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一种高低温环境下即开即用的LD泵浦结构及调Q激光器的制作方法

2021-10-24 07:08:00 来源:中国专利 TAG:激光器 即用 高低温 结构 环境

技术特征:
1.一种高低温环境下即开即用的ld泵浦结构,其特征在于,所述ld泵浦结构包括:聚光器、激光增益介质、聚焦耦合镜组和ld泵浦阵列,其中:所述聚光器四周均镀有高反膜,且设有一通光区域;所述激光增益介质位于所述聚光器的中心;所述聚焦耦合镜组位于所述聚光器的下方,且朝向所述聚光器的通光区域;所述ld泵浦阵列位于所述聚焦耦合镜组的下方,以使所述ld泵浦阵列发出的泵浦光依次透过聚焦耦合镜组和所述通光区域入射到聚光器中泵浦激光增益介质,使得激光增益介质实现足够的粒子数反转。2.根据权利要求1所述的ld泵浦结构,其特征在于,所述聚光器为密封结构。3.根据权利要求1或2所述的ld泵浦结构,其特征在于,所述聚光器为圆腔或者方腔。4.一种具有如权利要求1

3任一项所述的ld泵浦结构的调q激光器,其特征在于,所述调q激光器包括:全反镜、ld泵浦结构、偏振片、1/4波片、电光晶体和输出镜,其中:所述全反镜、ld泵浦结构、偏振片、1/4波片、电光晶体、输出镜从左至右依次放置;所述全反镜、ld泵浦结构中的聚光器和激光增益介质、偏振片、1/4波片、电光晶体和输出镜构成所述调q激光器的谐振腔。5.根据权利要求4所述的激光器,其特征在于,所述ld泵浦结构包括:聚光器、激光增益介质、聚焦耦合镜组和ld泵浦阵列,其中:所述聚光器四周均镀有高反膜,且设有一通光区域;所述激光增益介质位于所述聚光器的中心;所述聚焦耦合镜组位于所述聚光器的下方,且朝向所述聚光器的通光区域;所述ld泵浦阵列位于所述聚焦耦合镜组的下方,以使所述ld泵浦阵列发出的泵浦光依次透过聚焦耦合镜组和所述通光区域入射到聚光器中泵浦激光增益介质,使得激光增益介质实现足够的粒子数反转。6.根据权利要求4或5所述的激光器,其特征在于,所述全反镜和输出镜为平面镜或者带有曲率的曲面镜。7.根据权利要求4

6任一所述的激光器,其特征在于,所述ld泵浦阵列与激光增益介质为侧面泵浦结构。8.根据权利要求4

7任一所述的激光器,其特征在于,所述偏振片具有p偏振光高透和s偏振光高反的特性。9.根据权利要求4

8任一所述的激光器,其特征在于,所述偏振片为布儒斯特片、格兰棱镜或者pbs分光棱镜。10.根据权利要求4

9任一所述的激光器,其特征在于,所述电光晶体基于横向电光效应制成或使用纵向电光效应制成。

技术总结
本公开公开了一种高低温环境下即开即用的LD泵浦结构及调Q激光器,所述LD泵浦结构包括:聚光器、激光增益介质、聚焦耦合镜组和LD泵浦阵列,其中:所述聚光器四周均镀有高反膜,且设有一通光区域;所述激光增益介质位于所述聚光器的中心;所述聚焦耦合镜组位于所述聚光器的下方,且朝向所述聚光器的通光区域;所述LD泵浦阵列位于所述聚焦耦合镜组的下方,以使所述LD泵浦阵列发出的泵浦光依次透过聚焦耦合镜组和所述通光区域入射到聚光器中泵浦激光增益介质,使得激光增益介质实现足够的粒子数反转。反转。反转。


技术研发人员:于永吉 王超 毛洁 金光勇 王宇恒 王子健
受保护的技术使用者:长春理工大学
技术研发日:2021.07.19
技术公布日:2021/10/23
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