多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线的制作方法

1.本实用新型涉及镀膜加工技术领域，尤其涉及一种多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线。


背景技术：

2.电子设备，已经成为人们随身携带的必需品，随着技术的发展，人们追求电子设备性能的同时，也越来越在意电子设备的外观。近年来，酷炫靓丽的外观逐渐成为商家的卖点之一，例如电子设备的背面具有绚丽图案和色彩，不同的图案色彩，可以定义出各个不同图案版本，例如幻影、极光、冰岛、星空等版本，以供消费者选择。
3.电子设备外壳的膜层通常为多层结构，需要连续镀膜成型，相关技术中，对于这种多层膜结构的电子设备外壳连续镀膜，镀膜加工难度大，效率低。


技术实现要素：

4.本实用新型旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本实用新型的目的在于提出一种多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线。
5.为实现上述目的，根据本实用新型实施例的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，包括：
6.第一镀膜生产线，适于对载具上的第一基材镀膜；
7.第二镀膜生产线，适于对所述载具上的第一基材二次镀膜加厚，或者对所述载具上的第二基材镀膜，所述第二镀膜生产线与所述第一镀膜生产线平行布置，所述第一基材和第二基材设在所述载具上相背对的两个面上；
8.衔接设备，所述衔接设备包括衔接真空箱及设在衔接真空箱内的旋转平移机构，所述衔接真空箱衔接在所述第一镀膜生产线的末端和所述第二镀膜生产线的起始端之间，所述旋转平移机构设在衔接真空箱内且可驱动所述载具平移进入所述第二镀膜生产线的起始端，或者驱动所述载具旋转180
°
进入至所述第二镀膜生产线的起始端；
9.当所述载具平移进入至所述第二镀膜生产线的起始端时，通过所述第二镀膜生产线对所述载具上的第一基材二次镀膜加厚，当所述载具旋转180
°
进入至所述第二镀膜生产线的起始端时，通过所述第二镀膜生产线对所述载具上的第二基材镀膜。
10.根据本实用新型实施例提供的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，具有平行布置的第一镀膜生产线和第二镀膜生产线，第一镀膜生产线的末端和第二镀膜生产线的起始端之间通过衔接设备衔接，衔接设备包括旋转平移机构，当旋转平移机构驱动载具平移进入至第二镀膜生产线的起始端时，可以通过第二镀膜生产线对载具上的第一基材二次镀膜加厚，当旋转平移机构驱动载具旋转180
°
进入至第二镀膜生产线的起始端时，通过第二镀膜生产线对载具上的第二基材镀膜，如此，该多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线可以实现在基材上二次镀膜加厚，或者对两个基材进行镀膜，显著提高产能及效率。
11.另外，根据本实用新型上述实施例的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线还可以
具有如下附加的技术特征：
12.根据本实用新型的一个实施例，所述第一镀膜生产线和第二镀膜生产线中的每一个均包括：
13.第一镀膜单元，所述第一镀膜单元包括第一真空箱、第一镀膜机组及第二镀膜机组，所述第一真空箱包括第一真空室及第二真空室，所述第二真空室与所述第一真空室相连通；所述第一镀膜机组组配置在所述第一真空室内，用以在进入至所述第一镀膜真空室内的基材上镀设打底层；所述第二镀膜机组配置在所述第二真空室内，用以在所述打底层上镀设第一光学增亮层；
