结构光照明显微成像系统、方法与流程

1.本技术涉及结构光照明显微成像技术领域，特别是涉及一种结构光照明显微成像系统、方法。


背景技术：

2.结构光照明显微镜(英文：structured illumination microscopy，简称：sim)是一种采用周期性结构光图案照明样品以提升成像分辨率的超分辨技术。
3.当前sim系统通常需要通过干涉或者投影的方法产生周期性结构光照明样品，且其工作过程包括对光场的周期性调制、空间滤波、偏振控制以及与显微镜光路耦合等众多环节，而每个环节都需要基于特定的设备来完成，例如空间光调制器(英文：spatial light modulator，简称：slm)、数字微镜装置(英文：digital micromirror device，简称：dmd)等。
4.由于sim系统的结构复杂，导致其体积庞大，目前商用的nikon显微镜sim系统的尺寸为：550mm
×
300mm
×
350mm，无法适用于即时检测(英文：point
‑
of
‑
care testing，简称：poct)，导致sim系统不能得到较好的推广应用。


技术实现要素：

5.基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种结构光照明显微成像系统、方法。
6.本技术提供一种结构光照明显微成像系统，包括：
7.照明系统，用于出射光波信号到衍射光学系统上；
8.衍射光学系统，用于对接收到的光波信号进行调制，产生二维正弦周期性点阵光斑，并利用二维正弦周期性点阵光斑对目标样品进行扫描；
9.位移台，用于移动目标样品，以使二维正弦周期性点阵光斑对目标样品进行移相扫描；
10.显微成像系统，用于在位移台每次移动目标样品之后获取目标样品的扫描图像，并基于得到的多张扫描图像进行超分辨重构。
11.在其中一个实施例中，照明系统包括：
12.照明组件，用于出射光波信号；
13.准直扩束组件，用于对光波信号进行准直和扩束，以使光波信号的光斑尺寸适应衍射光学系统的接收面尺寸。
14.在其中一个实施例中，照明组件为激光器或者led发光器，也可以是其他非相干光源。
15.在其中一个实施例中，衍射光学系统包括衍射光学元件和照明物镜，其中：
16.衍射光学元件贴于照明物镜的入瞳位置或者位于照明物镜的入瞳位置的前方预设位置，且衍射光学元件的口径尺寸与照明物镜的入瞳尺寸适配，目标样品位于照明物镜的后焦面上；
17.衍射光学元件，用于对接收到的光波信号的光场分布进行调制；
18.照明物镜，用于配合衍射光学元件在照明物镜的后焦面上产生二维正弦周期性点阵光斑。
19.在其中一个实施例中，衍射光学元件为二元光学元件、全息光学元件、微纳光学元件、超构表面和空间光调制器中的任意一个或者任意组合。
20.在其中一个实施例中，系统还包括控制系统，
21.控制系统，用于控制位移台移动，以及控制显微成像系统获取目标样品的扫描图像。
22.在其中一个实施例中，显微成像系统包括：
23.成像物镜，用于对二维正弦周期性点阵光斑扫描的目标样品进行成像，得到初始图像；
24.荧光滤色片，用于对初始图像进行滤波处理；
25.镜筒透镜，用于对初始图像进行像差校正和放大率匹配；
26.图像传感器，用于获取目标样品的扫描图像，以及根据多张扫描图像进行超分辨重构。
27.在其中一个实施例中，二维正弦周期性点阵光斑为由一个平面内两个或多个不同方向的一维正弦分布图案通过相加或相乘所产生的点阵光斑。
28.在其中一个实施例中，二维正弦周期性点阵光斑的数学模型为：
[0029][0030]
或者，
[0031]
其中，为二维结构光图案光强分布，n为结构光照明图案的序号，在两种不同的图案下，n通常为[1,5]与[1,9]区间的整数，为空域内的位置矢量，分别为二维结构光图案在x、y方向周期所对应的空间频率，φ
xn
、φ
yn
分别为第n帧原始图像在x、y方向的相位参数。
[0032]
第二方面：
[0033]
本技术提供一种结构光照明显微成像方法，包括：
[0034]
利用衍射光学元件生成二维正弦周期性点阵光斑，二维正弦周期性点阵光斑成像于结构光照明显微镜成像系统的目标样品上；
[0035]
利用二维正弦周期性点阵光斑对目标样品进行移相扫描，得到多张扫描图像，根据多张扫描图像进行超分辨重构。
[0036]
