移动体装置、移动方法、曝光装置、曝光方法、平板显示器的制造方法、以及元件制造方法与流程

移动体装置、移动方法、曝光装置、曝光方法、平板显示器的制造方法、以及元件制造方法
1.本发明为申请日为2017年09月29日，申请号为“201780058903.7”，发明名称 为“移动体装置、移动方法、曝光装置、曝光方法、平板显示器的制造方法、以及元 件制造方法”的发明专利的分案申请。
技术领域
2.本发明是关于移动体装置、移动方法、曝光装置、曝光方法、平板显示器的制造 方法、以及元件制造方法。


背景技术：

3.以往，于制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等电子元件(微元件) 的光刻工艺，是使用透过投影光学系统(透镜)以照明光(能量束)使感光性的玻璃 板或晶片(以下，统称为「基板」)曝光，据以将掩膜(photomask)或标线片(以下， 统称为「掩膜」)所具有的既定图案转印至该基板的曝光装置。
4.作为此种曝光装置，有一种具备使用基板载台装置所具有的长条镜(bar mirror) 来求出曝光对象基板于水平面内的位置信息的光干涉仪系统广为人知(例如，参照专 利文献1)。
5.此处，使用光干涉仪系统求出基板的位置信息的情形时，因激光至长条镜的光路 长较长，而无法忽视所谓空气波动的影响。
6.先行技术文献
7.专利文献
8.[专利文献1]美国专利申请公开第2010/0266961号说明书


技术实现要素：

[0009]
用以解决课题的手段
[0010]
本发明第1态样提供一种移动体装置，其具备：第1移动体，能保持物体往彼此交 叉的第1方向与第2方向移动；第1测量系统，包含该第1及第2方向的测量成分、于该 第1方向多个第1格子区域彼此分离配置且于该第2方向与该多个第1格子区域分离配 置的多个第2格子区域于该第1方向彼此分离配置的第1格子构件、与一边相对该第1 格子构件往该第1方向移动一边分别照射测量光束的多个第1读头中一方设于该第1移 动体，该第1格子构件与该多个第1读头的另一方被设置成与该移动体对向，以该多个 第1读头中、该测量光束照射到该多个第1及第2格子区域的至少2个的至少3个读头测 量于该第1方向的该第1移动体的位置信息；第2移动体，设在该第1格子区域与该第1 读头中的另一方，能往该第2方向移动；第2测量系统，包含该第1及第2方向的测量成 分的第2格子构件、与一边相对该第2格子构件往该第2方向移动一边照射测量光束的 第2读头中的一方设于该第2移动体，该第2格子构件与该第2读头中的另一方被设置成 与该第2移动体对向，测量于该第2方向的该
第2移动体的位置信息；以及控制装置， 根据以该第1及第2测量系统测量的该位置信息，进行在包含该第1及第2方向的既定平 面内的3自由度方向的该第1移动体的移动控制；该控制系统，根据使用该多个第1读 头中、该测量光束照射到该多个第1及第2格子区域的至少2个的至少4个读头测量的该 第1移动体的位置信息，取得与该多个第1及第2格子区域的至少2个相关的格子修正信 息；该格子修正信息，是被用于使用该测量光束照射到该多个第1及第2格子区域中的 至少2个的该至少3个读头的该第1移动体的移动控制。
[0011]
本发明第2态样提供一种移动体装置，是相对第1构件使物体移动，其具备：第1 移动体，其能保持该物体，相对该第1构件往彼此交叉的第1及第2方向移动；第1测量 系统，于该第1方向多个第1格子区域彼此分离配置且于该第2方向与该多个第1格子区 域分离配置的多个第2格子区域于该第1方向彼此分离配置的第1格子构件、与一边相 对该第1格子构件往该第1方向移动一边分别照射测量光束的多个第1读头中的一方设 于该第1移动体，该第1格子构件与该多个第1读头中的另一方被设置成与该移动体对 向，以该多个第1读头中、该测量光束照射到该多个第1及第2格子区域的至少2个的读 头测量于该第1方向的该第1移动体的位置信息；第2移动体，设在该第1格子区域与该 第1读头中的另一方，能往该第2方向移动；第2测量系统，包含该第1及第2方向的测 量成分的第2格子构件、与对该第2格子构件照射测量光束的第2读头中的一方设于该 第2移动体，该第2格子构件与该第2读头中的另一方被设置成与该第2移动体对向，测 量于该第2方向的该第2移动体的位置信息；以及控制系统，根据以该第1及第2测量系 统测量的该位置信息，进行该第1移动体的移动控制；该控制系统，根据使用该多个 第1读头中、该测量光束照射到该多个第1及第2格子区域的读头测量的该第1移动体的 位置信息，根据该多个第1及第2格子区域的格子修正信息，进行该第1移动体的移动 控制。
[0012]
本发明第3态样提供一种曝光装置，其具备：第1态样及第2态样的任一种的移动 体装置、以及对该物体照射能量束以使该物体曝光的光学系统。
[0013]
本发明第4态样提供一种平板显示器的制造方法，其包含：使用第3态样的曝光装 置使基板曝光的动作、以及使曝光后的基板显影的动作。
[0014]
本发明第5态样提供一种元件制造方法，其包含：使用第3态样的曝光装置使基板 曝光的动作、以及使曝光后的基板显影的动作。
[0015]
本发明第6态样提供一种移动方法，其包含：包含彼此正交的第1及第2方向的测 量成分，于该第1方向多个第1格子区域彼此分离配置、且于该第2方向与该多个第1 格子区域分离配置的多个第2格子区域于该第1方向彼此分离配置的第1格子构件、与 一边相对该第1格子构件往该第1方向移动一边分别照射测量光束的多个第1读头中的 一方设于保持该物体的第1移动体，该第1格子构件与该多个第1读头中的另一方以和 该移动体对向的方式被设于能往该第2方向移动的第2移动体，以该多个第1读头中、 该测量光束照射到该多个第1及第2格子区域的至少2个的至少3个读头测量于该第1方 向的该第1移动体的第1位置信息的动作；包含该第1及第2方向的测量成分的第2格子 构件、与一边相对该第2格子构件往该第2方向移动一边照射测量光束的第2读头中的 一方设于该第2移动体，该第2格子构件与该第2读头中的另一方被设置成与该第2移动 体对向，测量于该第2方向的该第2移动体的第2位置信息的动作；根据该第1及第2位 置信息，进行于该既定平面内的3自由度方向的该第1移动体的移动控制的动作；以及 根据使用该多个第1读头中、该测量光束照射到
该多个第1及第2格子区域的至少2个的 至少4个读头测量的该第1移动体的位置信息，取得与该多个第1及第2格子区域的至少 2个相关的格子修正信息的动作；该格子修正信息，是用于使用该测量光束照射到该 多个第1及第2格子区域的至少2个的该至少3个读头的该第1移动体的移动控制。
[0016]
