一种低电容阵列基板制作方法及液晶显示屏与流程

1.本发明涉及液晶面板制造工艺技术领域，特别涉及一种低电容显示屏制作方法及液晶显示屏。


背景技术：

2.液晶显示器(liquid crystal display，lcd)具有体积小、功耗低、无辐射等特点，现已占据了平面显示领域的主导地位。薄膜晶体管液晶显示器(thin film transistor
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liquid crystal display，tft
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lcd)是目前主流的液晶显示器，被广泛地应用于高清晰数字电视、台式计算机、个人数字助理(pda)、笔记本电脑、移动电话、数码相机等电子设备中。其液晶面板包括阵列基板(array)、彩膜基板(cf)以及用于将所述阵列基板和所述彩膜基板粘合的封框胶。其中，彩色基板(cf)基板包括玻璃基底、黑色矩阵、红绿蓝(rgb)彩色层、保护层以及铟锡氧化物透明导电薄膜层。其中，黑色矩阵位于rgb彩色层的r色阻、g色阻以及b色阻的间隔处，并且在接触部分有一定的重叠。
3.液晶显示面板只能控制光线通过的亮度，本身并无发光功能，因此需要由背光源如led(light emitting diode，发光二极管)和lgp(light guide plate，导光板)来提供画面显示所需要的高亮度且分布均匀光。目前，一般采用侧光式led背光源，即将led晶粒配置在液晶显示面板的至少一侧边缘处，再配合lgp的使用，使led背光模块发光时，把从液晶显示面板边缘发射的光透过lgp输送到液晶显示面板的整个区域，从而使液晶显示面板正常显示画面。
4.随着手机液晶显示屏尺寸不断加大，ppi不断增加，透过率明显降低。而贴合设备的精度极大影响了显示屏的透过率。传统lcd制程流程，bm遮光层做到cf玻璃上。array、cf玻璃膨胀率不同，玻璃基板尺寸越大，不同玻璃膨胀造成的对位偏差越大，array图案遮挡bm开口区，造成开口率下降，透过率降低。同时，现有的液晶显示屏将遮光层设置在cf侧，中间设置液晶层，一定程度上增加了电容加载。


技术实现要素：

5.现有的手机液晶显示屏尺寸不断加大，ppi不断增加，透过率明显降低。而贴合设备的精度极大影响了显示屏的透过率。传统lcd制程流程，bm遮光层做到cf玻璃上。array、cf玻璃膨胀率不同，玻璃基板尺寸越大，不同玻璃膨胀造成的对位偏差越大，array图案遮挡bm开口区，造成开口率下降，透过率降低。同时，现有的液晶显示屏将遮光层设置在cf侧，中间设置液晶层，一定程度上增加了电容加载。
6.针对上述问题，提出一种低电容显示屏制作方法及液晶显示屏，通过将遮光层及彩色滤光层设置在与电控层同一的阵列玻璃基板上，将彩色滤光层设置在遮光层靠近液晶层的一侧，大大降低了加载电容，彩色滤光层与支撑柱连接，有效避免了阵列玻璃基板与遮光层膨胀率不同造成的对位偏差问题，提升了液晶显示屏的透过率。
7.一种低电容显示屏制作方法，包括步骤：
8.制作cf侧玻璃基板，所述cf侧玻璃基板配置为对通过的光线全透过；
9.制作阵列玻璃基板，在所述阵列玻璃基板上间隔设置遮光层、彩色滤光层、电控层及保护层；
10.在所述cf侧玻璃基板与所述阵列玻璃基板之间设置液晶层及支撑柱，且：
11.所述步骤：制作阵列玻璃基板，在所述阵列玻璃基板上间隔设置彩色滤光层、遮光层、电控层及保护层，包括：
12.设置遮光层的步骤；
13.所述设置遮光层的步骤包括：
14.在所述电控层中硅岛层靠近液晶层的一侧设置保护层；
15.在所述保护层靠近液晶层的一侧设置第一导电膜；
16.在所述保护层与所述第一导电膜之间设置遮光层。