本技术实施例提供的结构光照明显微成像系统、方法，具有结构简单、体积小、速度快、成像质量佳等优点。该结构光照明显微成像系统中，照明系统用于出射光波信号到衍射光学系统上，衍射光学系统用于对接收到的光波信号进行调制，产生二维正弦周期性点阵光斑，并利用二维正弦周期性点阵光斑对目标样品进行扫描。位移台用于移动目标样品，以使二维正弦周期性点阵光斑对目标样品进行移相扫描。显微成像系统用于在位移台每次移动目标样品之后获取目标样品的扫描图像，并基于得到的多张扫描图像进行超分辨重构。本技术实施例提供的结构光照明显微成像系统的照明光路相对简单，只需在照明光路
中加入衍射光学元件，或者通过成像系统将衍射光学元件成像在照明物镜入瞳或附近就可实现；简化了结构光照明显微成像系统的结构复杂度，降低了结构光照明显微成像系统的成本。
附图说明
[0037]
图1为本技术实施例提供的一种结构光照明显微成像系统的结构示意图；
[0038]
图2为本技术实施例提供的一种照明系统的示意图；
[0039]
图3为本技术实施例提供的一种衍射光学系统的示意图；
[0040]
图4为本技术实施例提供的一种显微成像系统的示意图；
[0041]
图5为本技术实施例提供的一种控制系统的示意图；
[0042]
图6为本技术实施例提供的一种衍射光学元件设计的基本流程图；
[0043]
图7为本技术实施例提供的二维正弦周期性点阵光斑的分布示意图；
[0044]
图8为二维正弦周期性点阵光斑照射至目标样品上的原始图像；
[0045]
图9为本技术实施例提供的结构光照明显微成像系统对微球成像的实验结果的示意图；
[0046]
图10为本技术实施例提供的结构光照明显微成像系统对细胞微管成像结果的示意图。
具体实施方式
[0047]
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。
[0048]
结构光照明显微镜(英文：structured illumination microscopy，简称：sim)是一种采用周期性结构光图案照明样品以提升成像分辨率的超分辨技术。
[0049]
通常显微镜成像可以视为对样品空间频谱的低通滤波过程，而代表样品细节的高频频谱在滤波过程中会丢失，因此会造成样品图像分辨率受到限制。
[0050]
现有技术中，结构光照明显微镜sim则通过在空域内使用周期性结构光图案照明样品，将原本光学成像系统无法传递的超分辨频谱信息频移进入系统可探测区域，混叠在原始图像的空间频谱中进行探测。后续只需要计算分离这些超分辨频谱，即可扩展样品空间频谱的范围，从而提升对应空域图像的分辨率。
[0051]
在实际应用中，由于结构光图案需要通过物镜生成，其空间频率同样受到衍射极限限制，因此通常最高能将空间频谱范围(直径)扩展1倍，即提升1倍成像分辨率，可见光波段的结构光照明显微镜的成像分辨率一般在100nm左右。由于sim超分辨成像所需采集原始图像很少，相比其他技术具备显著的成像速度优势，即便分辨率不如单分子定位超分辨显微技术(single molecule localization microscopy，smlm)与受激发射耗散(stimulated emission depletion，sted)显微镜，但sim依旧成为当今广泛应用的几种超分辨技术之一。
[0052]
目前，一种名为即时检测(英文：point
‑
of
‑
care testing，简称；poct)的应用需求在现代医学研究领域迅速增长。过去患者通常需要亲自前往大型医疗机构进行精密的医疗
检测或是对患者采样之后送往大型医疗机构进行精密的医疗检测，而poct的出现使得病人能够在社区或自己家中就近进行采样与检测，显著缩短了从采样到样品测试的间隔时间，避免长时间运输或环境变化带来的样本改变，影响检测结果。即时检测本身随时随地、广泛使用的特点，决定了使用的检测设备必须体积紧凑、便携、使用简单灵活、成本低廉。
[0053]
sim作为超分辨技术中最适合活体成像的技术之一，要想满足未来poct的应用需求，势必开展小型化研究。然而当前的sim是一套体积庞大、价格昂贵的显微系统，还远远无法满足poct应用对设备便携、成本降低的需求。其中根本原因在于，当前sim通常需要通过干涉或者投影的方法产生周期性结构光照明样品，系统中对光场的周期性调制、空间滤波、偏振控制以及与显微镜光路耦合等众多环节，使得sim系统体积庞大(目前商用的nikon显微镜sim系统的尺寸为：550mm