14.第二镀膜单元，所述第二镀膜单元包括第二真空箱及第三镀膜机组，所述第二真空箱与所述第一真空箱的所述第二真空室连通，所述第三镀膜机组配置在所述第二真空箱内，用以在所述第一光学增亮层镀设第二光学增亮层，所述第二光学增亮层的折射率不同；
15.第三镀膜单元，所述第三镀膜单元包括第三真空箱及第四镀膜机组，所述第三真空箱包括第三真空室，所述第四镀膜机组配置在所述第三真空室内，用以在所述第二光学增亮层上镀设非导电金属增亮层以及在所述非导电金属增亮层上镀设保护层；
16.气氛隔离箱，所述气氛隔离箱连接在所述第二真空箱和第三真空箱之间，且所述气氛隔离箱与所述第二真空箱之间具有可启闭的第一隔离门，所述气氛隔离箱与所述第三镀膜真空箱之间具有可启闭的第二隔离门；
17.其中，所述第一镀膜生产线中的所述第一镀膜单元、第二镀膜单元、气氛隔离箱及第三镀膜单元沿第一方向依次布置，所述第二镀膜生产线中的所述第一镀膜单元、第二镀膜单元、气氛隔离箱及第三镀膜单元沿第二方向依次布置，所述第二方向与所述第一方向互为反方向；所述衔接真空箱连接在所述第一镀膜生产线的所述第三真空箱和第二镀膜生产线的第一真空箱之间。
18.根据本实用新型的一个实施例，还包括：
19.进料真空箱，所述进料真空箱的入口设有可启闭的第三隔离门；
20.进料缓冲箱，所述进料缓冲箱的入口与所述进料真空箱的出口连通，且所述进料缓冲箱的入口与所述进料真空箱的出口之间设有可启闭的第四隔离门，所述进料缓冲箱的出口与所述第一镀膜生产线的所述第一真空箱连通，且所述进料缓冲箱的出口与所述第一镀膜生产线的所述第一真空箱之间设有可启闭的第五隔离门。
21.根据本实用新型的一个实施例，还包括：
22.出料真空箱，所述出料真空箱的出口设有可启闭的第六隔离门；
23.出料缓冲箱，所述出料缓冲箱的出口与所述出料真空箱的入口连通，且所述出料缓冲箱的出口与所述出料真空箱的入口之间设有可启闭的第七隔离门，所述出料缓冲箱的入口与所述第二镀膜生产线的所述第三真空箱连通，且所述出料缓冲箱的入口与所述第二镀膜生产线的所述第三真空箱之间设有可启闭的第八隔离门。
24.根据本实用新型的一个实施例，所述第一真空箱还包括高低速转换室，所述第三真空箱还包括低高速转换室；
25.其中，所述第一镀膜生产线的高低速转换室位于所述进料缓冲箱的出口和所述第一真空室之间，用以将所述载具由高速传送降低为低速传送，所述第一镀膜生产线的低高速转换室位于所述第三真空室和所述衔接真空箱之间，用以所述载具由低速传送升高为高
速传送；
26.所述第二镀膜生产线的高低速转换室位于所述衔接真空箱和所述第一真空室之间，用以所述载具由高速传送降低为低速传送；所述第二镀膜生产线的低高速转换室位于所述第三真空室和所述出料缓冲箱的入口之间，用以将所述载具由低速传送降低为高速传送。
27.根据本实用新型的一个实施例，所述打底层包括第一打底层及第二打底层，所述第一打底层为氧化锆，所述第二打底层为氧化钛或氧化铌；
28.所述第一镀膜机组包括至少两个第一镀膜设备，至少两个所述第一镀膜设备中的一个用于在所述基材上镀设所述第一打底层，至少两个所述第一镀膜设备中的另一个用于在所述第一打底层上镀设所述第二打底层。
29.根据本实用新型的一个实施例，所述非导电金属增亮层包括过渡层及金属增亮层，所述过渡层为硅或二氧化硅，所述金属增亮层为铟或铟锡；
30.所述第四镀膜机组包括至少两个第四镀膜设备，至少两个所述第四镀膜设备中的一个用于在所述第二光学增亮层上镀设所述过渡层，至少两个所述第四镀膜设备中的另一个用于在所述过渡层上镀设所述金属增亮层。
31.根据本实用新型的一个实施例，还包括：
32.辉光放电设备，所述辉光放电设备设在所述进料真空箱内，用于对进入至所述进料真空箱内的第一基材和/或第二基材进行放电轰击。
33.根据本实用新型的一个实施例，还包括阳极层离子轰击设备，所述阳极层离子轰击设备设在所述第一真空室内，用以对第一基材和/或第二基材进行离子轰击，以活化所述第一基材和/或第二基材表面。
