一种半自动光刻机精密对位平台的制作方法

1.本实用新型主要涉及半导体生产领域，尤其涉及一种半自动光刻机精密对位平台。


背景技术：

2.在半导体制造的整个流程中，其中一部分就是从版图到晶圆 (wafer)制造中间的一个过程，即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分，是流程中造价最高的一部分，也是限制最小线宽的瓶颈之一。在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为光掩膜(mask)，其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。
3.目前制造的操作的时候是靠人工来对准上下mask，人工操作不能保证产品2的一致性和更高对准精度。


技术实现要素：

4.针对现有技术的上述缺陷，本实用新型提供一种半自动光刻机精密对位平台，包括上mask和下mask4，所述下mask4固定在下固定板3上，所述下固定板3固定安装在第二层uvw对位平台8上，所述第二层uvw对位平台8底部通过设置移动结构5固定在第一层uvw对位平台9上，所述第二层uvw对位平台8在第一层uvw对位平台9前后左右滑动，所述第一层uvw对位平台9底部通过设置移动结构5在底板上前后左右移动，所述下mask4的下方设有相机7，所述相机7 设有镜头，所述镜头直接对准下mask4设置。
5.优选的，所述第二层uvw对位平台8或第一层uvw对位平台9的底部设有3个移动结构5，2个移动结构5设置在第二层uvw对位平台8或第一层uvw对位平台9的一侧，第三个移动结构5设置在第二层uvw对位平台8或第一层uvw对位平台9的一侧，2个移动结构5 与第三个移动结构5分别设置在第二层uvw对位平台8或第一层uvw 对位平台9相邻的两侧，且2个移动结构5与第三个移动结构5的移动作用方向相垂直。
6.优选的，所述移动结构5包括电机501、滑动座502，固定座505、丝杆503，所述固定座505固定在第一层uvw对位平台9或底板上，所述滑动座502的底部固定在固定座505上，所述滑动座502的上端固定在第二层uvw对位平台8或第一层uvw对位平台9的底部，所述电机501的作用端连接丝杆503，所述滑动座502通过内螺纹固定在丝杆503，所述滑动座502通过丝杆503的旋转沿着固定座505上滑动。
7.优选的，所述滑动座502与第二层uvw对位平台或第一层uvw对位平台9通过导轨连接，所述导轨设置在滑动座502的上表面，导轨滑动方向与滑动座502沿着固定座505滑动方向相垂直。
8.优选的，所述滑动座502通过滑轨和滑块在固定座505上滑动。
9.优选的，所述上mask设置在上固定板1上。
10.本实用新型的有益效果：
11.本结构可以实现下mask与产品2进行对准，上下mask同时对准，可实现精密精准对位，保证产品2的精度，由以前的人工对准上下 mask,以及mask和产品2对位，转变为用相机抓取靶点，驱动马达自动对位，提高客户产品2的良率和精度。
附图说明
12.图1为本实用新型的立体结构图。
13.图2为本实用新型的右视图。
14.图3为本实用新型的俯视图。
15.图4为图3的a
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a面的剖视图。
具体实施方式
16.为了使本技术领域人员更好地理解本发明的技术方案，并使本发明的上述特征、目的以及优点更加清晰易懂，下面结合实施例对本发明做进一步的说明。实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。
17.如图1
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4所示可知，本实用新型包括有：
18.一种半自动光刻机精密对位平台，包括上mask和下mask4，所述下mask4固定在下固定板3上，所述下固定板3固定安装在第二层 uvw对位平台8上，所述第二层uvw对位平台8底部通过设置移动结构5固定在第一层uvw对位平台9上，所述第二层uvw对位平台8在第一层uvw对位平台9前后左右滑动，所述第一层uvw对位平台9底部通过设置移动结构5在底板上前后左右移动，所述下mask4的下方设有相机7，所述相机7设有镜头，所述镜头直接对准下mask4设置。
19.在使用中，安装下mask：人工取出下mask4按照下固定板3的指引线放好mask并吸上真空；上mask的安装：同下mask4一样把上 mask安装到上固定板1上并吸好真空；通过相机来抓取上下mask的靶点，第二层uvw对位平台8按照设定精度进行自动对位，达到设定的精度并保持；下mask和产品2进行对位，产品2固定不动，通过相机来抓取下mask和产品2上的靶点，第一层uvw对位平台9进行自动对位，完成后进行下一步曝光工序。
20.在本实施中优选的，所述第二层uvw对位平台8或第一层uvw对位平台9的底部设有3个移动结构5，2个移动结构5设置在第二层 uvw对位平台8或第一层uvw对位平台9的一侧，第三个移动结构5 设置在第二层uvw对位平台8或第一层uvw对位平台9的一侧，2个移动结构5与第三个移动结构5分别设置在第二层uvw对位平台8或第一层uvw对位平台9相邻的两侧，且2个移动结构5与第三个移动结构5的移动作用方向相垂直。
21.设置上述结构，移动结构5设置3个，使得第二层uvw对位平台 8或第一层uvw对位平台9可以前后左右滑动。
22.在本实施中优选的，所述移动结构5包括电机501、滑动座502，固定座505、丝杆503，所述固定座505固定在第一层uvw对位平台 9或底板上，所述滑动座502的底部固定在固定座505上，所述滑动座502的上端固定在第二层uvw对位平台8或第一层uvw对位平台9 的底部，所述电机501的作用端连接丝杆503，所述滑动座502通过内螺纹固定在丝杆503，所述滑动座502通过丝杆503的旋转沿着固定座505上滑动。
23.设置上述结构，移动结构5主要通过丝杆传动，节省空间。
24.在本实施中优选的，所述滑动座502与第二层uvw对位平台或第一层uvw对位平台9通过导轨连接，所述导轨设置在滑动座502的上表面，导轨滑动方向与滑动座502沿着固定座505滑动方向相垂直。
25.设置上述结构，此滑轨可以使得第二层uvw对位平台或第一层 uvw对位平台9在电机带动下移动，同时使得另一个方向的电机带动方向顺利进行。
26.在本实施中优选的，所述滑动座502通过滑轨和滑块在固定座 505上滑动。
27.在本实施中优选的，所述上mask设置在上固定板1上。
28.本结构可以实现下mask与产品2进行对准，上下mask自动同时对准，可实现精密精准对位，保证产品2的精度。
29.上述实施例仅例示性说明本专利申请的原理及其功效，而非用于限制本专利申请。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本专利申请的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本专利申请所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本专利请的权利要求所涵盖。


