多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线的制作方法

技术特征：
1.一种多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，其特征在于，包括：第一镀膜生产线，适于对载具上的第一基材镀膜；第二镀膜生产线，适于对所述载具上的第一基材二次镀膜加厚，或者对所述载具上的第二基材镀膜，所述第二镀膜生产线与所述第一镀膜生产线平行布置，所述第一基材和第二基材设在所述载具上相背对的两个面上；衔接设备，所述衔接设备包括衔接真空箱及设在衔接真空箱内的旋转平移机构，所述衔接真空箱衔接在所述第一镀膜生产线的末端和所述第二镀膜生产线的起始端之间，所述旋转平移机构设在衔接真空箱内且可驱动所述载具平移进入所述第二镀膜生产线的起始端，或者驱动所述载具旋转180
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进入至所述第二镀膜生产线的起始端；当所述载具平移进入至所述第二镀膜生产线的起始端时，通过所述第二镀膜生产线对所述载具上的第一基材二次镀膜加厚，当所述载具旋转180
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进入至所述第二镀膜生产线的起始端时，通过所述第二镀膜生产线对所述载具上的第二基材镀膜。2.根据权利要求1所述的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，其特征在于，所述第一镀膜生产线和第二镀膜生产线中的每一个均包括：第一镀膜单元，所述第一镀膜单元包括第一真空箱、第一镀膜机组及第二镀膜机组，所述第一真空箱包括第一真空室及第二真空室，所述第二真空室与所述第一真空室相连通；所述第一镀膜机组组配置在所述第一真空室内，用以在进入至所述第一镀膜真空室内的基材上镀设打底层；所述第二镀膜机组配置在所述第二真空室内，用以在所述打底层上镀设第一光学增亮层；第二镀膜单元，所述第二镀膜单元包括第二真空箱及第三镀膜机组，所述第二真空箱与所述第一真空箱的所述第二真空室连通，所述第三镀膜机组配置在所述第二真空箱内，用以在所述第一光学增亮层镀设第二光学增亮层，所述第二光学增亮层的折射率不同；第三镀膜单元，所述第三镀膜单元包括第三真空箱及第四镀膜机组，所述第三真空箱包括第三真空室，所述第四镀膜机组配置在所述第三真空室内，用以在所述第二光学增亮层上镀设非导电金属增亮层以及在所述非导电金属增亮层上镀设保护层；气氛隔离箱，所述气氛隔离箱连接在所述第二真空箱和第三真空箱之间，且所述气氛隔离箱与所述第二真空箱之间具有可启闭的第一隔离门，所述气氛隔离箱与所述第三镀膜真空箱之间具有可启闭的第二隔离门；其中，所述第一镀膜生产线中的所述第一镀膜单元、第二镀膜单元、气氛隔离箱及第三镀膜单元沿第一方向依次布置，所述第二镀膜生产线中的所述第一镀膜单元、第二镀膜单元、气氛隔离箱及第三镀膜单元沿第二方向依次布置，所述第二方向与所述第一方向互为反方向；所述衔接真空箱连接在所述第一镀膜生产线的所述第三真空箱和第二镀膜生产线的第一真空箱之间。3.根据权利要求2所述的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，其特征在于，还包括：进料真空箱，所述进料真空箱的入口设有可启闭的第三隔离门；进料缓冲箱，所述进料缓冲箱的入口与所述进料真空箱的出口连通，且所述进料缓冲箱的入口与所述进料真空箱的出口之间设有可启闭的第四隔离门，所述进料缓冲箱的出口与所述第一镀膜生产线的所述第一真空箱连通，且所述进料缓冲箱的出口与所述第一镀膜生产线的所述第一真空箱之间设有可启闭的第五隔离门。
4.根据权利要求3所述的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，其特征在于，还包括：出料真空箱，所述出料真空箱的出口设有可启闭的第六隔离门；出料缓冲箱，所述出料缓冲箱的出口与所述出料真空箱的入口连通，且所述出料缓冲箱的出口与所述出料真空箱的入口之间设有可启闭的第七隔离门，所述出料缓冲箱的入口与所述第二镀膜生产线的所述第三真空箱连通，且所述出料缓冲箱的入口与所述第二镀膜生产线的所述第三真空箱之间设有可启闭的第八隔离门。5.根据权利要求4所述的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，其特征在于，所述第一真空箱还包括高低速转换室，所述第三真空箱还包括低高速转换室；其中，所述第一镀膜生产线的高低速转换室位于所述进料缓冲箱的出口和所述第一真空室之间，用以将所述载具由高速传送降低为低速传送，所述第一镀膜生产线的低高速转换室位于所述第三真空室和所述衔接真空箱之间，用以所述载具由低速传送升高为高速传送；所述第二镀膜生产线的高低速转换室位于所述衔接真空箱和所述第一真空室之间，用以所述载具由高速传送降低为低速传送；所述第二镀膜生产线的低高速转换室位于所述第三真空室和所述出料缓冲箱的入口之间，用以将所述载具由低速传送降低为高速传送。6.根据权利要求2所述的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，其特征在于，所述打底层包括第一打底层及第二打底层，所述第一打底层为氧化锆，所述第二打底层为氧化钛或氧化铌；所述第一镀膜机组包括至少两个第一镀膜设备，至少两个所述第一镀膜设备中的一个用于在所述基材上镀设所述第一打底层，至少两个所述第一镀膜设备中的另一个用于在所述第一打底层上镀设所述第二打底层。7.根据权利要求2所述的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，其特征在于，所述非导电金属增亮层包括过渡层及金属增亮层，所述过渡层为硅或二氧化硅，所述金属增亮层为铟或铟锡；所述第四镀膜机组包括至少两个第四镀膜设备，至少两个所述第四镀膜设备中的一个用于在所述第二光学增亮层上镀设所述过渡层，至少两个所述第四镀膜设备中的另一个用于在所述过渡层上镀设所述金属增亮层。8.根据权利要求4所述的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，其特征在于，还包括：辉光放电设备，所述辉光放电设备设在所述进料真空箱内，用于对进入至所述进料真空箱内的第一基材和/或第二基材进行放电轰击。9.根据权利要求2所述的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，其特征在于，还包括阳极层离子轰击设备，所述阳极层离子轰击设备设在所述第一真空室内，用以对第一基材和/或第二基材进行离子轰击，以活化所述第一基材和/或第二基材表面。10.根据权利要求2所述的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，其特征在于，所述第一光学增亮层为氧化铌，所述第二光学增亮层为二氧化硅，所述保护层为氧化钛或氧化铌。

技术总结
本实用新型公开了一种多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，包括第一镀膜生产线、第二镀膜生产线及衔接设备，其中，衔接设备包括衔接真空箱及设在衔接真空箱内的旋转平移机构，衔接真空箱衔接在第一镀膜生产线的末端和所述第二镀膜生产线的起始端之间，旋转平移机构设在衔接真空箱内且可驱动载具平移进入所述第二镀膜生产线的起始端，或者驱动所述载具旋转180


技术研发人员：王建峰
受保护的技术使用者：深圳市嘉德真空光电有限公司
技术研发日：2020.12.31
技术公布日：2021/10/8