17.结合本发明所述的低电容显示屏制作方法，第一种可能的实施方式中，所述步骤：制作阵列玻璃基板，在所述阵列玻璃基板上间隔设置彩色滤光层、遮光层、电控层及保护层，还包括：
18.在所述阵列玻璃基板靠近液晶层一侧设置彩色滤光层；
19.在所述彩色滤光层远离液晶层一侧设置遮光层；
20.在所述遮光层与彩色滤光层之间设置第一透明导电膜。
21.结合本发明第一种可能的实施方式，第二种可能的实施方式中，所述步骤：在所述彩色滤光层远离液晶层的一侧设置遮光层，包括子步骤：
22.对应所述遮光层，形成一黑矩阵，所述黑矩阵限定出多个像素区域；
23.将所述彩色滤光层的滤光单元仅设置在所述像素区域内。
24.结合本发明第二种可能的实施方式，第三种可能的实施方式中，所述步骤：制作阵列玻璃基板，在所述阵列玻璃基板上间隔设置遮光层、彩色过滤层、电控层及保护层，还包括步骤：
25.在所述遮光层远离液晶层一侧设置保护层；
26.在所述保护层远离液晶层一侧设置设置第二透明导电膜。
27.远离液晶层的一侧远离液晶层的一侧结合本发明第三种可能的实施方式，第四种可能的实施方式中，所述步骤：制作阵列玻璃基板，在所述阵列玻璃基板上间隔设置遮光层、彩色过滤层、电控层及保护层，还包括步骤：
28.设置电控层的步骤：
29.所述设置电控层的步骤包括子步骤：
30.在所述遮光层后侧所述保护层与第二导电膜之间设置源极区、硅岛层及漏极区，其中所述源极区、漏极区分别接触连接在所述硅岛层的两侧；
31.在对应硅岛层一侧阵列玻璃与绝缘层之间设置栅极层。
32.结合本发明第四种可能的实施方式，第五种可能的实施方式中，所述步骤：在所述cf侧玻璃基板与所述阵列玻璃基板之间设置液晶层及支撑柱，包括步骤：
33.设置支撑柱的步骤；
34.所述设置支撑柱的步骤，包括：
35.在对应所述硅岛层的一侧设置支撑柱；
36.将所述支撑柱垂直连接在所述cf侧玻璃基板与所述彩色滤光层之间。
37.一种液晶显示屏，包括：
38.cf侧玻璃基板；
39.阵列玻璃基板；
40.液晶层及支撑柱；
41.所述cf侧玻璃基板设置为全透光材质玻璃；
42.所述阵列玻璃基板包括：
43.遮光层；
44.彩色滤光层；
45.电控层；
46.多个保护层；
47.所述遮光层、彩色滤光层、电控层及多个保护层间隔设置；
48.所述液晶层及支撑柱设置在所述cf侧玻璃基板与所述阵列玻璃基板之间。
49.结合本发明所述的液晶显示屏，第一种可能的实施方式中，所述阵列玻璃基板配置为：
50.在所述阵列玻璃基板靠近液晶层一侧设置彩色滤光层；
51.在所述彩色滤光层远离液晶层的一侧设置遮光层；
52.在所述遮光层与彩色滤光层之间设置第一透明导电膜。
53.结合本发明液晶显示屏所述的第一种可能的实施方式，第二种可能的实施方式中，所述阵列玻璃基板进一步地配置为：
54.在所述遮光层远离液晶层一侧设置保护层；
55.在所述保护层远离液晶层一侧设置设置第二透明导电膜。
56.远离液晶层的一侧远离液晶层的一侧实施本发明所述的低电容显示屏制作方法及液晶显示屏，通过将遮光层及彩色滤光层设置在与电控层同一的阵列玻璃基板上，将彩色滤光层设置在遮光层靠近液晶层的一侧，大大降低了加载电容，彩色滤光层与支撑柱连接，有效避免了阵列玻璃基板与遮光层膨胀率不同造成的对位偏差问题，提升了液晶显示屏的透过率。
附图说明
57.为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
58.图1是本发明中低电容显示屏制作方法步骤第一实施例示意图；
59.图2是本发明中低电容显示屏制作方法步骤第二实施例示意图；
60.图3是本发明中低电容显示屏制作方法步骤第三实施例示意图；
61.图4是本发明中低电容显示屏制作方法步骤第四实施例示意图；
62.图5是本发明中低电容显示屏制作方法步骤第五实施例示意图；
