支撑治具及清洗设备的制作方法

1.本实用新型涉及光罩清洗技术领域，尤其涉及一种支撑治具及清洗设备。


背景技术：

2.光罩，也叫光掩膜版，英文名字叫mask，是一种由石英为材料制成的，用在半导体光刻制程中的母版。
3.光罩在使用过程中由于受到微粒的粘附而出现脏污，在光刻时材料层上则无法形成正确的图案，影响半导体的制造良率，因此需要定期对光罩进行清洗。
4.相关技术中，对光罩进行清洗时，将光罩放置于治具上，治具放置于转盘上高速旋转，水花冲击到光罩表面后会向四周散开，散开的水花冲击到夹具边缘时会反溅回来，部分水花会再次落到光罩上，对光罩形成二次污染。


技术实现要素：

5.本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种支撑治具，能够提升光罩清洗时的良率。
6.本实用新型还提出一种具有上述支撑治具的清洗设备。
7.根据本实用新型的第一方面实施例的支撑治具，支撑治具，用于光罩清洗时承载光罩，包括载具本体，所述载具本体具有相对的上表面和下表面，所述载具本体的中部设有：第一通槽，所述第一通槽用于容纳所述光罩，且收容于所述第一通槽内的所述光罩的上表面高于所述载具本体的上表面；多个第二通槽，环绕设于所述第一通槽的外侧，至少部分所述第二通槽的截面积从所述上表面往所述下表面的方向逐渐增大；支撑部，用于支撑所述光罩，设于所述第一通槽的槽壁上并延伸至所述第一通槽内。
8.根据本实用新型实施例的支撑治具，至少具有如下有益效果：在第一通槽的外侧环绕设有多个第二通槽，且至少部分第二通槽的截面积从上表面往下表面的方向逐渐增大，即第二通槽的的至少部分槽壁从上表面的方向往下表面的方向是倾斜设置的，当光罩放置于支撑治具上进行清洗时，冲出的水花冲击到光罩上再被光罩散射至第二通槽的槽壁上时，水花从倾斜的槽壁上往支撑治具的下表面的方向滑落，避免反溅到光罩上，从而提升了清洗效果。
9.根据本实用新型的一些实施例，各所述第二通槽和所述第一通槽相贯通。
10.根据本实用新型的一些实施例，所述第二通槽的槽壁从所述上表面往所述下表面的方向依次包括第一侧壁和第二侧壁，所述第一侧壁呈竖直状，所述第二侧壁呈倾斜状。
11.根据本实用新型的一些实施例，所述第二侧壁倾斜的角度介于40
°‑
50
°
之间。
12.根据本实用新型的一些实施例，所述第一通槽的槽壁上设有多个相互独立的所述支撑部。
13.根据本实用新型的一些实施例，所述支撑部的顶角和所述载具本体的连接处设有避让孔。
14.根据本实用新型的一些实施例，所述支撑部上形成凸起，所述凸起用于支撑所述光罩。
15.根据本实用新型的一些实施例，所述凸起的截面呈弧形。
16.根据本实用新型的一些实施例，所述凸起的高度介于0.5
‑
1.5mm之间。
17.根据本实用新型的第二方面实施例的清洗设备，包括如上述的支撑治具
18.本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。
附图说明
19.下面结合附图和实施例对本实用新型做进一步的说明，其中：
20.图1为本实用新型实施例的支撑治具的上表面的结构示意图；
21.图2为图1中支撑治具的下表面的结构示意图；
22.图3为图1中的支撑治具的内侧壁的结构示意图；
23.图4为图3中i处的放大示意图；
24.图5为图3中a
‑
a处的剖面示意图。
25.附图标记：
26.支撑治具100；
27.载具本体110、上表面111、下表面112、第一通槽113、第二通槽114、支撑部115、凸起1151、槽壁116、第一侧壁1161、第二侧壁1162；
28.避让孔120；
29.光罩200。
具体实施方式
30.下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。
31.在本实用新型的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
32.在本实用新型的描述中，若干的含义是一个以上，多个的含义是两个以上，大于、小于、超过等理解为不包括本数，以上、以下、以内等理解为包括本数。如果有描述到第一、第二只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。
33.本实用新型的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属技术领域技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本实用新型中的具体含义。
34.本实用新型的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、
“
示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
35.请参阅图1至图5，为本实用新型一实施例提供的支撑治具100，用于光罩200清洗时支撑光罩200，包括载具本体110，载具本体110具由相对的上表面111和下表面112，载具本体110的中部设有第一通槽113、多个第二通槽114以及支撑部115。
36.请参阅图1至图3，第一通槽113用于容纳光罩200，且收容于第一通槽113内的光罩200的上表面高于载具本体110的上表面；多个第二通槽114环绕设于第一通槽113的外侧，至少部分第二通槽114的截面积从上表面往下表面的方向逐渐增大；支撑部115用于支撑光罩200，设于第一通槽113的槽壁上并延伸至第一通槽113内。