×
300mm
×
350mm)，其中用到的空间光调制器(英文：spatial light modulator，简称：slm)、数字微镜装置(英文：digital micromirror device，简称：dmd)等也都价格昂贵，给sim的进一步推广应用带来很多阻碍。
[0054]
本技术实施例提供一种基于衍射光学元件1021的结构光照明超分辨显微成像系统，可以缩小sim的体积，降低sim成本。
[0055]
请参见图1，图1为本技术实施例提供的一种结构光照明显微成像系统的结构示意图，该结构光照明显微成像系统包括照明系统101、衍射光学系统102、位移台(图中未示出)和显微成像系统103。
[0056]
其中，照明系统101用于出射光波信号到衍射光学系统102上。可选的，本技术实施例中，光波信号可以是准直波，可以是球面波，可以是高斯光束，或者是任意分布的照明光波。
[0057]
衍射光学系统102用于对接收到的光波信号进行调制，产生二维正弦周期性点阵光斑，并利用二维正弦周期性点阵光斑对目标样品进行扫描。
[0058]
位移台用于移动目标样品，以使二维正弦周期性点阵光斑对目标样品进行移相扫描。
[0059]
显微成像系统103用于在位移台每次移动目标样品之后获取目标样品的扫描图像，并基于得到的多张扫描图像进行超分辨重构。
[0060]
可选的，本技术提供的结构光照明显微成像系统中，由于位移台本身存在的反馈控制，在进行每一步移相扫描之后，需等待位移台一定的稳定时间，一般每次位移结束需要等待位移台稳定后再开始拍摄。实际使用中，为了简化控制流程，可以使用位移台的触发信号直接控制图像传感器拍摄，在位移台运动完成后立即开始样品图像的拍摄。
[0061]
可以理解的是，本发明的实施例中，使用照明系统101出射光波信号到衍射光学系统102，衍射光学系统102对光波信号进行调制，在空域产生二维正弦周期性点阵光斑作为结构光，并用该结构光(二维正弦周期性点阵光斑)照明目标样品，通过位移台对目标样品进行移动，实现移相探测并重构超分辨信息。显微成像系统103用于记录不同位置处的目标样品的样品信息，并进行超分辨重构。该方法的特点是利用衍射光学系统102生成二维正弦周期性点阵(阵列)光斑作为结构光照明，并且配合一台普通计算机进行数据处理即可实现，具有结构简单、体积小、速度快、成像质量佳等优点，适合用于即时检测的医学和生物的应用需求。
[0062]
本技术实施例提供的结构光照明显微成像系统结合了结构光照明显微镜超分辨
率的优点和衍射光学元件小型化的优势，具有结构简单、体积小、速度快、成像质量好等优点，为即时检测等应用需求提供了可能性；进一步的，基于衍射光学系统使用衍射的方法实现二维正弦周期性点阵光斑对目标样品的照明，提高了成像效率和能量利用率；本技术实施例提供的结构光照明显微成像系统的照明光路相对简单，只需在照明光路中加入衍射光学元件，或者通过成像系统将衍射光学元件成像在照明物镜入瞳或附近就可实现；简化了结构光照明显微成像系统的结构复杂度，降低了结构光照明显微成像系统的成本。
[0063]
在一个实施例中，本技术实施例还提供一种结构光照明显微成像方法，该方法应用于本技术实施例提供的结构光照明显微成像系统，该方法包括利用衍射光学元件生成二维正弦周期性点阵光斑，二维正弦周期性点阵光斑成像于结构光照明显微镜成像系统的目标样品上；利用二维正弦周期性点阵光斑对目标样品进行移相扫描，得到多张扫描图像，根据多张扫描图像进行超分辨重构。
[0064]
其中，光波信号依次经过照明系统、衍射光学系统，在衍射光学系统的照明物镜的后焦面上生成二维正弦周期性点阵光斑，即样品面生成二维正弦周期性点阵光斑照明目标样品。利用位移台对目标样品进行多步移相探测；目标样品的信息依次通过成像物镜、荧光滤色片、镜筒透镜和图像传感器后，经图像传感器处理不同位置处目标样品的扫描图像，重构出超分辨图像。
[0065]
在其中一个实施例中，如图2所示，照明系统101包括照明组件1011和准直扩束组件1012。
[0066]
其中，照明组件1011用于出射所述光波信号。本技术实施例中，光波信号可以是单色激光信号、led光信号和非相干光信号，光源可以为激光器、led发光器或者其他非相干光源。