34.根据本实用新型的一个实施例，所述第一光学增亮层为氧化铌，所述第二光学增亮层为二氧化硅，所述保护层为氧化钛或氧化铌。
35.本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。
附图说明
36.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
37.图1是本实用新型实施例多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线的结构示意图；
38.图2是本实用新型实施例多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线一部分的分解图；
39.图3是本实用新型实施例多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线另一部分的分解图；
40.其中，图2和图3中的a
‑
a为两个部分的连接处。
41.本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
42.下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
43.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”“轴向”、“周向”、“径向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
44.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
45.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
46.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
47.下面参照附图详细描述本实用新型实施例的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线。
48.参照图1至图3所示，根据本实用新型实施例提供的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线包括：第一镀膜生产线10a、第二镀膜生产线10b及衔接设备20。
49.具体地，第一镀膜生产线10a适于对载具上的第一基材镀膜。
50.第二镀膜生产线10b适于对所述载具上的第一基材二次镀膜加厚，或者对所述载具上的第二基材镀膜，所述第二镀膜生产线10b与所述第一镀膜生产线10a平行布置，所述第一基材和第二基材设在所述载具上相背对的两个面上。
51.衔接设备20包括衔接真空箱及设在衔接真空箱内的旋转平移机构，所述衔接真空箱衔接在所述第一镀膜生产线10a的末端和所述第二镀膜生产线10b的起始端之间，所述旋转平移机构设在衔接真空箱内且可驱动所述载具平移进入所述第二镀膜生产线10b的起始端，或者驱动所述载具旋转180
°
进入至所述第二镀膜生产线10b的起始端。
52.当所述载具平移进入至所述第二镀膜生产线10b的起始端时，通过所述第二镀膜生产线10b对所述载具上的第一基材二次镀膜加厚，当所述载具旋转180
°
进入至所述第二镀膜生产线10b的起始端时，通过所述第二镀膜生产线10b对所述载具上的第二基材镀膜。
53.也就是说，载具的两个相背对的面上分别设有基材，即第一基材和第二基材，载具进入至第一镀膜生产线10a后，从第一镀膜生产线10a的起始端向末端输送过程中，利用第一镀膜生产线10a可以对载具上的第一基材进行连续镀膜，在第一镀膜生产线10a对载具上的第一基材完成镀膜之后，载具从第一镀膜生产线10a的末端输出至衔接设备20中衔接真空箱内，衔接真空箱内的旋转平移机构可以进行旋转运动或平移运动。