本发明第7态样提供一种移动方法，是相对第1构件使物体移动，其包含：使保持 该物体的第1移动体，相对该第1物体往彼此交叉的第1及第2方向移动的动作；藉由第 1测量系统，其于该第1方向多个第1格子区域彼此分离配置、且于该第2方向与该多个 第1格子区域分离配置的多个第2格子区域于该第1方向彼此分离配置的第1格子构件、 与一边相对该第1格子构件往该第1方向移动一边分别照射测量光束的多个第1读头中 的一方设于该第1移动体，该第1格子构件与该多个第1读头中的另一方被设置成与该 移动体对向，以该多个第1读头中、该测量光束照射到该多个第1及第2格子区域的至 少2个的读头测量于该第1方向的该第1移动体的位置信息的动作；藉由设有该第1格子 区域与该第1读头中的另一方的第2移动体，使该第1移动体往该第2方向移动的动作； 包含该第1及第2方向的测量成分的第2格子构件、与对该第2格子构件照射测量光束的 第2读头中的一方设于该第2移动体，该第2格子构件与该第2读头中的另一方被设置成 与该第2移动体对向，测量该第2方向的该第2移动体的位置信息的动作；以及根据以 该第1及第2测量系统测量的该位置信息，进行该第1移动体的移动控制的动作；该控 制动作，是根据使用该多个第1读头中、该测量光束照射到该多个第1及第2格子区域 的读头测量的该第1移动体的位置信息，根据该多个第1及第2格子区域的格子修正信 息进行该第1移动体的移动控制。
[0017]
本发明第8态样提供一种曝光方法，其包含：藉由第6态样及第7态样中任一态样 的移动方法使该物体往该第1方向移动的动作、以及对往该第1方向移动后的该物体照 射能量束使该物体曝光的动作。
[0018]
本发明第9态样提供一种平板显示器的制造方法，其包含：使用第8态样的曝光方 法使基板曝光的动作、以及使该曝光后的基板显影的动作。
[0019]
本发明第10态样提供一种元件制造方法，其包含：使用第8态样的曝光方法使基 板曝光的动作、以及使曝光后的基板显影的动作。
附图说明
[0020]
图1是概略显示第1实施形态的液晶曝光装置的构成的图。
[0021]
图2是显示图1的液晶曝光装置所具有的基板载台装置的图。
[0022]
图3是图1的液晶曝光装置所具有的基板测量系统的概念图。
[0023]
图4是用以说明基板载台装置的动作的图(其1)。
[0024]
图5是用以说明基板载台装置的动作的图(其2)。
[0025]
图6是显示以液晶曝光装置的控制系统为中心构成的主控制装置的输出入关系的 方块图。
[0026]
图7是显示第2实施形态的基板载台装置的俯视图。
[0027]
图8是图7的基板载台装置的剖面图。
[0028]
图9是显示图7的基板载台装置的第2系统的图。
[0029]
图10是显示图7的基板载台装置的第1系统的图。
[0030]
图11是显示第3实施形态的基板载台装置的俯视图。
[0031]
图12是图11的基板载台装置的剖面图。
[0032]
图13是显示图11的基板载台装置的第2系统的图。
[0033]
图14是显示图11的基板载台装置的第1系统的图。
[0034]
图15是显示第4实施形态的基板载台装置的俯视图。
[0035]
图16是图15的基板载台装置的剖面图。
[0036]
图17是显示图15的基板载台装置的第2系统的图。
[0037]
图18是显示图15的基板载台装置的第1系统的图。
[0038]
图19是显示第5实施形态的基板载台装置的俯视图。
[0039]
图20是图19的基板载台装置的剖面图。
[0040]
图21是显示图19的基板载台装置的第2系统的图。
[0041]
图22是显示图19的基板载台装置的第1系统的图。
[0042]
图23是显示第6实施形态的基板载台装置的图。
[0043]
图24是显示图23的基板载台装置的一部分的基板保持具的图。
[0044]
图25是显示包含图23的基板载台装置的一部分的基板台的系统的图。
[0045]
图26是用以说明第6实施形态的基板测量系统的构成的图。
[0046]
图27是用以说明图26的基板测量系统的动作的图。
[0047]
图28是显示第7实施形态的基板载台装置的图。
[0048]
图29是显示图28的基板载台装置的一部分的基板保持具的图。
[0049]
图30是显包含图28的基板载台装置的一部分的基板台的系统的图。
[0050]
图31用以说明第7实施形态的基板测量系统的构成的图。
[0051]
图32是显示第8实施形态的基板载台装置的图。
[0052]
图33是显示图32的基板载台装置的一部分的基板保持具的图。
[0053]
图34是显包含图32的基板载台装置的一部分的基板台的系统的图。
[0054]
图35是用以说明第8实施形态的基板测量系统的构成的图。
[0055]
图36是显示第9实施形态的基板载台装置的一部分的基板保持具的图。
[0056]
图37是显示包含第9实施形态的基板载台装置的一部分的基板台的系统的图。
[0057]
图38是用以说明第9实施形态的基板测量系统的构成的图。
[0058]
图39是显示第10实施形态的基板载台装置的一部分的基板保持具的图。
[0059]
图40是显示包含第10实施形态的基板载台装置的一部分的基板台的系统的图。
[0060]
图41是用以说明第10实施形态的基板测量系统的构成的图。
[0061]
图42是第10实施形态的基板载台装置的剖面图(其1)。
[0062]
图43是第10实施形态的基板载台装置的剖面图(其2)。
[0063]
图44是显示第11实施形态的基板载台装置的图。
[0064]
图45是显示图44的基板载台装置的一部分的基板保持具的图。
[0065]
图46是显示包含图44的基板载台装置的一部分的基板台的系统的图。
[0066]
图47是用以说明第11实施形态的基板测量系统的构成的图。
[0067]
图48是显示第12实施形态的基板载台装置的图。
[0068]
图49是显示图48的基板载台装置的一部分的基板保持具的图
[0069]
图50是显示包含图48的基板载台装置的一部分的重量抵销装置的系统的图。
[0070]
图51是显示包含图48的基板载台装置的一部分的y粗动载台的系统的图。
[0071]
图52是显示包含图48的基板载台装置的一部分的基板台的系统的图。
[0072]
图53是用以说明第12实施形态的基板测量系统的构成的图。
[0073]
图54是用以说明图53的基板测量系统的动作的图。
[0074]
图55是显示第13实施形态的基板载台装置的图。
[0075]
图56是显示图55的基板载台装置的一部分的基板保持具的图。
[0076]
图57是显示包含图55的基板载台装置的一部分的基板台的系统的图。
[0077]
图58是用以说明第13实施形态的基板测量系统的构成的图。