[0067]
准直扩束组件1012用于对光波信号进行准直和扩束，以使光波信号的光斑尺寸适应衍射光学系统102的接收面尺寸。
[0068]
其中，准直扩束组件1012包括准直器和扩束器，其中，准直器用于将光源出射的光波变为准直光束，扩束器用于对光波信号进行扩束，扩大光源的口径。通过准直和扩束后可以得到预设尺寸的均匀光波。其中，预设尺寸为衍射光学系统102的接受面尺寸。
[0069]
准直和扩束之后的光波信号的光斑尺寸适应衍射光学系统102的接受面尺寸可以是指准直和扩束之后的光波信号的光斑尺寸与衍射光学系统102的接受面尺寸相等。也可以是指准直和扩束之后的光波信号的光斑能够全部照射到衍射光学系统102的接受面上。
[0070]
通过使光波信号的光斑尺寸适应衍射光学系统102的接收面尺寸可以最大化地将光波信号入射到衍射光学系统102中，可以提高显微成像系统的分辨率。
[0071]
在其中一个实施例中，如图3所示，衍射光学系统102包括衍射光学元件1021(英文：diffractive optical element,简称：doe)和照明物镜1022，其中：衍射光学元件1021可以贴于照明物镜1022的入瞳位置，也可以位于照明物镜1022的入瞳位置的前方预设位置，其中，前方预设位置是指到照明物镜1022的入瞳面的距离为预设距离的位置。且衍射光学元件1021的口径尺寸与照明物镜1022的入瞳尺寸适配，目标样品位于照明物镜1022的后焦面上。
[0072]
在实际应用中，若衍射光学元件1021的口径尺寸比照明物镜1022的入瞳尺寸大，就会导致形成的二维正弦周期性点阵光斑发生变形，影响超分辨重构效果。若衍射光学元
件1021的口径尺寸比照明物镜1022的入瞳尺寸小，会导致显微成像系统的分辨率下降。而衍射光学元件1021的口径尺寸与照明物镜1022的入瞳尺寸相等，可以达到最佳分辨率效果。
[0073]
衍射光学元件1021用于对接收到的光波信号的光场分布进行调制。
[0074]
照明物镜1022用于配合衍射光学元件1021在照明物镜1022的后焦面上产生二维正弦周期性点阵光斑。
[0075]
可选的，衍射光学元件1021可以是二元光学元件，也可以是全息光学元件、微纳光学元件、超构表面(英文：metasurface)和空间光调制器等实现光场相位调制和/或振幅调制的各类元件之一或组合。
[0076]
可选的，本技术实施例中，衍射光学元件1021可用于调节照明物镜1022后焦面的二维正弦周期性点阵光斑的周期、数目等要素。
[0077]
可选的，二维正弦周期性点阵光斑可以是一个平面内两个或多个不同方向的一维正弦分布图案通过相加或相乘所产生的点阵光斑。
[0078]
需要说明的是，准直扩束组件用于对光波信号进行准直和扩束，以使光波信号的光斑尺寸适应衍射光学系统102的接收面尺寸，其实质是使光波信号的光斑尺寸适应衍射光学元件1021的接收面尺寸。
[0079]
可以理解的是，衍射光学元件1021可以对准直和扩束后的光波信号的光场分布进行调制，从而使得调制后在空域内形成特定的光斑图形，即二维正弦周期性点阵光斑。其中，照明物镜1022用于配合衍射光学元件1021在照明物镜1022的后焦面上呈现该二维正弦周期性点阵光斑。其中，目标样品位于照明物镜1022的后焦面上，这样二维正弦周期性点阵光斑恰好可以照射到目标样品上，从而实现对目标样品进行扫描的目的。
[0080]
本技术实施例中，通过衍射光学系统102产生二维正弦周期性点阵光斑，并用二维正弦周期性点阵光斑扫描目标样品，从而能够获取到目标样品上的更多信息。
[0081]
在其中一个实施例中，如图4所示，显微成像系统103包括成像物镜1031、荧光滤色片1032、镜筒透镜1033和图像传感器1034，其中：
[0082]
成像物镜1031用于对二维正弦周期性点阵光斑扫描的目标样品进行成像，得到初始图像。荧光滤色片1032用于对初始图像进行滤波处理。镜筒透镜1033用于对初始图像进行像差校正和放大率匹配。图像传感器1034用于获取目标样品的扫描图像，以及根据多张扫描图像进行超分辨重构。
[0083]
可选的，本技术实施例中，图像传感器1034包括数据处理模块，数据处理模块可以对处于不同位置处的目标样品的扫描图像进行处理，重构出超分辨图像。