54.当旋转平移机构旋转180
°
时，旋转平移机构可以驱动载具旋转180
°
后进入至第二镀膜生产线10b的起始端，由于在载具旋转180
°
之后，载具上相背对的两个面位置互换，所以，载具从第二镀膜生产线10b的起始端向末端传送的过程中，第二镀膜生产线10b可以对载具上的第二基材进行连续镀膜，如此，可以利用第一镀膜生产线10a和第二镀膜生产线10b一次性对第一基材和第二基材分别进行镀膜，由于镀膜生产线体积庞大，启动时间长，需要持续抽真空数小时，以使真空度达到要求才能进行工作，所以，通过衔接设备20将第一镀膜生产线10a与第二镀膜生产线10b连接组成环式生产线，一次性对两块基材进行镀膜加工，效率更高，可以大幅提高产能。
55.当旋转平移机构平移时，旋转平移机构可以驱动载具平移进入至第二镀膜生产线10b的起始端，由于载具是平移至第二镀膜生产线10b的，载具仅仅的位置的移动，载具的各个面之间的位置关系并没有发生改变，所以，载具从第二镀膜生产线10b的起始端向末端传送的过程中，第二镀膜生产线10b仍然是在载具上的第一基材进行连续镀膜，如此，可以利用第一镀膜生产线10a对第一基材进行一次镀膜，而利用第二镀膜生产线10b对第一基材进行二次镀膜，进而使得膜层成倍加厚，进而满足更厚的膜层厚度要求，并且，由于膜层一次镀膜和二次镀膜在环式生产线上一次完成，因此，效率高。
56.根据本实用新型实施例提供的多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线，具有平行布置的第一镀膜生产线10a和第二镀膜生产线10b，第一镀膜生产线10a的末端和第二镀膜生产线10b的起始端之间通过衔接设备20衔接，衔接设备20包括旋转平移机构，当旋转平移机构驱动载具平移进入至第二镀膜生产线10b的起始端时，可以通过第二镀膜生产线10b对载具上的第一基材二次镀膜加厚，当旋转平移机构驱动载具旋转180
°
进入至第二镀膜生产线10b的起始端时，通过第二镀膜生产线10b对载具上的第二基材镀膜，如此，该多功能真空纳米薄膜镀膜环式生产线可以实现在基材上二次镀膜加厚，或者对两个基材进行镀膜，显著提高产能及效率。
57.在本实用新型的一些实施例中，第一镀膜生产线10a和第二镀膜生产线10b中的每一个均包括第一镀膜单元101、第二镀膜单元102、第三镀膜单元103及气氛隔离箱104。
58.其中，第一镀膜单元101包括第一真空箱1013、第一镀膜机组1011及第二镀膜机组1012，所述第一真空箱1013包括第一真空室h101及第二真空室h102，所述第二真空室h102与所述第一真空室h101相连通；所述第一镀膜机组1011组配置在所述第一真空室h101内，用以在进入至所述第一镀膜真空室内的基材上镀设打底层；所述第二镀膜机组1012配置在所述第二真空室h102内，用以在所述打底层上镀设第一光学增亮层。
59.第二镀膜单元102包括第二真空箱1021及第三镀膜机组1022，所述第二真空箱
1021与所述第一真空箱1013的所述第二真空室h102连通，所述第三镀膜机组1022配置在所述第二真空箱1021内，用以在所述第一光学增亮层镀设第二光学增亮层，所述第二光学增亮层的折射率不同。
60.第三镀膜单元103包括第三真空箱1031及第四镀膜机组1032，所述第三真空箱1031包括第三真空室h104，所述第四镀膜机组1032配置在所述第三真空室h104内，用以在所述第二光学增亮层上镀设非导电金属增亮层以及在所述非导电金属增亮层上镀设保护层。
61.气氛隔离箱104连接在所述第二真空箱1021和第三真空箱1031之间，且所述气氛隔离箱104与所述第二真空箱1021之间具有可启闭的第一隔离门，所述气氛隔离箱104与所述第三镀膜真空箱之间具有可启闭的第二隔离门。