63.图6是本发明中低电容显示屏制作方法步骤第六实施例示意图；
64.图7是本发明中低电容显示屏制作方法步骤第七实施例示意图；
65.图8是本发明中液晶显示屏实施例示意图；
66.附图中各数字所指代的部位名称为：100——cf侧玻璃基板、200——液晶层、300——支撑柱、400——阵列玻璃基板、401——阵列玻璃、410——彩色滤光层、420——遮光层、430——第一透明导电膜、440——保护层、450——硅岛层、460——第二透明导电膜、470——绝缘层、480——栅极层。
具体实施方式
67.下面将结合发明中的附图，对本发明中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动前提下所获得的其他实施例，都属于本发明保护的范围。
68.除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
69.现有的手机液晶显示屏尺寸不断加大，ppi不断增加，透过率明显降低。而贴合设备的精度极大影响了显示屏的透过率。传统lcd制程流程，bm遮光层420(bm)做到cf玻璃上。array、cf玻璃膨胀率不同，玻璃基板尺寸越大，不同玻璃膨胀造成的对位偏差越大，array图案遮挡bm开口区，造成开口率下降，透过率降低。同时，现有的液晶显示屏将遮光层420(bm)设置在cf侧，中间设置液晶层200，一定程度上增加了电容加载。
70.针对上述问题，提出一种低电容显示屏制作方法及液晶显示屏。
71.一种低电容显示屏制作方法，如图1，图1是本发明中低电容显示屏制作方法步骤第一实施例示意图，包括步骤：
72.s1、制作cf侧玻璃基板100，如图8，图8是本发明中液晶显示屏实施例示意图，cf侧玻璃基板100配置为对通过的光线全透过；cf侧玻璃基板100可以实施为一种白玻璃，对照射的光线全透过，不对该光线进行特殊处理，作为一种防护板使用。
73.s2、制作阵列玻璃基板400，在阵列玻璃基板400上间隔设置彩色滤光层410(r/g/b)、遮光层420(bm)、电控层及保护层；设置的遮光层420(bm)、彩色滤光层410(r/g/b)、电控层及保护层，彼此合理间隔设置，以完成对光线的三色滤光，防漏光以及电路的控制。
74.优选地，如图2，图2是本发明中低电容显示屏制作方法步骤第二实施例示意图；步骤s2包括s201设置遮光层的步骤；
75.s201、设置遮光层的步骤包括：
76.s2011、在电控层中硅岛层450靠近液晶层的一侧设置保护层；s2012、在保护440层靠近液晶层200的一侧设置第一导电膜430；s2013、在保护层440与第一导电膜430之间设置遮光层420。
77.将彩色滤光层410(r/g/b)设置在阵列玻璃基板400上，并且将遮光层420(bm)贴合设置在彩色滤光层410(r/g/b)远离液晶层的一侧，大大降低了加载电容。遮光层420(bm)设置贴合设置在第一透明导电膜430与硅岛层450之间，开口区内第一透明导电膜430与第二
透明导电膜460的存储电容不变，而栅极层480、硅岛层450与液晶层200的vcom电极之间设置有遮光(bm)层，降低了电容加载(loading)。
78.优选地，如图3，图3是本发明中低电容显示屏制作方法步骤第三实施例示意图，步骤s2包括：
79.s21、在阵列玻璃基板400靠近液晶层200一侧设置彩色滤光层410(r/g/b)；s22、在彩色滤光层410(r/g/b)远离液晶层的一侧设置遮光层420(bm)；s23、在遮光层420(bm)与彩色滤光层410(r/g/b)之间设置第一透明导电膜430。
80.优选地，如图4，图4是本发明中低电容显示屏制作方法步骤第四实施例示意图，步骤s22包括子步骤：