[0078]
图59是显示第14实施形态的基板载台装置的图。
[0079]
图60是显示第15实施形态的基板载台装置的图。
[0080]
图61是用以说明图60的基板载台装置的动作的图。
[0081]
图62是显示图60的基板载台装置的一部分的基板保持具的图。
[0082]
图63是显示包含图60的基板载台装置的一部分的基板台的系统的图。
[0083]
图64是显示第16实施形态的基板载台装置的图。
[0084]
图65是显示第17实施形态的基板载台装置的图。
[0085]
图66是显示第18实施形态的基板载台装置的图。
[0086]
图67是用以说明第18实施形态的基板测量系统的构成的图。
[0087]
图68是第18实施形态的基板测量系统的概念图。
[0088]
图69是显示第19实施形态的基板载台装置的图。
[0089]
图70是第19实施形态的基板测量系统的概念图。
[0090]
图71是将第20实施形态的液晶曝光装置所具有的基板保持具及基板测量系统的 一对读头座，与投影光学系统一起显示的俯视图。
[0091]
图72：图72(a)及图72(b)是用以说明进行基板保持具的位置测量时的基板 保持具的x轴方向移动范围的图。
[0092]
图73：图73(a)～图73(d)是用以说明于第20实施形态中，基板保持具往x 轴方向移动的过程中一对读头座与标尺的位置关系的状态迁移中的第1状态～第4状 态的图。
[0093]
图74：图74(a)～图74(c)是说明以第20实施形态的液晶曝光装置所进行的、 在测量基板保持具的位置信息的基板编码器系统的读头的切换时的接续处理的图。
[0094]
图75是将第21实施形态的液晶曝光装置所具有的基板保持具及基板编码器系统 的一对读头座，与投影光学系统一起显示的俯视图。
[0095]
图76是用以说明第22实施形态的液晶曝光装置的特征构成的图。
具体实施方式
[0096]
《第1实施形态》
[0097]
以下，使用图1～图6说明第1实施形态。
[0098]
图1中概略显示了第1实施形态的曝光装置(此处，为液晶曝光装置10)的构成。 液晶曝光装置10，是以物体(此处是玻璃基板p)为曝光对象物的步进扫描(step& scan)方式的投影曝光装置，是所谓的扫描机。玻璃基板p(以下，仅称为「基板p」) 是形成为俯视矩形
(方型)，用于液晶显示装置(平板显示器)等。
[0099]
液晶曝光装置10，具有：照明系统12、保持形成有电路图案等的掩膜m的掩膜载 台装置14、投影光学系统16、装置本体18、保持表面(图1中朝向 z侧的面)涂有抗 蚀剂(感应剂)的基板p的基板载台装置20、以及此等的控制系统等。以下，设曝光 时掩膜m与基板p分别相对投影光学系统16扫描的方向为x轴方向、水平面内与x轴正 交的方向为y轴方向、与x轴及y轴正交的方向为z轴方向(与投影光学系统16的光轴 方向平行的方向)，绕x轴、y轴及z轴的旋转方向分别为θx、θy及θz方向进行说明。 又，于x轴、y轴及z轴方向的位置分别设为x位置、y位置及z位置来进行说明。
[0100]
照明系统12，具有与美国专利第5,729,331号说明书等所揭示的照明系统同样的构 成，将从未图示的光源(水银灯、或激光二极管等)射出的光，分别透过未图示的反 射镜、分光镜、快门(shutter)、波长选择滤波器、各种透镜等，作为曝光用照明光 (照明光)il照射于掩膜m。作为照明光il，是使用i线(波长365nm)、g线(波长436nm)、 h线(波长405nm)等的光(或上述i线、g线、h线的合成光)。
[0101]
掩膜载台装置14保持的掩膜m，是使用穿透型的掩膜。于掩膜m的下面(图1中， 为朝向－z侧的面)形成有既定的电路图案。掩膜m，透过包含线性马达、滚珠螺杆 装置等致动器的掩膜驱动系统102，被主控制装置100(图1中皆未图示。参照图6)以 既定的长行程驱动于扫描方向(x轴方向)，并适当地被微幅驱动于y轴方向及θz方向。 掩膜m的xy平面内的位置信息(亦包含θz方向的旋转量信息。以下同)透过包含编 码器系统、或干涉仪系统等测量系统的掩膜测量系统104，由主控制装置100(图1中 皆未图示。参照图6)加以求出。
[0102]
投影光学系统16配置在掩膜载台装置14的下方。投影光学系统16，具有与美国专 利第6,552,775号说明书等所揭示的投影光学系统同样的构成，是所谓的多透镜投影光 学系统，具备两侧远心的等倍系统并形成正立正像的多个透镜模组。
[0103]
于液晶曝光装置10，当以来自照明系统12的照明光il照明掩膜m上的照明区域 时，即藉由通过(穿透)掩膜m的照明光il，透过投影光学系统16将其照明区域内的 掩膜m的电路图案的投影像(部分正立像)，形成于与基板p上的照明区域共轭的照明 光的照射区域(曝光区域)。并且藉由掩膜m相对照明区域(照明光il)移动于扫描 方向、且基板p相对曝光区域(照明光il)移动于扫描方向，据以进行基板p上的1个 照射(shot)区域的扫描曝光，于该照射区域转印形成在掩膜m的图案。
[0104]
装置本体18，支承掩膜载台装置14及投影光学系统16，透过防振装置19设置在无 尘室的地面f上。装置本体18，具有与美国专利申请公开第2008/0030702号说明书所 揭示的装置本体同样的构成，具有上架台部18a、一对中架台部18b、及下架台部18c。 由于上架台部18a是支承投影光学系统16的构件，因此，以下的本说明书中，将上架 台部18a称为「光学平台18a」来进行说明。此处，于使用本实施形态的液晶曝光装置 10的扫描曝光动作中，基板p是相对透过投影光学系统16被照射的照明光il进行位置 控制，因此，支承投影光学系统16的光学平台18a，其能发挥在进行基板p的位置控制 时的基准构件的功能。
[0105]
基板载台装置20，是用以相对投影光学系统16(照明光il)以高精度进行基板p 的位置控制的装置，将基板p沿水平面(x轴方向及y轴方向)以既定长行程加以驱动、 并微幅驱动于6自由度方向。于液晶曝光装置10所使用的基板载台装置的构成虽无特 别限定，于本第1实施形态，作为一例，是使用如美国专利申请公开第2012/0057140 号说明书等所揭
示的包含高架(gantry)式的2维粗动载台、与对该2维粗动载台被微 幅驱动的微动载台的所谓粗微动构成的基板载台装置20。
[0106]
基板载台装置20，具备：微动载台22、y粗动载台24、x粗动载台26、支承部(此 处，是自重支承装置28)、一对底座30(图1中一方未图示。参照图4)、用以驱动构成 基板载台装置20的各要素的基板驱动系统60(图1中未图示，参照图6)、以及用以测 量上述各要素的位置信息的基板测量系统70(图1中未图示，参照图6)等。
