‑
50纳米或170纳米
‑
230纳米之间。
11.进一步地，所述反射层为金属镀层，所述金属镀层为镀银层或镀铝层。
12.进一步地，所述微透镜阵列膜还包括封装层，所述封装层设置于所述反射层上，所述封装层用于实现微透镜阵列层上远离所述微图文阵列层一侧的装配。
13.采用上述技术方案后，本实用新型有益效果为：微透镜阵列膜在成像时，通过在微透镜阵列层涂覆反射层，使得微图文在经过微透镜折射后由反射层反射后的图像再次经过微透镜折射形成图像，进而使得用户能够在微图文阵列层一侧对成像后的微图文进行查看，这样设置的微透镜阵列膜不仅能够两次使用微透镜进行折射成像，能够有效缩减微透镜阵列膜的厚度，而且能够实现微透镜阵列一侧的封装和安装，具有可在微透镜所在侧封装、安装，可在微图文侧查看微图文内容，微图文清晰，厚度更薄的优势。
附图说明
14.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
15.图1是实施例1的层结构示意图；
16.图2是实施例4的层结构示意图。
17.附图标记说明：100、基材；200、微透镜阵列层；300、微图文阵列层；400、反射层；500、封装层。
具体实施方式
18.以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。
19.本具体实施例仅仅是对本实用新型的解释，其并不是对本实用新型的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造贡献的修改，但只要在本实用新型的权利要求范围内都受到专利法的保护。
20.实施例1：
21.本实施例涉及一种微透镜阵列膜，如图1所示，包括：基材100、微透镜阵列膜、微图文阵列膜以及反射层400。
22.具体地，微透镜阵列层200设置于基材100上并位于基材100的一侧。微图文阵列层300设置于基材100上，并位于基材100上远离微透镜阵列层200一侧，且微图文阵列周期与微透镜阵列周期匹配。反射层400设置于微透镜阵列层200表面上。反射层400用于反射微图文阵列层300通过微透镜阵列层200形成的图像，以实现在微图文阵列层300一侧查看微图文。
23.需要说明的是，微透镜阵列膜中，微透镜阵列和微图文阵列不仅需要满足摩尔条纹的成像原理，亦需满足微透镜的光学成像原理。现有技术中，通常都是在微透镜阵列层200一侧查看微图文，此时如果对微透镜阵列层200进行封装，将破坏微透镜阵列膜中微透镜的光学成像结构，微图文将无法观察或模糊一片。在本实施例中，在微透镜阵列层200的
表面设置一层反射层400，使得查看微图文时，光线经微图文在透过基材100后，由微透镜阵列层200进行折射、放大，在遇到反射层400后，光线在反射层400的镜面反射下返回，再次由微透镜进行折射，实现微透镜的二次使用，经过微透镜再次折射后的光线再次穿过基材100和微图文阵列层300被人眼接收，进而使得人眼能够在微图文阵列层一侧对微图文进行查看。
24.显然地，在上述光线成像的过程中，由于微透镜阵列层200对光线进行了两次折射，提升了微透镜阵列层200的使用率，使得微图文在与微透镜之间较小距离的情况下也能够使得微图文清晰可见，从而有效缩减了微透镜阵列膜的厚度。另外，在微透镜阵列层200上设置反射层400后，可在为微透镜阵列层200进行封装或安装等操作，从而方便了微透镜阵列膜地安装和使用。
25.进一步地，反射层400为涂覆于微透镜阵列层表面上的介质膜，介质膜至少设置有一层。
26.优选的，介质膜设置有一层，且该层介质膜为高折射率介质材料，高折射率介质材料的折射率大于1.9。高折射率介质材料选自硫化锌、硒化锌、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛中的任意一种。高折射率介质材料的厚度在5纳米
‑
30纳米或100纳米
‑
130纳米之间。在本实施例中，高折射率介质材料的厚度为21
‑
24纳米。
27.进一步地，微透镜阵列膜还包括封装层500，封装层500设置于反射层400上，封装层500用于实现微透镜阵列层200上远离微图文阵列层一侧的装配，封装层500的材质为uv胶或uv树脂或这其他树脂。
28.需要说明的是，作为优选，在微透镜阵列层200的微透镜表面，可通过气相涂覆方式涂覆一层硫化锌或氧化钛介质膜，优选的，此介质膜厚度21