62.第一镀膜生产线10a中的所述第一镀膜单元101、第二镀膜单元102、气氛隔离箱104及第三镀膜单元103沿第一方向依次布置，所述第二镀膜生产线10b中的所述第一镀膜单元101、第二镀膜单元102、气氛隔离箱104及第三镀膜单元103沿第二方向依次布置，所述第二方向与所述第一方向互为反方向；所述衔接真空箱连接在所述第一镀膜生产线10a的所述第三真空箱1031和第二镀膜生产线10b的第一真空箱1013之间。
63.具体工作过程中，载具先在第一镀膜产生线中镀膜，再通过衔接设备20进入至第二镀膜生产线10b中镀膜，其中，载具在第一镀膜产生线中镀膜过程：载具进入至第一真空箱1013内的第一真空室h101内，第一镀膜机组1011先在第一基材上镀设打底层，载具再进入至第二真空室h102，第二镀膜机组1012再在打底层上镀设第一光学增亮层，第一光学增亮层镀膜完成之后，载具进入至第二真空箱1021内，第三镀膜机组1022在第一光学增亮层上镀设第二光学增亮层。此后，第一隔离门打开，载具进入至气氛隔离箱104内，再关闭第一隔离门，并在第一隔离门和第二隔离门保持关闭状态下对气氛隔离箱104进行抽真空，使得气氛隔离箱104达到预定真空要求，接着打开第二隔离门，使得载具进入至第三真空箱1031的第三真空室h104，第四镀膜机组1032在所述第二光学增亮层上镀设非导电金属增亮层，以及在非导电金属增亮层上镀设保护层，如此，即可完成在第一镀膜生产线10a中的多层连续镀膜。
64.载具在第二镀膜产生线中镀膜过程：第一镀膜生产线10a中镀膜完成后，载具从第三真空箱1031进入至衔接设备20的衔接真空箱内，此时，衔接真空箱内的旋转平移机构驱动载具旋转180
°
或平移，使得载具进入至第二镀膜生产线10b的第一真空室h101内，第一镀膜机组1011先在第二基材上或者第一基材的保护层上镀设打底层，载具再进入至第二真空室h102，第二镀膜机组1012再在打底层上镀设第一光学增亮层，第一光学增亮层镀膜完成之后，载具进入至第二真空箱1021内，第三镀膜机组1022在第一光学增亮层上镀设第二光学增亮层。此后，第一隔离门打开，载具进入至气氛隔离箱104内，再关闭第一隔离门，并在第一隔离门和第二隔离门保持关闭状态下对气氛隔离箱104进行抽真空，使得气氛隔离箱104达到预定真空要求，接着打开第二隔离门，使得载具进入至第三真空箱1031的第三真空室h104，第四镀膜机组1032在所述第二光学增亮层上镀设非导电金属增亮层，以及在非导电金属增亮层上镀设保护层，如此，即可完成在第二镀膜生产线10b中的多层连续镀膜，实现对第二基材进行镀膜，或者在第一基材上二次镀膜加厚。
65.有利地，第一真空箱1013及第二真空箱1021内为充入氧气和惰性气体的第一真空
环境，所述第三真空箱1031提供充入惰性气体且不含氧的第二真空环境。在具有氧气和惰性气体的第一真空环境下，第一光学增亮层及第二光学增亮层可以形成绚丽的色彩，而在具有惰性气体且不含氧的第二真空环境，可以确保非导金属增亮层不被氧化，保持较高的光反射效果。
66.需要说明的是，本技术中，通过气氛隔离箱104对第二镀膜真空箱和第三镀膜真空箱进行气氛隔离，使得基材能够在第一真空箱1013、第二真空箱1021和第二镀膜真空箱之间流转，且第一真空箱1013、第二真空箱1021与第二镀膜真空箱内保持独立的真空环境，以满足第一光学增亮层、第二光学增亮层与非导金属增亮层镀膜时的真空环境要求，确保能够进行连续镀膜。
67.本实施例中，利用第一镀膜机组1011、第二镀膜机组1012及第三镀膜机组1022在第一真空箱1013、第二真空箱1021内分别镀设打底层、第一光学增亮层及第二光学增亮层，第四镀膜机组1032在第三真空箱1031内镀设非导电金属则增亮层和保护层，如此，可以实现多层膜结构的连续镀膜，效率高。此外，第一光学增亮层、第二光学增亮层及非导金属增亮层均具有增亮效果，而且，将第一光学增亮层、第二光学增亮层及非导金属增亮层结合之后，可以显著提高电子设备外壳的亮白效果，此外，可以利用第一光学增亮层与第二光学增亮层的折射率不同，形成不同视角下呈现不同的颜色及图案变化。