[0107]
如图2所示，微动载台22具备基板保持具32与载台本体34。基板保持具32形成为 俯视矩形(参照图4)的板状(或箱形)，于其上面(基板载置面)载置基板p。基板 保持具32上面的x轴及y轴方向的尺寸是设定成与基板p同程度(实际上略短)。基板p 在被载置于基板保持具32上面的状态下被真空吸附保持于基板保持具32，其大致全体 (全面)沿着基板保持具32的上面被平面矫正。载台本体34，是由x轴及y轴方向的 尺寸较基板保持具32短的俯视矩形的板状(或箱形)构件构成，于基板保持具32的下 面连接成一体。
[0108]
回到图1，y粗动载台24在微动载台22的下方(－z侧)、被置在一对底座30上。y 粗动载台24，如图4所示，具有一对x梁36。x梁36由延伸于x轴方向的yz剖面矩形(参 照图2)的构件构成。一对x梁36于y轴方向以既定间隔平行配置。一对x梁36透过机 械性的线性导件装置被载置于一对底座30上，在该一对底座30上于y轴方向移动自 如。
[0109]
回到图1，x粗动载台26在y粗动载台24的上方( z侧)、配置在微动载台22的下 方(微动载台22与y粗动载台24之间)。x粗动载台26系俯视矩形的板状构件，透过多 个机械性的线性导件装置38(参照图2)载置在y粗动载台24具有的一对x梁36(参照 图4)上，相对y粗动载台24于x轴方向移动自如，相对于此，于y轴方向则是与y粗 动载台24一体移动。
[0110]
如图6所示，基板驱动系统60，具备：用以将微动载台22相对光学平台18a(分别 参照图1)微幅驱动于6自由度方向(x轴、y轴、z轴、θx、θy及θz的各方向)的第1 驱动系统62、用以将y粗动载台24在底座30(分别参照图1)上以长行程驱动于y轴方 向的第2驱动系统64、以及用以将x粗动载台26在y粗动载台24(分别参照图1)上以 长行程驱动于x轴方向的第3驱动系统66。构成第2驱动系统64及第3驱动系统66的致 动器的种类虽无特别限定，但举一例而言，可使用线性马达或滚珠螺杆驱动装置等(图 1等中是显示线性马达)。
[0111]
构成第1驱动系统62的致动器的种类亦无特别限定，于图2等中，例如是显示产生 往x轴、y轴、z轴的各方向的推力的多个线性马达(音圈马达)40(图1及图2中未显 示x线性马达)。各线性马达40，其固定于被安装于x粗动载台26、且可动子被安装于 微动载台22的载台本体34，微动载台22相对x粗动载台26，透过各线性马达40于6自 由度方向被赋予推力。关于上述第1～第3驱动系统62、64、66的详细构成，例如以揭 露于美国专利申请公开第2010/0018950号说明书等，因此省略说明。
[0112]
主控制装置100，使用第1驱动系统62对微动载台22赋予推力，以使微动载台22 与x粗动载台26(分别参照图1)的相对位置于x轴及y轴方向被限制在既定范围内。 此处，所谓「位置被限制在既定范围内」，是指在使微动载台22于x轴或y轴方向以长 行程移动时，使x粗动载台26(使微动载台22往y轴方向移动时，是x粗动载台26及y 粗动载台24)与微动载台22以大致同速度且同方向移动的程度的意思，微动载台22 与x粗动载台26无须严谨的同步移动，容许既定的相对移动(相对位置偏移)。
[0113]
回到图2，自重支承装置28，具备：从下方支承微动载台22的自重的重量抵销装 置
42、与从下方支承该重量抵销装置42的y步进导件44。
[0114]
重量抵销装置42(亦称心柱等)是插入形成在x粗动载台26的开口部，于其重心 高度位置，透过多个连结构件46(亦称挠曲(flexure)装置)机械性的连接于x粗动 载台26。x粗动载台26与重量抵销装置42是藉由多个连结构件46，以在z轴方向、θx 方向、θy方向振动上(物理上)分离的状态连结。重量抵销装置42藉由被x粗动载台 26牵引，而与该x粗动载台26一体的往x轴及/或y轴方向移动。
[0115]
重量抵销装置42，透过被称为调平装置48的拟似球面轴承装置从下方以非接触方 式支承微动载台22的自重。据此，容许微动载台22对重量抵销装置42往x轴、y轴及θz 方向的相对移动、及对水平面的摆动(往θx、θy方向之相对移动)。关于重量抵销装 置42、调平装置48的构成及功能，例如已揭露于美国专利申请公开第2010/0018950 号说明书等，因此省略说明。
[0116]
y步进导件44由与x轴平行延伸的构件构成，配置在y粗动载台24具有的一对x梁 36之间(参照图4)。y步进导件44的上面被设定为与xy平面(水平面)平行，重量 抵销装置42透过空气轴承50以非接触方式被载置于y步进导件44上。y步进导件44， 其功能在于作为重量抵销装置42(亦即微动载台22及基板p)往x轴方向(扫描方向) 移动时的平台。y步进导件44透过机械性的线性导件装置52被载置于下架台部18c上， 相对下架台部18c能于y轴方向移动自如，而于x轴方向的相对移动则受到限制。
[0117]
y步进导件44，于其重心高度位置透过多个连结构件54机械性的连接于y粗动载 台24(一对x梁36)(参照图4)。连结构件54是与上述连结构件46相同的所谓的挠曲 装置，将y粗动载台24与y步进导件44，于6自由度方向中除y轴方向以外的5自由度 方向以振动上(物理上)分离的状态加以连结。y步进导件44藉由被y粗动载台24牵 引，而与y粗动载台24一体的往y轴方向移动。
[0118]
一对底座30，如图4所示，分别由与y轴平行延伸的构件构成，彼此平行的设置 在地面f(参照图1)上。底座30与装置本体18在物理上(或振动上)分离。
[0119]
接着，说明用以求出基板p(实际上，是保持了基板p的微动载台22)的6自由度 方向的位置信息的基板测量系统70。
[0120]
图3中显示了基板测量系统70的概念图。基板测量系统70，具备：包含y粗动载 台24具有(被与y粗动载台24赋予关连)的第1标尺(此处，是朝上标尺72)、与微动 载台22具有的第1读头(此处，是朝下x读头74x、朝下y读头74y)的第1测量系统(此 处，是微动载台测量系统76(参照图6))、以及包含光学平台18a(参照图2)具有的 第2标尺(此处，是朝下标尺78)与y粗动载台24具有的第2读头(此处，是朝上x读 头80x、朝上y读头80y)的第2测量系统(此处，是粗动载台测量系统82(参照图6))。 此外，图3中，微动载台22是作为保持基板p的构件，被模式化显示。又，各标尺72、 78具有的绕射光栅的格子间的间隔(pitch)亦显示的远大于实际。其他图亦同。又， 由于各读头与各标尺的距离远较已知的光干涉仪系统的激光源与棒状镜的距离短，因 此空气波动的影响较光干涉仪系统少，能以高精度进行基板p的位置控制，据此，能 提升曝光精度。
