用于激光诱导的材料分配的套件和系统的制作方法

技术特征：
1.一种用于材料加工的激光诱导的分配系统，所述激光诱导的分配系统包括：具有光纤的光纤束，所述光纤被配置成在所述光纤束的第一接口处接收来自激光源的激光束并从所述光纤束的第二接口处发射所述激光束，所述光纤具有布置在所述第一接口处的第一端和布置在所述第二接口处的第二端；光学器件，其被配置成将通过所述光纤从所述第二接口发射的所述激光束导向待沉积在基板上的材料，其中所述光学器件被配置成将所述激光束聚焦在所述待沉积的材料上，从而使所述待沉积的材料被释放到所述基板上，并且其中所述光纤的每一根被布置成使得具有与所述光纤中的另一根在所述第一接口处的第一端相邻的第一端的所有光纤具有与所述光纤中的所述另一根在所述第二接口处的第二端不相邻的第二端。2.根据权利要求1所述的激光诱导的分配系统，其进一步包括：打印头，所述打印头包含所述光学器件；并且其中所述激光源是设在所述打印头外部的外部激光源。3.根据权利要求1所述的激光诱导的分配系统，其中所述光纤的所述第一端以多边形配置布置在所述第一接口处，并且其中所述光纤的所述第二端以多边形配置布置在所述第二接口处。4.根据权利要求1所述的激光诱导的分配系统，其中所述光纤的所述第一端以圆形、椭圆形和卵形配置之一布置在所述第一接口处，并且其中所述光纤的所述第二端以多边形配置布置在所述第二接口处。5.根据权利要求4所述的激光诱导的分配系统，其进一步包括：光束扫描系统，所述光束扫描系统被配置成扫描来自所述激光源的所述激光束，以将从所述激光源输出的激光束选择性地耦合到外部透镜阵列的透镜元件上，所述外部透镜阵列通过将输出的所述激光束发射到所述光纤在所述第一接口处的所述第一端中，将输出的所述激光束耦合到相应光纤中。6.根据权利要求5所述的激光诱导的分配系统，其中所述光束扫描系统包括：电机；连接到所述电机的轴；以及上游反射镜，所述上游反射镜被安装在所述轴的端，以相对于所述轴的旋转轴呈一定角度定向，其中所述轴被配置成旋转以旋转所述反射镜，从而将输出的所述激光束按顺序聚焦到所述光纤在所述第一接口处的所述第一端中。7.根据权利要求6所述的激光诱导的分配系统，其进一步包括：所述光纤在所述第二接口处的所述第二端，所述第二端连接到对应光学喷嘴阵列，所述光学喷嘴阵列产生相应激光束焦点，所述激光束焦点被配置成聚焦在所述待沉积的材料上，并且其中所述光学喷嘴中的每一个包含相应下游聚焦元件，所述下游聚焦元件被配置成聚焦从所述光纤在所述第二接口处的所述第二端发射的相应激光束。8.根据权利要求7所述的激光诱导的分配系统，其进一步包括：打印头，所述打印头包含所述光学喷嘴阵列和耦合从所述第二接口发射的所述激光束的光耦合器；并且其中所述激光源是设在所述打印头外部的外部激光源。9.根据权利要求8所述的激光诱导的分配系统，其中所述外部激光器是脉冲激光器。10.根据权利要求7所述的激光诱导的分配系统，其中所述打印头由具有相应光学喷嘴阵列的多个单独的打印头限定。11.根据权利要求5所述的激光诱导的分配系统，其中所述电机以恒定速度旋转。
12.根据权利要求5所述的激光诱导的分配系统，其进一步包括：所述光纤在所述第二接口处的所述第二端，所述第二端连接到对应光学喷嘴阵列，所述光学喷嘴阵列产生相应激光束焦点，所述激光束焦点被配置成聚焦在所述待沉积的材料上。13.根据权利要求12的激光诱导的分配系统，其中所述光学喷嘴中的每一个包含相应下游聚焦元件，所述下游聚焦元件被配置成聚焦从所述光纤在所述第二接口处的所述第二端发射的相应激光束。14.根据权利要求12所述的激光诱导的分配系统，其中所述光学喷嘴阵列被配置成使得当输出的所述激光束耦合到所述光纤在所述第一接口处的所述第一端时，连续发射的激光束从所述光学喷嘴阵列中的非相邻光学喷嘴发射。15.根据权利要求5所述的激光诱导的分配系统，其中所述光束扫描系统的角速度(ω)满足等式：ω＝(d
·
f)/r，其中d是所述光纤中的每一根的直径；其中r是所述光纤束的半径；并且f是所述激光束的激光频率。16.根据权利要求1所述的激光诱导的分配系统，其中所述光纤是多模光纤。17.根据权利要求16所述的激光诱导的分配系统，其中所述光纤中的每一根具有至少25μm的内径以及至少65μm的包层直径。18.一种在收容基板上分配供体材料的方法，所述方法包括：输出来自激光源的激光束；提供具有光纤的光纤束，所述光纤在所述光纤束的第一接口处接收所述激光束并从所述光纤束的第二接口发射所述激光束，在所述第一接口处布置所述光纤的第一端并在所述第二接口处布置所述光纤的第二端；布置所述光纤中的每一根，使得具有与所述光纤中的另一根在所述第一接口处的第一端相邻的第一端的所有光纤具有与所述光纤中的所述另一根在所述第二接口处的第二端不相邻的第二端；以及提供光学器件，所述光学器件将通过所述光纤从所述第二接口发射的所述激光束导向待沉积在收容基板上的供体材料，所述光学器件将所述激光束聚焦在所述供体材料上，从而使所述供体材料的液滴被释放并沉积在所述收容基板上。19.根据权利要求18所述的方法，其进一步包括以预定强度将所述激光束聚焦在所述供体材料上，使得所述供体材料从所述聚焦的激光束吸收的能量使所述供体材料的所述液滴被释放。20.根据权利要求18所述的方法，其中所述供体材料的连续液滴中的每一滴以不相邻的顺序释放。21.根据权利要求18的方法，其中所述供体材料应用于具有透光层的箔片，其中所述激光束通过所述透光层聚焦到所述供体材料上，并且其中在所述聚焦的激光束中，连续发射的激光束中的每一个以不相邻的顺序从所述光纤的所述第二端发射，以使得所述液滴以所述不相邻的方式释放。22.根据权利要求18所述的方法，其进一步包括：将所述光纤的所述第一端以圆形、椭圆形和卵形配置之一布置在所述第一接口处，并将所述光纤的所述第二端以多边形配置布置在所述第二接口处。23.根据权利要求18所述的方法，其进一步包括：提供所述激光源，所述所述激光源是
输出所述激光束的光束扫描系统；并且所述光束扫描系统的角速度(ω)满足等式：ω＝(d
·
f)/r，其中d是所述光纤中的每一根的直径；其中r是所述光纤束的半径；并且f是所述激光束的激光频率。

技术总结
本申请涉及用于激光诱导的材料分配的套件和系统。公开了一种用于激光诱导的分配系统的材料供应套件。所述材料供应套件包括暗盒组合件，所述暗盒组合件具有用于供应箔片的供带盘和用于收取所述箔片的收带盘，所述箔片具有缠绕所述供带盘的透光层。所述材料供应套件还包括涂覆装置，其用于在所述箔片的移动过程中通过供体材料涂覆所述箔片。通过供体材料涂覆所述箔片。通过供体材料涂覆所述箔片。


技术研发人员：M
受保护的技术使用者：IO技术集团公司
技术研发日：2017.07.13
技术公布日：2021/9/24