68.在本实用新型的一个实施例中，还包括进料真空箱30及进料缓冲箱31，其中，进料真空箱30的入口设有可启闭的第三隔离门；进料缓冲箱31的入口与所述进料真空箱30的出口连通，且所述进料缓冲箱31的入口与所述进料真空箱30的出口之间设有可启闭的第四隔离门，所述进料缓冲箱31的出口与所述第一镀膜生产线10a的所述第一真空箱1013连通，且所述进料缓冲箱31的出口与所述第一镀膜生产线10a的所述第一真空箱1013之间设有可启闭的第五隔离门。
69.具体工作时，第三隔离门先打开，载具进入至进料真空箱30内，再保持第三隔离门和第四隔离门关闭的情况下，对进料真空箱30进行抽真空，再打开第四隔离门，载具再进入至进料缓冲箱31，在保持第四隔离门和第五隔离门关闭的情况下，对进料缓冲箱31进行抽真空，最后再打开第五隔离门，使得载具进入至第一真空箱1013内，如此，而利用进料真空箱30和进料缓冲箱31，第一镀膜生产线10a的第一真空箱1013能够被隔离，进而保持所需真空状态，此外，也可以保持连续进料，提高效率。
70.在本实用新型的一个实施例中，还包括出料真空箱41及出料缓冲箱40，其中，出料真空箱41的出口设有可启闭的第六隔离门。出料缓冲箱40的出口与所述出料真空箱41的入口连通，且所述出料缓冲箱40的出口与所述出料真空箱41的入口之间设有可启闭的第七隔离门，所述出料缓冲箱40的入口与所述第二镀膜生产线10b的所述第三真空箱1031连通，且所述出料缓冲箱40的入口与所述第二镀膜生产线10b的所述第三真空箱1031之间设有可启闭的第八隔离门。
71.具体工作时，当第一基材或第二基材在第二镀膜生产线10b镀膜完成之后，第八隔离门先打开，载具进入至出料缓冲箱40内，再保持第八隔离门和第七隔离门关闭的情况下，对出料缓冲箱40进行抽真空，再打开第七隔离门，载具再进入至出料真空箱41，在保持第七隔离门和第六隔离门关闭的情况下，对出料真空箱41进行抽真空，最后再打开第六隔离门，载具即可排出，如此，而利用出料真空箱41和出料缓冲箱40，第二镀膜生产线10b的第三真
空箱1031能够被隔离，进而保持所需真空状态，此外，也可以保持连续出料，提高效率。
72.在本实用新型的一个实施例中，第一真空箱1013还包括高低速转换室h103，所述第三真空箱1031还包括低高速转换室h105，其中，第一镀膜生产线10a的高低速转换室h103位于所述进料缓冲箱31的出口和所述第一真空室h101之间，用以将所述载具由高速传送降低为低速传送，所述第一镀膜生产线10a的低高速转换室h105位于所述第三真空室h104和所述衔接真空箱之间，用以所述载具由低速传送升高为高速传送。
73.第二镀膜生产线10b的高低速转换室h103位于所述衔接真空箱和所述第一真空室h101之间，用以所述载具由高速传送降低为低速传送；所述第二镀膜生产线10b的低高速转换室h105位于所述第三真空室h104和所述出料缓冲箱40的入口之间，用以将所述载具由低速传送降低为高速传送。
74.在第一镀膜生产线10a的镀膜过程中，载具以高速从进料真空箱30向进料缓冲箱31运动，再从进料缓冲箱31高速输送至第一真空箱1013，由于高低速转换室h103位于第一真空室h101和进料缓冲箱31之间，所以，载具从进料缓冲箱31先进入至高低速转换室h103，高低速转换室h103中的传送带降低运动速度，进而使得载具从高速降低为低速，再以低速输送至第一真空室h101内，如此，可以确保上料时可以高速上料，提高效率，而在进入第一镀膜生产线10a之后，降低传送速度，以确保镀膜可靠。同样，由于低高速转换室h105位于第三真空室h104和衔接真空箱之间，所以，在第一镀膜生产线10a的第三真空箱1031中完成镀膜之后，载具以低速输送至低高速转换室h105，使得载具从低速转为高速传送，以提高效率。