[0121]
朝上标尺72，固定在标尺座84(scale base)的上面。标尺座84，如图4所示，于 微动载台22的 y侧及－y侧分别配置有1个。标尺座84，如图2所示，透过从x轴方 向观察形成为l字状的臂构件86固定在y粗动载台24的x梁36。因此，标尺座84(及朝 上标尺72)能与y粗
动载台24一体的于y轴方向以既定长行程移动。臂构件86，如图4 所示，就1个x梁36，于x轴方向分离配置有2个，但臂构件86的数量不限于此，可适 当增减。
[0122]
标尺座84是与x轴平行延伸的构件，其x轴方向长度被设定为基板保持具32(亦 即基板p(图4中未图示))的x轴方向长度的2倍程度(与y步进导件44同程度)。标尺 座84，以陶瓷等不易产生热变形的材料形成较佳。后述其他的标尺座92、读头座(headbase)88、96亦同。
[0123]
朝上标尺72是延伸于x轴方向的板状(带状)构件，于其上面(朝向 z侧(上 侧)之面)形成有以彼此正交的2轴方向(本实施形态中为x轴及y轴方向)为周期方 向的反射型2维绕射光栅(所谓的光栅(grating))。
[0124]
于基板保持具32的 y侧及－y侧的侧面中央部，对应上述标尺座84，分别有读 头座88透过臂构件90被固定(参照图2)。各朝下读头74x、74y(参照图3)是固定在 读头座88的下面。
[0125]
本实施形态的微动载台测量系统76(参照图6)，如图3所示，相对1个读头座88， 分别于x轴方向分离配置有2个朝下x读头74x及朝下y读头74y。各读头74x、74y，对 对应的朝上标尺72照射测量光束，并接收来自该朝上标尺72的光(此处，是绕射光)。 来自朝上标尺72的光，被供应至未图示的侦测器(detecter)，侦测器的输出被供应至 主控制装置100(参照图6)。主控制装置100，根据侦测器的输出，求出各读头74x、 74y相对标尺72的相对移动量。又，本说明书中，所谓「读头」，仅是指对绕射光栅射 出测量光束、且来自绕射光栅的光射入的部分的程度，各图中的读头本身，可不具备 光源及侦测器。
[0126]
如以上所述，本实施形态的微动载台测量系统76(参照图6)是藉由合计4个(于 基板p的 y侧及－y侧分别有2个)的朝下x读头74x与对应的朝上标尺72，构成4个x 线性编码器系统，并以合计4个(基板p的 y侧及－y侧分别有2个)的朝下y读头74y、 与对应的朝上标尺72，构成4个y线性编码器系统。主控制装置100(参照图6)是当 使用上述4个x线性编码器系统、及4个y线性编码器系统的输出，求出微动载台22(基 板p)的x轴方向、y轴方向、及θz方向的位置信息(以下，称「第1信息」)。
[0127]
此处，朝上标尺72的于x轴方向的可测量距离，被设定得于y轴方向的可测量距 离长。具体而言，如图4所示，朝上标尺72的x轴方向长度与标尺座84为同程度的长 度，是设定为能涵盖微动载台22的x轴方向可移动范围程度的长度。相对于此，朝上 标尺72的宽度方向(y轴方向)尺寸(及于y轴方向相邻的一对读头74x、74y间的间 隔)则是设定为即使将微动载台22相对朝上标尺72往y轴方向微幅驱动，来自各读头 74x、74y的测量光束亦不会从对应的朝上标尺72的格子面(被测量面)脱离程度的长 度。
[0128]
接着，使用图4及图5说明微动载台测量系统76(参照图6)的动作。图4及图5， 显示了微动载台22往x轴及y轴方向以长行程移动前后的基板载台装置20。图4，显示 了微动载台22位于往x轴及y轴方向可移动范围的大致中央的状态，图5则显示微动载 台22位于x轴方向的可移动范围的 x侧行程终点、且位于y轴方向的－y侧行程终点 的状态。
[0129]
由图4及图5可知，与微动载台22的y轴方向位置无关的，来自安装在微动载台22 的各朝下读头74x、74y的测量光束，包含微动载台22被微幅驱动于y轴方向的情形， 亦不会从朝上标尺72的格子面脱离。又，在微动载台22往x轴方向以长行程移动的情 形时，亦同样的，来自各朝下读头74x、74y的测量光束不会从朝上标尺72的格子面脱 离。
[0130]
接着，说明粗动载台测量系统82(参照图6)。本实施形态的粗动载台测量系统82， 由图1及图4可知，于投影光学系统16(参照图1)的 y侧及－y侧分别具有2个于x 轴方向分离的朝下标尺78(亦即，合计共4个朝下标尺78)。朝下标尺78是透过标尺座 92(参照图2)固定在光学平台18a的下面。标尺座92是延伸于y轴方向的板状构件， 其y轴方向长度被设定为与微动载台22(亦即基板p(图4中未图示))于y轴方向的可 移动距离同程度(实际上略长)。
[0131]
朝下标尺78是延伸于y轴方向的板状(带状)构件，于其下面(朝向－z侧(下 侧)的面)，与上述朝上标尺72的上面同样的，行程有以彼此正交的2轴方向(本实施 形态中为x轴及y轴方向)为周期方向的反射型2维绕射光栅(所谓的光栅(grating))。 又，朝下标尺78所具有的绕射光栅之格子间距，可与朝上标尺72所具有的绕射光栅的 格子间距相同、亦可不同。
[0132]
于y粗动载台24所具有的一对标尺座84的各个，如图2所示，透过从x轴方向观察 形成为l字状的臂构件94固定有读头座96。读头座96，如图4所示，配置在标尺座84 的 x侧端部近旁、及－x侧端部近旁。各朝上读头80x、80y，如图3所示，固定在读 头座96的上面。因此，合计共4个读头座96(及朝上读头80x、80y)，可与y粗动载台 24一体的往y轴方向移动。
[0133]
本实施形态的粗动载台测量系统82(参照图6)，如图3所示，对于1个读头座96， 分别于y轴方向分离配置有2个朝上x读头80x及朝上y读头80y。各读头80x、80y，对 对应的朝下标尺78照射测量光束、并接收来自该朝下标尺78的光(此处，是绕射光)。 来自朝下标尺78的光被供应至未图示的侦测器，侦测器的输出被供应至主控制装置 100(参照图6)。主控制装置100，根据侦测器的输出求出各读头80x、80y相对标尺78 的移动量。如以上所述，于本实施形态的粗动载台测量系统82，是以合计共8个的朝 上x读头80x与对应的朝下标尺78，构成8个x线性编码器系统，并以合计共8个的朝上 y读头80y与对应的朝下标尺78，构成8个y线性编码器系统。主控制装置100(参照图 6)，适当使用上述8个x线性编码器系统及8个y线性编码器系统的输出，求出y粗动 载台24的x轴方向、y轴方向及θz方向的位置信息(以下，称「第2信息」)。
[0134]