81.s221、对应遮光层420(bm)，形成一黑矩阵，黑矩阵限定出多个像素区域；s222、将彩色滤光层410(r/g/b)的滤光单元仅设置在像素区域内。
82.优选地，如图5，图5是本发明中低电容显示屏制作方法步骤第五实施例示意图，步骤s2还包括步骤：
83.s24、在遮光层420(bm)远离液晶层的一侧远离液晶层的一侧设置保护层440；s25、在保护层440远离液晶层的一侧设置设置第二透明导电膜460。
84.优选地，步骤s2还包括步骤：
85.s26、设置电控层的步骤：
86.如图6，图6是本发明中低电容显示屏制作方法步骤第六实施例示意图，设置电控层的步骤包括子步骤：
87.s261、在遮光层420(bm)后侧保护层440与第二导电膜之间设置硅岛层450；s262、在对应硅岛层450一侧阵列玻璃与绝缘层470之间设置栅极层480。
88.如图8，硅岛层450的两侧分别接触连接源极区451及漏极区452。
89.通过将遮光层420(bm)及彩色滤光层410(r/g/b)设置在与电控层阵列玻璃基板400上，将彩色滤光层410(r/g/b)设置在遮光层420(bm)靠近液晶层的一侧，大大降低了加载电容，彩色滤光层410(r/g/b)与支撑柱300连接，有效避免了阵列玻璃基板400与遮光层420(bm)膨胀率不同造成的对位偏差问题，提升了液晶显示屏的透过率。
90.s3、在cf侧玻璃基板100与阵列玻璃基板400之间设置液晶层200及支撑柱300。
91.优选地，如图7，图7是本发明中低电容显示屏制作方法步骤第七实施例示意图，步骤s3包括步骤：
92.s31、设置支撑柱300的步骤；
93.设置支撑柱300的步骤，包括：
94.s31、在对应硅岛层450的一侧设置支撑柱300；s32、将支撑柱300垂直连接在cf侧玻璃基板100与彩色滤光层410(r/g/b)之间。
95.一种液晶显示屏，如图8，图8是本发明中液晶显示屏实施例示意图，包括：cf侧玻璃基板100、阵列玻璃基板400、液晶层200及支撑柱300；cf侧玻璃基板100设置为全透光材质玻璃401；阵列玻璃基板400包括遮光层420(bm)、彩色滤光层410(r/g/b)、电控层及多个保护层；遮光层420(bm)、彩色滤光层410(r/g/b)、电控层及多个保护层间隔设置；液晶层200及支撑柱300设置在cf侧玻璃基板100与阵列玻璃基板400之间。
96.cf侧玻璃基板100可以实施为一种白玻璃，对照射的光线全透过，不对该光线进行
特殊处理，作为一种防护板使用。设置的遮光层420、彩色滤光层410、电控层及保护层，彼此合理间隔设置，以完成对光线的三色滤光，防漏光以及电路的控制。
97.进一步地，阵列玻璃基板400配置为：在阵列玻璃基板400靠近液晶层200一侧设置彩色滤光层410(r/g/b)；在彩色滤光层410(r/g/b)远离液晶层的一侧设置遮光层420(bm)；在遮光层420(bm)与彩色滤光层410(r/g/b)之间设置第一透明导电膜430。
98.进一步地，阵列玻璃基板400进一步地配置为：在遮光层420(bm)远离液晶层的一侧设置保护层440；在保护层440远离液晶层的一侧设置设置第二透明导电膜460。
99.实施本发明的低电容显示屏制作方法及液晶显示屏，通过将遮光层420(bm)及彩色滤光层410(r/g/b)设置在与电控层同一的阵列玻璃基板400上，将彩色滤光层410(r/g/b)设置在遮光层420(bm)靠近液晶层的一侧，大大降低了加载电容，彩色滤光层410(r/g/b)与支撑柱300连接，有效避免了阵列玻璃基板400与遮光层420(bm)膨胀率不同造成的对位偏差问题，提升了液晶显示屏的透过率。
100.以上仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。