[0084]
可以理解的是，成像物镜1031对二维正弦周期性点阵光斑照明的目标样品进行成像；荧光滤色片1032可以提高显微成像系统的信噪比，使激发波段荧光信号增强，同时使不必要的辐射最小；镜筒透镜1033用于匹配和校正显微成像系统的放大率和像差；图像传感器1034用于获取二维正弦周期性点阵光斑照明下目标样品的信息。
[0085]
可选的，图像传感器可以是cmos(英文：complementary metal oxide semiconductor,中文：互补金属氧化物半导体晶体管)、scmos(英文：science complementary metal oxide semiconductor,中文：科研型互补金属氧化物半导体晶体管)、ccd(英文：charge
‑
coupled device,中文：电荷耦合器件)和emccd(英文：electron
‑
multiplying charge
‑
coupled device,中文：电子倍增电荷耦合器件)等实现图像信息采集的各类器件。
[0086]
在其中一个实施例中，如图5所示，本技术实施例提供的结构光照明显微成像系统还包括控制系统105，控制系统105用于控制位移台104移动，以及控制显微成像系统103获取目标样品的扫描图像。
[0087]
可选的，控制系统还可以与照明系统101和衍射光学系统102连接，控制照明系统101和衍射光学系统102启动，其中，照明系统101和衍射光学系统102启动之后，照明系统101出射光波信号到衍射光学元件上，衍射光学元件对光波信号进行调制后在照明物镜的后焦面上形成二维正弦周期性点阵光斑，于此同时，控制系统控制位移台104移动，在每次移动之后，控制显微成像系统103获取目标样品的扫描图像，从而获取到多张扫描图像，然后基于多张扫描图像进行超分辨重构。
[0088]
可以理解的是，从结构光照明显微成像的原理可知，二维结构光照明条纹的空间频率是决定结构光照明显微成像系统分辨率提升的主要因素。只要采用符合要求的二维结构光图案进行样品照明，结构光照明显微镜就能实现相应的线性/非线性超分辨成像。因此准确生成所需的二维结构光照明图案对于超分辨显微成像至关重要。
[0089]
本技术实施例提供的结构光照明显微成像系统中，二维结构光照明图案即为二维正弦周期性点阵光斑。下面对本技术设计二维正弦周期性点阵光斑的过程进行说明：
[0090]
本技术实施例中，二维正弦周期性点阵光斑的数学模型包括以下两种类型，分别为：
[0091][0092]
和，
[0093]
其中，为二维正弦周期性点阵光斑的光强分布，n为二维正弦周期性点阵光斑的序号，在两种不同的图案下，n通常为[1,5]与[1,9]区间的整数，为空域内的位置矢量，分别为二维正弦周期性点阵光斑在x、y方向周期所对应的空间频率，φ
xn
、φ
yn
分别为第n帧原始图像在x、y方向的相位参数。
[0094][0095][0096]
其中，分别为二维正弦周期性点阵光斑的空间频谱，为空间频域内的频率矢量，δ为狄拉克脉冲函数。
[0097]
在平面波入射下，衍射光学元件doe的透过率函数与物镜焦平面(即样品平面)的夫琅禾费衍射场呈傅里叶变换的关系。此时，如何设计doe的相位分布，使衍射场的光强分布呈一定空间频率的二维正弦周期性点阵光斑是核心问题。对于给定的目标衍射场分布，doe的相位可以使用迭代傅里叶变换算法(英文：iterative fourier transform algorithm，简称：ifta)进行设计。如图6所示，主要步骤包括：
[0098]
1、将初始等振幅相位场赋予doe平面：
[0099][0100]
其中i为迭代次数，为doe平面内光场的振幅分布，为doe平面内光场的相位分布。
[0101]
2、经傅里叶变换，计算样品平面衍射场分布：
[0102][0103]
其中τ
(i)
(x)为物镜后焦面(即样品平面)的振幅分布，ψ
(i)
(x)为相位分布。
[0104]
3、在样品平面内，使用目标衍射场(二维结构光照明图案)的振幅分布替换样品平面的振幅分布，相位分布保持不变，获得新的光场：
[0105][0106]
4、经傅里叶逆变换，计算doe平面光场分布：
[0107][0108]
5、将doe平面的光场振幅分布重新置为均匀振幅分布。
[0109]