又，固定在标尺座84的朝上标尺72、与透过读头座96一体的固定于标尺座84的各 朝上读头80x、80y，被配置成彼此的位置关系不变、且彼此的位置关系为已知。以下， 将关于朝上标尺72、与一体的被固定于此的各朝上读头80x、80y的相对位置关系的信 息，称为「第3信息」。又，虽说明朝上标尺72与朝上读头80x、80y的位置关系被配置 成不变，但亦可由液晶曝光装置10具备测量两者的位置关系的测量系统。后述的各实 施例亦同。
[0135]
主控制装置100(参照图6)根据上述第1～第3信息，求出以光学平台18a(投影 光学系统16)为基准的微动载台22(基板p)的xy平面内的位置信息，使用上述基板 驱动系统60(参照图6)进行基板p相对投影光学系统16(照明光il)的位置控制。
[0136]
如以上所述，于本实施形态的基板测量系统70，藉由包含y轴方向的可测量距离 较x轴方向长(以y轴方向为主测量方向)的朝下标尺78的粗动载台测量系统82，求 出往y轴方向以长行程移动的y粗动载台24的位置信息，且藉由包含x轴方向的可测 量距离较y轴方向长(以x轴方向为主测量方向)的朝上标尺72的微动载台测量系统 76，求出往x轴方向以长行程移动的微动载台22的位置信息。亦即，于粗动载台测量 系统82及微动载台测量系统76，各编码器读头(74x、74y、80x、80y)的移动方向与 对应的标尺(72、78)的主测量方向是
射光栅，但亦可于标尺72、78上个别的分别形成以x轴方向为周期方向的x绕射光栅、 与以y轴方向为周期方向的y绕射光栅。又，本实施形态的2维绕射光栅虽是以x轴及 y轴方向为周期方向，但只要是能以所欲的精度进行基板p于xy平面内的位置测量的 话，则绕射光栅的周期方向不限于此，可适当变更。
[0146]
又，基板p的z倾斜位置信息，可于读头座88安装朝下的变位传感器、并使用该 变位传感器以标尺座84(或朝上标尺72的反射面)为基准进行测量。此外，亦可将多 个朝下读头74x、74y中的至少3个读头，做成除了与水平面平行的方向的位置测量外， 亦能进行铅直方向的测量的2维读头(所谓的xz读头、或yz读头)，藉由该2维读头， 使用朝上标尺72的格子面来求出基板p的z倾斜位置信息。同样的，亦可将y粗动载台 24的z倾斜信息以标尺座92(或朝下标尺78)为基准来加以测量。作为xz读头或yz 读头，可使用与例如美国专利第7,561,280号说明书所揭示的变位测量传感器读头相同 构成的编码器读头。
[0147]
《第2实施形态》
[0148]
其次，针对第2实施形态的液晶曝光装置，使用图7～图10加以说明。第2实施形 态的液晶曝光装置的构成，除了基板载台装置220(含测量系统)的构成不同外，与 上述第1实施形态大致相同，因此，以下仅针对差异点加以说明，针对与上述第1实施 形态具有相同构成或功能的要素，则赋予与上述第1实施形态相同的符号并适当省略 其说明。
[0149]
本第2实施形态的基板载台装置220，具有包含第1移动体(此处，为基板保持具 32)的第1系统、与包含第2移动体(此处，为x粗动载台222)的第2系统。图9、图 10是分别仅显示第2系统、第1系统的俯视图。
[0150]
如图9所示，x粗动载台222与上述第1实施形态的y粗动载台24(参照图1)同样 的，是在设置在地面f(参照图8)上的一对底座224上透过机械式的线性导件装置(参 照图8)，以能于x轴方向移动自如的状态载置。在x粗动载台222的于x轴方向的两端 部近旁的各个，安装有y固定子226。y固定子226由延伸于y轴方向的构件构成，于 其长边方向两端部近旁安装有x可动子228。各x可动子228与x固定子230(图8中未 图示)协同动作而构成x线性马达，x粗动载台222被合计4个x线性马达以既定的长 行程驱动于x轴方向。x固定子230是以和装置本体18(参照图1)物理上分离的状态 设置在地面f上。
[0151]
如图8所示，基板保持具32透过y台234被载置在y梁导件232上。y梁导件232， 如图10所示，由延伸于y轴方向的构件构成，于其下面的长边方向两端部近旁安装有 x滑件236。各x滑件236，以能于x轴方向移动自如的状态卡合于固定在下架台部18c (参照图8)的x导件238。又，于y梁导件232的长边方向两端部近旁安装有x可动子 240。各x可动子240与x固定子230(参照图9)协同动作而构成x线性马达，y梁导件 232被合计2个x线性马达以既定的长行程驱动于x轴方向。
[0152]
如图8所示，y台234是以剖面倒u字状的构件构成，在一对对向面间透过摆动自 如地安装的空气轴承242插入y梁导件232。又，y台234，是对y梁导件232的上面从 未图示的空气轴承喷出加压气体，据以透过微小的间隙被载置在y梁导件232上。据 此，y台234即相对y梁导件232，于y轴方向以长行程移动自如、且于θz方向以微小角 度旋转自如。此外，y台234于x轴方向，是藉由以上述空气轴承242形成的气体膜的 刚性而与y梁导件232一体的移动。于y台234的x轴方向的两端部近旁，分别安装有y 可动子244。y可动子244与y固定子226协同动作而构成y线性马达，y台234被合计2 个的y线性马达于y轴方向沿着y梁导件232被以
将第1移动体(此处是基板保持具32)的位置信息透过第2移动体(此处是y梁导件232) 以光学平台18a(参照图1)为基准加以求出。y梁导件232是一能将与基板保持具32 于x轴方向的位置控制在既定范围内的可移动构件。以下，具体说明基板测量系统 350。
[0162]
如图14所示，于y梁导件232的上面固定有朝上标尺352。此外，于y台234(图14 中未图示。参照图12)的y轴方向的两侧面，分别固定有读头座354。于各读头座354， 与上述第1及第2实施形态同样的，以和朝上标尺352对向的方式安装有2个朝下x读头 74x与2个朝下y读头74y。基板保持具32相对y梁导件232于xy平面内的位置信息，是 使用合计4个x线性编码器与合计4个y线性编码器，由主控制装置(未图示)加以求 出。
[0163]
又，于y梁导件232的y轴方向的两端部近旁，分别固定有读头座356。于读头座 356，与上述第1实施形态同样的，以和固定在光学平台18a(参照图1)下面的对应的 朝下标尺358对向的方式，安装有2个朝上x读头80x与2个朝上y读头80y。朝上标尺352 与安装在读头座356的各读头80x、80y的相对位置关系，为已知。y梁导件232相对光 学平台18a于xy平面内的位置信息，是使用合计4个x线性编码器与合计4个y线性编 码器，由主控制装置(未图示)加以求出。本第3实施形态与上述第2实施形态相较， 朝上标尺352、朝下标尺358的数量分别较少，因此构成简单。
[0164]
《第4实施形态》
[0165]
