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一种对准系统及光刻机的制作方法

2021-09-28 22:43:00 来源:中国专利 TAG:光刻 对准 系统 技术

技术特征:
1.一种对准系统,其特征在于,包括:对准光束产生单元,用于产生对准光束;物镜;所述对准光束经过所述物镜后入射至对准标记上并产生一次衍射光;衍射光回射单元,位于所述物镜远离所述对准标记一侧,且设置于至少一路所述一次衍射光的出射光路上,用于将入射至所述衍射光回射单元的所述一次衍射光反射至所述对准标记上并产生二次衍射光;干涉信息探测单元,设置于所述一次衍射光以及所述二次衍射光的出射光路上,用于探测所述一次衍射光与所述二次衍射光的干涉光强度。2.根据权利要求1所述的对准系统,其特征在于,所述衍射光回射单元包括四分之一波片和反射镜,所述四分之一波片位于所述反射镜与所述物镜之间。3.根据权利要求1所述的对准系统,其特征在于,所述对准系统包括一个所述衍射光回射单元,所述衍射光回射单元位于所述物镜的光轴一侧。4.根据权利要求3所述的对准系统,其特征在于,所述对准系统包括两个所述干涉信息探测单元,分别为第一干涉信息探测单元和第二干涉信息探测单元;所述第一干涉信息探测单元的入射端位于所述物镜的光轴上,所述第二干涉信息探测单元与所述衍射光回射单元位于所述物镜的光轴的相对两侧。5.根据权利要求4所述的对准系统,其特征在于,所述第一干涉信息探测单元包括第一二分之一波片、第一偏振分光棱镜、第一探测器和第二探测器,所述第一二分之一波片位于所述第一偏振分光棱镜的入光面,所述第一探测器和所述第二探测器分别位于所述第一偏振分光棱镜的两个出光面。6.根据权利要求4所述的对准系统,其特征在于,所述第二干涉信息探测单元包括第二二分之一波片、第二偏振分光棱镜、第三探测器和第四探测器,所述第二二分之一波片位于所述第二偏振分光棱镜的入光面,所述第三探测器和所述第四探测器分别位于所述第二偏振分光棱镜的两个出光面。7.根据权利要求4所述的对准系统,其特征在于,所述第一干涉信息探测单元位于0级一次衍射光以及-1级一次衍射光激发的-1级二次衍射光的传播路径上;所述第二干涉信息探测单元位于 1级一次衍射光以及-1级一次衍射光激发的0级二次衍射光的传播路径上。8.根据权利要求1所述的对准系统,其特征在于,所述对准光束产生单元包括多个激光器和光合成器,任意两个所述激光器发射的激光光束的波长不同,所述光合成器位于所述多个激光器的出射光路上,用于将所述多个激光器出射的激光光束合并为一束;所述干涉信息探测单元还包括光分路器和探测器,所述光分路器位于所述探测器的接收光路上,用于将一束入射光按照波长分为多路光并分别出射至所述探测器的多个通道中。9.根据权利要求1所述的对准系统,其特征在于,还包括对准光束偏转单元,所述对准光束偏转单元位于所述对准光束产生单元的出射光路上,用于对所述对准光束产生单元产生的对准光束进行偏转,以使对准光束经过所述物镜后入射至所述对准标记上。10.一种光刻机,其特征在于,包括权利要求1-9任一项所述的对准系统。

技术总结
本发明实施例提供一种对准系统及光刻机,对准系统包括:对准光束产生单元,用于产生对准光束;物镜;所述对准光束经过所述物镜后入射至对准标记上并产生一次衍射光;衍射光回射单元,位于所述物镜远离所述对准标记一侧,且设置于至少一路所述一次衍射光的出射光路上,用于将入射至所述衍射光回射单元的所述一次衍射光反射至所述对准标记上并产生二次衍射光;干涉信息探测单元,设置于所述一次衍射光以及所述二次衍射光的出射光路上,用于探测所述一次衍射光与所述二次衍射光的干涉光强度。本发明实施例提供一种对准系统及光刻机,以实现降低了对准系统中光学器件的制造和集成难度,降低了成本。降低了成本。降低了成本。


技术研发人员:高安 孙建超
受保护的技术使用者:上海微电子装备(集团)股份有限公司
技术研发日:2020.03.26
技术公布日:2021/9/27
再多了解一些

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