37.上述支撑治具100，在第一通槽113的外侧环绕设有多个第二通槽114，且至少部分第二通槽114的截面积从上表面111往下表面112的方向逐渐增大，即第二通槽114的至少部分槽壁从上表面111的方向往下表面112的方向是倾斜设置的，当光罩200放置于支撑治具100上进行清洗时，冲出的水花冲击到光罩200上再被光罩200散射至第二通槽114的槽壁上时，水花从倾斜的槽壁上往支撑治具100的下表面112的方向滑落，避免反溅到光罩200上，从而提升了清洗效果。
38.其中，本实施例中的光罩200放置于支撑治具100上时，光罩200的上表面高于支撑治具100的上表面140，从而避免了支撑治具100在处于高速旋转的状态下，散射至第二通槽114的槽壁的水花反溅回来至光罩200上，造成二次污染。
39.请参阅图1，在本实用新型的一个实施例中，多个第二通槽114等均均匀围绕于第一通槽113的外侧，各第二通槽114和第一通槽113相贯通，且至少部分的第一通槽113截面积从上表面111往下表面112的方向逐渐增大，即本实施例中的第二通槽114和第一通槽113具有共同的槽壁116。通过将第二通槽114和第一通槽113相贯通的设置方式，使光罩200的部分侧壁处于自由悬空的状态，减少与载具本体110的接触，避免被水流二次污染。
40.请参阅图3与图4，由于第二通槽114和第一通槽113具有共同的槽壁116，本实施例中的槽壁116从上表面111往下表面112的方向依次包括第一侧壁1161和第二侧壁1162，第一侧壁1161呈竖直状，第二侧壁1162呈倾斜状，从而使更多的散射至槽壁116上的水花往支撑治具100的下表面112的方向滑落。在本实用新型的其他实施例中，可以设置整个第二通槽114和第一通槽113的共有口径从上表面111往下表面112逐渐增大，即整个槽壁116均呈倾斜状，也能够达到散射至槽壁116上的水花往支撑治具100的下表面112的方向滑落的效果。
41.可以理解地，当整个槽壁116均处于倾斜状时，为了避免表面锋利的槽壁116割伤工作人员，在槽壁116与上下表面的交界处均可以设置倒角。
42.其中，水花在光罩200上的散射过程请参阅5，由于水花冲击出来时，落水点位于光罩200的正中心，此时水花的冲力大部分得到释放，当水花从光罩200上再散开至槽壁116上时，散开的水花具有的冲力较弱，因此形成了抛物线走势，从而冲击到槽壁116上时，冲击到槽壁116的下部分的呈倾斜的第二侧壁1162上，此时水花再次释放大部分冲力，最终水花再从倾斜的第二侧壁1162上往下表面112的方向滑落，避免了水花反溅至光罩200上形成污
染。其中，a1为从水龙头处冲出的水流，a2为经光罩200反射的水花散射路径。
43.其中，本实施例中的第二侧壁1162往下表面112的方向倾斜的角度介于40
°‑
50
°
之间。在本实用新型的一个实施例中，第二侧壁1162往下表面112倾斜的角度为45
°
，从而能够保证水花尽可能的不反溅至光罩200上，也便于治具100的加工生产。
44.请参阅图1与图3，在本实用新型的一个实施例中，槽壁116上设有多个相互独立的支撑部115，支撑部115延伸至第一通槽113内。具体地，每一个支撑部115设于第一通槽113的顶角处。通过设置多个独立的支撑部115的方式，减少与光罩200的重合面积，清洗时光罩200能够更多的接触水花而被冲洗干净。
45.在本实施例中，支撑部115呈方形，支撑于光罩200的角点。在其他实施例中，也可以设置其他形状的支撑部130，例如圆形、半圆形、梯形等形状。
46.可以理解地，为了避免治具100碰伤光罩200，在载具本体110上还设有避让孔120，避让孔120设于支撑部115的顶角与载具本体1100的连接处，从而避免将光罩200放置于治具100上时碰伤光罩200的顶点。
47.其中，本实施例中的避让孔122呈圆形并贯通治具100。在其他实施例中，也可以设置呈其他形状的避让孔122，例如半圆形、扇形灯形状。
48.请参阅图3与图4，在本实用新型的一个实施例中，支撑部115上形成凸起1151，凸起1151用于支撑光罩200。通过设置凸起1151，减少光罩200与支撑部115的接触面积，同时，使光罩200与支撑部115之间形成间隙，避免过多的水流粘附与光罩200上，同时避免光罩200与支撑部115之间形成有积水，也使光罩200在清洗之后能够更快的进行干燥。
49.在本实用新型的一个实施例中，凸起1151的截面呈弧形。具体地，呈半圆弧形。从而使凸起1151与光罩200之间从面接触变成点接触，便于水分从光罩200表面流走。在其他实施例中，也可以设置呈椭球型或者柱状的凸起1151，在此并不限定。
50.其中，本实施例中的凸起1151的高度介于0.5
‑
1.5mm之间，从而达到光罩200与支撑部115减少接触面积的效果，避免设置过高的凸起1151在支撑治具100高速旋转时将光罩200甩出，避免设置过低的凸起1151而使光罩200的表面不能高于治具100的上表面。
51.在本实用新型的一个具体的实施例中，凸起1151的高度为1.0mm，能够使光罩200在治具100内外均具有适宜的高度，从而能够避免光罩200被甩出，又能够达到良好的清洗效果。
52.其中，采用本实施例提供的治具100承载光罩200对光罩200进行清洗，光罩200的清洗良率至少能够达到80％。
53.上述支撑治具100，通过在支撑部115内设置凸起1151，减少光罩200与支撑部115的接触面积，避免光罩200与支撑部115的接触处积水，使光罩200在清洗之后能够得到更快的干燥。
54.本实用新型在其他实施例中还提供一种清洗设备，该清洗设备包括上述的支撑治具100。
55.上面结合附图对本实用新型实施例作了详细说明，但是本实用新型不限于上述实施例，在所属技术领域普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本实用新型宗旨的前提下作出各种变化。此外，在不冲突的情况下，本实用新型的实施例及实施例中的特征可以相互组合。