接着，使用图15～图18，说明第4实施形态的液晶曝光装置。第4实施形态的液晶 曝光装置的构成，除基板载台装置420(含测量系统)的构成相异外，与上述第2实施 形态大致相同，因此，以下仅说明差异点，针对与上述第2实施形态具有相同构成或 功能的要素，是赋予与上述第2实施形态相同的符号并适当省略其说明。
[0166]
第4实施形态的基板载台装置420，与上述第2实施形态同样的，具有包含基板保 持具32的第1系统(参照图18)与包含x粗动载台222的第2系统(参照图17)。
[0167]
如图16所示，于x粗动载台222的下面固定有x可动子422。x可动子422与一体的 安装在一对底座224的x固定子424协同动作，而构成用以将x粗动载台222往x轴方向 以既定长行程驱动的x线性马达。于x粗动载台222的x轴方向的两端部近旁，分别安 装有xy固定子426。
[0168]
y梁导件232，是以4个连结构件428(参照图15)机械性的连结于x粗动载台222。 连结构件428的构成与上述连结构件46、54(参照图2)相同。据此，当x粗动载台222 被x线性马达驱动于x轴方向时，因y梁导件232被x粗动载台222牵引，而与该x粗动 载台222一体的往x轴方向移动。
[0169]
于y梁导件232上，以非接触状态载置有y台430。于y台430上固定有基板保持具 32。于y台430的x轴方向两端部近旁，分别安装有xy可动子432。xy可动子432与xy 固定子426协同动作而构成xy2dof马达，y台430被合计2个xy2dof马达以既定长行 程驱动于y轴方向，并被微幅驱动于x方向及θz方向。又，在x粗动载台222(及y梁 导件232)于x轴方向以长行程移动时，未图示的主控制装置，使用合计2个xy2dof 马达，于x轴方向作用出推力，以使y台430(亦即基板保持具32)与y梁导件232在x 轴方向维持既定的位置关系。亦即，x粗动载台222是一能将与基板保持具32于x轴方 向的位置控制在既定范围内的可移动构件。又，与上述第2实施形态不同的，y台430 不具有可摆动的空气轴承242(参照图8)，本实施形态的y梁导件232，实际上不引导 y台430往y轴方向的移动。
[0170]
第4实施形态的基板测量系统450，概念上，亦与上述第1～第3实施形态同样的， 将第1移动体(此处是基板保持具32)的位置信息透过第2移动体(此处是x粗动载台 222)以光学平台18a(参照图1)为基准加以求出。以下，具体说明基板测量系统450。
[0171]
如图17所示，一对xy固定子426中，于一方(此处是－x侧)的xy固定子426上 面，固定有朝上标尺452。又，如图18所示，于基板保持具32的－x侧的侧面，以在y 轴方向分离的状态固定有一对读头座454。于各读头座454，与上述第1～第3实施形态 同样的，以和朝上标尺452对向的方式，安装有2个朝下x读头74x与2个朝下y读头74y (图16参照)。基板保持具32相对x粗动载台222于xy平面内的位置信息，是使用合 计4个x线性编码器与合计4个y线性编码器，由主控制装置(未图示)加以求出。
[0172]
此外，如图17所示，于－x侧的xy固定子426，在y轴方向分离固定有一对读头 座456。于读头座456，与上述第1实施形态同样的，以和固定在光学平台18a(参照图 1)下面的对应的朝下标尺458对向的方式，安装有2个朝上x读头80x与2个朝上y读头 80y(参照图15)。朝上标尺452与安装在读头座456的各读头80x、80y的相对位置关系， 为已知。x粗动载台222相对光学平台18a于xy平面内的位置信息，是使用合计4个x 线性编码器与合计4个y线性编码器，由主控制装置(未图示)加以求出。又，以可 仅在一对xy固定子426中的另一方、或两方安装朝上标尺452。在 x侧的xy固定子 426安装朝上标尺452的情形时，对应该朝上标尺452，追加配置读头座454、456、朝 下标尺458较佳。
[0173]
《第5实施形态》
[0174]
接着，使用图19～图22，说明第5实施形态的液晶曝光装置。第5实施形态的液晶 曝光装置的构成，除基板测量系统550的构成不同外，与上述第4实施形态大致相同。 又，基板测量系统550的构成，与上述第3实施形态的基板测量系统350(参照图11等) 大致相同。以下，仅说明差异点，针对与上述第3或第4实施形态具有相同构成或功能 的要素，是赋予与上述第3或第4实施形态相同的符号并适当省略其说明。
[0175]
第5实施形态的基板载台装置520的构成(除测量系统外)，与上述第4实施形态的 基板载台装置420(参照图15)实质相同。亦即，基板载台装置520，具有包含基板保 持具32的第1系统(参照图22)与包含x粗动载台222的第2系统(参照图21)，x粗动 载台222与y梁导件232往x轴方向一体移动。固定有基板保持具32的y台430，藉由2 个2dof马达相对x粗动载台222以长行程被驱动于y轴方向、并被微幅驱动于x轴方 向及θz方向。已知的粗动载台虽是根据测量精度低的编码器的测量结果来加以驱动， 本实施形态则能根据高精度的2维编码器的测量结果进行x粗动载台222的驱动控制。 如此一来，虽能获得较已知微动载台高精度的定位，但x粗动载台222就位置控制而 言，并无微动载台(本实施形态中为基板保持具32)等级的应答性。因此，基板保持 具32的x位置，在扫描动作中希望能控制成与x粗动载台222的位置无关的，以一定速 度一边进行精密的定位、一边移动。从而，即是相对一边进行低应答性的粗糙的定位 控制一边移动的x粗动载台222，于x轴方向相对的被微幅驱动。此时，当x粗动载台 222加速时，可能会产生编码器对朝上标尺452的读取误差。因此，x粗动载台222， 相反的，最好是被控制成以缓慢的定位(低应答性)移动。后述各实施形态中，于扫 描动作驱动粗动载台的实施形态，最好是以同样方式控制粗动载台。
[0176]
又，第5实施形态的基板测量系统550的构成，与上述第3实施形态的基板测量系 统350(参照图11)实质相同，第1移动体(此处是基板保持具32)的位置信息，是透 过第2移
动体(此处是y梁导件232)以光学平台18a(参照图1)为基准求出。具体而 言，于固定在y台430(参照图20)的一对读头座354，以和固定在y梁导件232上面的 朝上标尺352对向的方式，安装有2个朝下x读头74x与2个朝下y读头74y(分别参照图 22)，基板保持具32相对y梁导件232的xy平面内的位置信息，使用合计4个x线性编 码器与合计4个y线性编码器由主控制装置(未图示)加以求出。又，于固定在y梁导 件232的一对读头座356，以和固定在光学平台18a(参照图1)下面的对应的朝下标尺 358对向的方式，安装有2个朝上x读头80x与2个朝上y读头80y(参照图19)。y梁导 件232相对光学平台18a的xy平面内的位置信息，使用合计4个x线性编码器与合计4 个y线性编码器由主控制装置(未图示)加以求出。