技术特征：
1.一种半自动光刻机精密对位平台，其特征在于，包括上mask和下mask(4)，所述下mask(4)固定在下固定板(3)上，所述下固定板(3)固定安装在第二层uvw对位平台(8)上，所述第二层uvw对位平台(8)底部通过设置移动结构(5)固定在第一层uvw对位平台(9)上，所述第二层uvw对位平台(8)在第一层uvw对位平台(9)前后左右滑动，所述第一层uvw对位平台(9)底部通过设置移动结构(5)在底板上前后左右移动，所述下mask(4)的下方设有相机(7)，所述相机(7)设有镜头，所述镜头直接对准下mask(4)设置。2.根据权利要求1所述的半自动光刻机精密对位平台，其特征在于：所述第二层uvw对位平台(8)或第一层uvw对位平台(9)的底部设有3个移动结构(5)，2个移动结构(5)设置在第二层uvw对位平台(8)或第一层uvw对位平台(9)的一侧，第三个移动结构(5)设置在第二层uvw对位平台(8)或第一层uvw对位平台(9)的一侧，(2)个移动结构(5)与第三个移动结构(5)分别设置在第二层uvw对位平台(8)或第一层uvw对位平台(9)相邻的两侧，且(2)个移动结构(5)与第三个移动结构(5)的移动作用方向相垂直。3.根据权利要求2所述的半自动光刻机精密对位平台，其特征在于：所述移动结构(5)包括电机(501)、滑动座(502)，固定座(505)、丝杆(503)，所述固定座(505)固定在第一层uvw对位平台(9) 或底板上，所述滑动座(502)的底部固定在固定座(505)上，所述滑动座(502)的上端固定在第二层uvw对位平台(8)或第一层uvw对位平台(9)的底部，所述电机(501)的作用端连接丝杆(503)，所述滑动座(502)通过内螺纹固定在丝杆(503)，所述滑动座(502)通过丝杆(503)的旋转沿着固定座(505)上滑动。4.根据权利要求3所述的半自动光刻机精密对位平台，其特征在于：所述滑动座(502)与第二层uvw对位平台或第一层uvw对位平台(9)通过导轨连接，所述导轨设置在滑动座(502)的上表面，导轨滑动方向与滑动座(502)沿着固定座(505)滑动方向相垂直。5.根据权利要求4所述的半自动光刻机精密对位平台，其特征在于：所述滑动座(502)通过滑轨和滑块在固定座(505)上滑动。6.根据权利要求5所述的半自动光刻机精密对位平台，其特征在于：所述上mask设置在上固定板(1)上。

技术总结
本实用新型提供一种半自动光刻机精密对位平台，包括上mask和下mask，所述下mask固定在下固定板上，所述下固定板固定安装在第二层UVW对位平台上，所述第二层UVW对位平台底部通过设置移动结构固定在第一层UVW对位平台上，所述第二层UVW对位平台在第一层UVW对位平台前后左右滑动，所述第一层UVW对位平台底部通过设置移动结构在底板上前后左右移动，所述下mask的下方设有相机，所述相机设有镜头，所述镜头直接对准下mask设置，本结构可以实现下MASK与产品进行对准，上下MASK同时对准，可实现精密精准对位，保证产品的精度，由以前的人工对准上下MASK,以及MASK和产品对位，转变为用相机抓取靶点，驱动马达自动对位，提高客户产品的良率和精度。产品的良率和精度。产品的良率和精度。


技术研发人员：石利
受保护的技术使用者：无锡旭电科技有限公司
技术研发日：2020.12.16
技术公布日：2021/9/24