蒸镀设备的制作方法

技术特征：
1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括：壳体，具有蒸镀腔；加热设备，位于所述蒸镀腔内，所述加热设备包括蒸汽出口，所述加热设备用于加热材料形成蒸汽；承载结构，位于所述蒸镀腔内且位于所述加热设备的蒸汽流动路径上，所述承载结构用于承载晶圆；阻挡结构，包括承载件和位于所述承载件上的第一晶振片，蒸镀开始前，所述阻挡结构位于第一位置以遮挡所述蒸汽出口，且所述第一晶振片位于所述承载件的朝向所述加热设备的一侧，在通过所述第一晶振片检测到蒸镀处于稳定状态时，所述阻挡结构从所述第一位置转变为第二位置以避让所述蒸汽出口。2.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，在所述阻挡结构处于所述第一位置时，所述第一晶振片遮挡所述蒸汽出口。3.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述承载件包括第一安装件，所述第一晶振片安装在所述第一安装件上。4.如权利要求3所述的蒸镀设备，其特征在于，所述第一安装件为阶梯孔，所述阶梯孔朝所述承载结构的一侧的直径大于朝所述加热设备一侧的直径。5.如权利要求3所述的蒸镀设备，其特征在于，所述阻挡结构至少包括两个所述第一晶振片，所述承载件包括至少两个所述第一安装件，所述第一晶振片一一对应地安装在所述第一安装件上，通过至少两个所述第一晶振片检测所述蒸镀是否处于稳定状态。6.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述承载件还具有与所述第一晶振片间隔设置的通孔，在所述阻挡结构位于所述第二位置时，所述通孔位于所述蒸汽出口的所述蒸汽流动路径上，使得所述阻挡结构不遮挡所述蒸汽出口。7.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述阻挡结构位于所述第二位置时，所述阻挡结构在预定平面上的正投影与所述加热设备在所述预定平面上的正投影没有重合的区域，预定平面为垂直与所述加热设备的高度方向的平面。8.如权利要求1至7中任一项所述的蒸镀设备，其特征在于，所述阻挡结构还包括转轴，所述承载件与所述转轴连接并在所述转轴的带动下转动。9.如权利要求1至7中任一项所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备还包括第二晶振片，所述第二晶振片安装在所述承载结构上。10.如权利要求1至7中任一项所述的蒸镀设备，其特征在于，所述加热设备包括坩埚，所述蒸汽出口为所述坩埚的开口。

技术总结
本实用新型涉及一种蒸镀设备，该蒸镀设备包括壳体、加热设备、承载结构和阻挡结构，其中，壳体具有蒸镀腔；加热设备位于蒸镀腔内，加热设备包括蒸汽出口，加热设备用于加热材料形成蒸汽；承载结构位于蒸镀腔内且位于加热设备的一侧，承载结构用于承载晶圆；阻挡结构包括承载件和位于承载件上的第一晶振片，阻挡结构具有第一位置和第二位置，蒸镀开始前，阻挡结构位于第一位置以遮挡蒸汽出口，且第一晶振片位于承载件的朝向加热设备的一侧，在通过第一晶振片检测到蒸镀处于稳定状态时，阻挡结构从第一位置转变为第二位置以避让蒸汽出口。该蒸镀设备实现了蒸镀初期对蒸镀稳定情况的监控，保证了经阻挡结构避让后沉积到晶圆表面上的材料较为均匀。材料较为均匀。材料较为均匀。


技术研发人员：杨然翔 徐瑞林 陈旋宇 王怀超
受保护的技术使用者：重庆康佳光电技术研究院有限公司
技术研发日：2020.12.16
技术公布日：2021/10/8