75.在第二镀膜生产线10b的镀膜过程中，载具经由衔接设备20中的旋转平移机构驱动进入至高低速转换室h103，使得载具从高速降低为低速，再以低速输送至第一真空室h101内，确保载具进入第二镀膜生产线10b之后，降低传送速度，确保后续镀膜加工可靠。而在第二镀膜生产线10b的第三真空箱1031中镀膜完成后，载具以低速输送至低高速转换室h105，使得载具从低速转为高速传送，载具即可进入至出料缓冲箱40，以并高速向出料真空箱41传送，可以确保下料时可以高速下料。
76.简言之，本实施例中，通过高低速转换室h103及低高速转换室h105进行传送速度的转换，可以提高效率，并确保镀膜可靠。
77.在本实用新型的一个实施例中，还包括辉光放电设备50，辉光放电设备50设在所述进料真空箱30内，用于对进入至所述进料真空箱30内的基材进行放电轰击。
78.也就是说，当载具进入至进料真空箱30且抽真空之后，可以通过第一辉光放电设备50对第一基材和/或第二基材进行放电轰击，消除第一基材和/或第二基材表面的浮灰、静电等，以增大镀膜附着力。
79.在本实用新型的一个实施例中，还包括阳极层离子轰击设备1013，所述阳极层离子轰击设备1013设在所述第一真空室h101内，用以对基材进行离子轰击，以活化基材表面。
80.也就是说，当载具进入至第一真空室h101之后，先利用阳极层离子轰击设备1013，对第一基材和/或第二基材进行离子轰击，以活化第一基材和/或第二基材表面，如此，可以进一步提高第一基材、第二基材表面的附着力，使得打底层附着效果更好。
81.在本实用新型的一个实施例中，打底层包括第一打底层及第二打底层，所述第一打底层为氧化锆，所述第二打底层为氧化钛或氧化铌。
82.第一镀膜机组1011包括至少两个第一镀膜设备，至少两个所述第一镀膜设备中的一个用于在所述基材上镀设所述第一打底层，至少两个所述第一镀膜设备中的另一个用于在所述第一打底层上镀设所述第二打底层。
83.也就是说，载具进入至第一真空室h101后，先通过一个第一镀膜设备镀设第一打底层，再通过另一个第一镀膜设备在第一打底层上镀设第二打底层，如此，可以完成在第一基材或第二基材上依次镀设第一打底层和第二打底层，此外，第二打底层可以采用氧化钛或氧化铌，如此，利用第二打底层可以增加第一光学增亮层的附着力。
84.在本实用新型的一个实施例中，非导电金属增亮层包括过渡层及金属增亮层，所述过渡层为硅或二氧化硅，所述金属增亮层为铟或铟锡；
85.第四镀膜机组1032包括至少两个第四镀膜设备，至少两个所述第四镀膜设备中的一个用于在所述第二光学增亮层上镀设所述过渡层，至少两个所述第四镀膜设备中的另一个用于在所述过渡层上镀设所述金属增亮层。
86.也就是说，在第三真空箱1031内，先利用一个第四镀膜设备在第二光学增亮层上镀设过渡层，再利用另一个第四镀膜设备在过渡层上镀设金属增亮层，如此，利用过渡层可以使得非导金属增亮层与第二光学增亮层之间结合力更强，同时，也可以使得透光性平缓过渡。
87.此外，第二镀膜机组1012可以包含多个第二镀膜设备，利用多个第二镀膜设备连续镀多次第一光学增亮层，第三镀膜机组1022可以包含多个第三镀膜设备，利用多个第三镀膜设备连续镀多次第二光学增亮层，如此，可以确保膜层厚度满足要求，且镀膜效果更好。
88.有利地，第一光学增亮层为氧化铌，所述第二光学增亮层为二氧化硅，所述保护层为氧化钛或氧化铌。二氧化硅的折射率小于氧化铌的折射率，如此，可以利用第一光学增亮层和第二光学增亮层的不同折射率，实现在不同视角下呈现不同的色彩图像。
89.在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
90.以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的实用新型构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。