‑
24纳米。相应的，用低折射率的树脂或uv胶进行封装。优选的，在封装材料后面涂覆一层黑色或与微图文颜色互补的材料，此材料亦可作粘接剂。
29.本实施例的工作原理大致如下述：微透镜阵列膜在成像时，通过在微透镜阵列层200涂覆反射层400，使得微图文在经过微透镜折射后由反射层400反射后的图像再次经过微透镜折射形成图像，进而使得用户能够在微图文阵列层300一侧对成像后的微图文进行查看，这样设置的微透镜阵列膜不仅能够两次使用微透镜进行折射，能够有效缩减微透镜阵列膜的厚度，而且能够实现微透镜阵列膜一侧的封装和安装，具有可封装、可安装，可在微图文侧查看微图文内容，微图文清晰，厚度更薄的优势。
30.基于上述方案，本实施例还提供一种微透镜阵列膜的制作方法，该方法制备微透镜阵列膜工艺简单，易实现批量生产，且制作的微透镜阵列膜能够实现封装。该制作方法包括以下步骤：
31.s1、取一基材100，并在基材100的一面模压阵列分布的微透镜，形成微透镜阵列层200；
32.s2、在基材100上与微透镜阵列层200所在面相对的面上模压阵列分布的微图文，形成微图文阵列层300，微图文阵列层300与微透镜阵列层200对应设置；
33.s3、在微透镜阵列层200的表面涂覆介质膜或镀金属层，以在微透镜阵列层200的表面形成反射层400；
34.s4、采用封装材料对微透镜阵列膜上的反射层400一侧进行封装，形成封装层500，
以便于微透镜阵列膜的安装。
35.优选地，步骤s1和步骤s2能够调换顺序，微透镜阵列周期在20微米
‑
120微米之间。在本实施例中，微透镜阵列周期为30
‑
50微米。
36.采用上述制作方法，通过涂覆的方式在微透镜阵列层200的表面涂覆介质层或者镀金属层作为反射层400，使得微图文在微透镜上所成像在反射层400形成反射，再次入射微透镜，最终从基材100上设置有微图文的一侧出射，进而在微图文阵列层300所在侧实现对微图文的查看，使得微透镜阵列膜能够实现封装与安装。这样的制作方法不仅制作工艺简单，而且成本低、性能强。
37.实施例2：
38.本实施例与实施例1的区别主要在于，在本实施例中，介质膜至少设置有两层，且分为高折射率介质材料和低折射率介质材料，介质膜的涂覆顺序为高折射率介质材料和低折射率介质材料交替，且靠近微透镜阵列层200表面一侧涂覆高折射率介质材料。低折射率介质材料的折射率小于1.45，高折射率介质材料的折射率大于1.9。
39.优选的，高折射率介质材料选自硫化锌、硒化锌、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛中的任意一种。低折射率介质材料选自氟化镁、氟化铝、氟化钡中的任意一种。
40.优选的，高折射率介质材料的厚度在5纳米
‑
30纳米或100纳米
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130纳米之间；低折射率介质材料的厚度在5纳米
‑
50纳米或170纳米
‑
230纳米之间。需要说明的是，作为优选，在微透镜阵列层200的微透镜表面，可通过气相涂覆方式先涂覆一层硫化锌介质膜，再涂覆一层氟化镁介质膜，优选的，硫化锌介质膜的厚度是21
‑
24纳米，氟化镁介质膜的厚度是25
‑
30纳米。优选的，在封装材料后面涂覆一层黑色或与微图文颜色互补的材料，此材料亦可作粘接剂。
41.实施例3：
42.本实施例与实施例1的区别主要在于，在本实施例中，反射层400为金属镀层，金属镀层为镀银层或镀铝层。
43.实施例4：
44.本实施例与实施例1的区别主要在于，如图2所示，在本实施例中，在微透镜阵列层200的微透镜表面，涂覆一层高折射率uv胶/树脂作封装作为反射层400，利用折射率差在微透镜表面形成反射层400。折射率差越大，反射效率越高。在该uv胶/树脂后面，优选的，用黑胶或微图文颜色的互补色胶水做粘接剂。
45.以上，仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，本领域普通技术人员对本实用新型的技术方案所做的其它修改或者等同替换，只要不脱离本实用新型技术方案的精神和范围，均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。