迭代重复步骤2
‑
5。doe平面处的光场振幅分布将收敛为近似的均匀分布，而样品平面光场的振幅分布τ
(i)
(x)则收敛到目标衍射场(二维结构光照明图案)的振幅分布。此时doe平面的相位分布即为所需设计的doe相位，通过衍射可生成所需的二维正弦周期性点阵光斑。
[0110]
下面结合实例来对本技术提供的结构光照明显微成像系统的性能进行说明。
[0111]
本技术实施例中，可以采用488nm激光通过准直扩束组件生成宽口径的准直光，经安装在照明物镜入瞳或附近的衍射光学元件doe调制，入射照明物镜，在照明物镜后焦面上生成设计的二维结构光照明图案，即二维正弦周期性点阵光斑。
[0112]
其中，衍射光学元件doe及其衍射生成的二维正弦周期性点阵光斑如图7所示。图7中，(a)表示衍射光学元件的相位分布，(b)表示二维正弦周期性点阵光斑的光强分布，(c)和(b)表示水平划线位置光强曲线，(d)和(b)表示竖直划线位置光强曲线。
[0113]
目标样品经过二维正弦周期性点阵光斑照明之后，相应图像被成像物镜成像并被图像传感器采集，如图8所示。使用位移台对目标样品进行移相扫描，拍摄不同位置目标样品的原始图像。通过这样的方式，本技术实施例提供的结构光照明显微成像系统具备sim满足超分辨成像必须的两大要素：对目标样品的二维正弦周期性点阵光斑照明以及二维正弦周期性点阵光斑的移相探测。
[0114]
本技术实施例中，根据照明物镜的不同以及衍射光学元件的设计，产生的二维正弦周期性点阵光斑相应发生变化，最大空间频率约为照明物镜1022决定的衍射极限分辨率对应的空间频率的2倍。将位移台移相扫描步距设置为照明图案周期约三分之一的大小，使得移相扫描能在二维照明图案两个或多个方向的一个周期内实现相对均匀的采样，以保证重构结果在整个视场获得均匀的分辨率提升效果。进一步进行迭代重构可提高样品超分辨显微成像质量。
[0115]
如图9所示，其为基于衍射光学元件的结构光照明超分辨显微成像系统对荧光微球成像结果。图9中(a)表示宽场照明下微球的成像结果。(b)表示衍射光学元件调制生成的二维正弦周期性点阵光斑照明下的超分辨结果。(c)表示在划线选定的位置，宽场图像与超分辨图像的光强曲线。通过图9可以直观地看到超分辨图像相比宽场图像分辨率具有显著的提升。其中，(a)和(b)的局部放大图像显示，原本宽场图像中无法分辨的相邻微球在结构光照明超分辨显微成像系统图像中已经能够分辨开来。取划线位置光强曲线进行分析如(c)所示，经拟合，两微球的中心间距为567nm，已经超越理论的衍射极限分辨率990nm。
[0116]
进一步的，为验证本技术实施例提供的结构光照明显微成像系统的生物成像能力，对a549细胞的固定细胞样片进行了成像实验，其中，a549细胞腺癌人类肺泡基底上皮细胞，是研究ii型肺上皮细胞模型在药物代谢中常用的样品。其中，对细胞微管使用染料进行标记，实验结果如图10所示。其中，图10中(a)表示细胞微管的宽场结果、局部放大结果(右下)和宽场成像的空间频谱(右上)。(b)表示衍射光学元件1021调制生成的二维正弦周期性点阵照明下细胞微管的超分辨结果、局部放大结果(右下)和超分辨成像的空间频谱(右上)。(c)表示在划线选定的位置，宽场图像与超分辨图像的光强曲线。细胞微管宽场图像与超分辨图像的对比同样展示了显著的分辨率提升效果，视场内能找到大量分辨率提升的证据，如(a)和(b)所示，局部放大的区域中，宽场图像观察到的细胞微管模糊一片，无法分辨微管结构，而超分辨图像展示出了清晰的微管结构。此外，超分辨图像的空间频谱相比宽场图像也获得了明显的扩展，这同样能证明系统成像分辨率已经超越衍射极限。选取划线位置对比宽场图像与超分辨图像的光强曲线，如(c)所示，在宽场图像中，两条接近的细胞微管无法分辨，而超分辨图像中则能够成功分辨。经数据拟合，两微管中心相距约419nm，小于荧光波长对应的衍射极限625nm，实现了超分辨成像。
[0117]
以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
[0118]
以上所述实施例仅表达了本技术的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本技术的保护范围。因此，本技术专利的保护范围应以所附权利要求为准。