[0177]
《第6实施形态》
[0178]
接着，使用图23～图27说明第6实施形态的液晶曝光装置。第6实施形态的液晶曝 光装置的构成，除基板载台装置620及其测量系统的构成有所差异外，与上述第1实施 形态大致相同，因此，以下仅说明差异点，针对与上述第1实施形态具有相同构成或 功能的要素，是赋予与上述第1实施形态相同符号并适当省略其说明。
[0179]
如图23所示，基板载台装置620，具备：包含第1移动体(此处是基板保持具622)、 第2移动体(此处是测量台624)的基板测量系统680、基板台626、及x粗动载台628 等。
[0180]
如图24所示，基板保持具622，是一组合延伸于y轴方向的一对构件与延伸于x轴 方向的一对构件的俯视矩形框状(画框状)构件，基板p配置在基板保持具622的开口 内。从基板保持具622的内壁面突出4个吸附垫630，基板p被载置在此等吸附垫630上。 各吸附垫630，吸附保持设定在基板p下面外周缘部的非曝光区域(于本实施形态，是 4个角部近旁)。
[0181]
基板p中、包含中央部的曝光区域(外周缘部以外的区域)，如图26所示，被基板 台626从下方以非接触方式支承。相对于上述第1～第5实施形态中的基板保持具32(参 照图2等)是藉由吸附保持基板p来进行平面矫正，本第6实施形态的基板台626，则是 藉由并行对基板p下面的加压气体的喷出、以及基板p与基板台626上面之间的气体的 吸引，来以非接触状态进行基板p的平面矫正。又，基板保持具622与基板台626是物 理性的分离配置。因此，被保持在基板保持具622的基板p，是与该基板保持具622一 体的可相对基板台626在xy平面内相对移动的状态。于基板台626的下面，如图23所 示，与上述第1实施形态同样的固定有载台本体632。
[0182]
x粗动载台628，是用以使基板台626于x轴方向以长行程移动的构件，透过机械 性的线性导件装置636以在x轴方向移动自如的状态，载置在地面f上以和下架台部 18c物理性分离的状态设置的一对底座634上。x粗动载台628，被未图示的致动器(线 性马达或滚珠螺杆装置等)在一对底座634上以长行程驱动于x轴方向。
[0183]
在x粗动载台628的x轴方向两端部近旁，固定有y固定子638(图23中，一方未 图示)。y固定子638，与y可动子640协同动作而构成y线性马达。y可动子640，被机 械性的拘束成当y固定子638往x轴方向移动时，即一体的往x轴方向移动。于y可动 子640，安装有与安装在基板保持具622的可动子642(参照图24)协同动作而构成 xy2dof马达的固定子644。
[0184]
如图25所示，基板台626透过载台本体632(图25中未图示。参照图23)，透过多 个连结构件646机械性的连结于x粗动载台628(图25中未图示，图25中是对y固定子 638)。连结构件646的构成与上述连结构件46、54(参照图2)相同。如此，当x粗动 载台628往x轴方向以长行程移动时，基板台626即被x粗动载台628牵引而与该x粗动 载台628一体的往x轴方
向移动。上述第1～第5实施形态中，基板保持具32是相对投 影光学系统16往x轴及y轴方向以长行程移动(参照图5等)，相对于此，本第6实施形 态的基板台626则是构成为仅能于x轴方向以长行程移动，而于y轴方向则无法移动。 又，图25中，为易于理解，与图23不同的，y固定子638、y可动子640、固定子644 是配置成平面(同一高度位置)，但藉由将y固定子638的高度位置做成与基板保持具 622同等，实际上，即能配置成如图25所示。
[0185]
回到图23，载台本体632，透过与上述第1实施形态相同的仿球面轴承装置(图23 中是隐藏在y可动子640等的纸面深处而未图示)，被配置在形成于x粗动载台628中央 部的开口部(未图示)内的重量抵销装置42从下方加以支承。重量抵销装置42的构成 与上述第1实施形态相同，透过未图示的连结构件连结于x粗动载台628，与x粗动载 台628一体的仅于x轴方向以长行程移动。重量抵销装置42被载置于x导件648上。本 实施形态的重量抵销装置42，由于是构成为仅能于x轴方向移动，因此与上述第1实 施形态中的y步进导件44(参照图2)不同的，x导件648是固定在下架台部18c。就载 台本体632是被多个线性线圈马达(图23中是隐藏在y固定子638的纸面深处)相对x 粗动载台628微幅驱动于z轴、θx、θy的各方向的点而言，是与上述第1实施形态相同 的。
[0186]
又，于载台本体632的y轴方向两侧面，透过支承构件650安装有多个空气导件 652。空气导件652，如图25所示，是一俯视矩形的构件，本实施形态中，于基板台626 的 y侧及－y侧分别配置有4个。由4个空气导件652形成的导引面的y轴方向长度被 设定为与基板台626同等，该导引面的高度位置被设定为与基板台626的上面同等(或 略低)。
[0187]
于基板载台装置620(参照图23)，当在扫描曝光时等x粗动载台628以长行程移 动于x轴方向时，基板台626(及多个空气导件652)即被该x粗动载台628牵引而一体 的以长行程移动于x轴方向。又，藉由固定在x粗动载台628的y固定子638往x轴方向 移动，安装在y可动子640的2dof马达的固定子644(参照图25)亦往x轴方向移动。 未图示的主控制装置，以基板台626与基板保持具622于x轴方向的位置在既定范围内 的方式，控制2dof马达对基板保持具622赋予x轴方向的推力。又，主控制装置控制 2dof马达，将基板保持具622相对基板台626适当的微幅驱动于x轴、y轴及θz方向。 如以上所述，本实施形态中，基板保持具622具有所谓的微动载台的功能。
[0188]
相对于此，在照射区域(曝光区域)间移动时等，有需要使基板p移动于y轴方 向的情形时，如图27所示，主控制装置藉由y线性马达使y可动子640移动于y轴方向， 并使用2dof马达使y轴方向的推力作用于基板保持具622，据以相对基板台626使基 板保持具622移动于y轴方向。基板p中，透过投影光学系统16(参照图23)投影掩膜 图案的区域(曝光区域)，是以恒能藉由基板台626进行平面矫正的方式，设定基板台 626的y轴方向尺寸。各空气导件652，是配置成不会阻碍基板保持具622与基板台626 往y轴方向的相对移动(不会与基板保持具622接触)。各空气导件652，藉由对基板p 的下面喷出加压气体而与基板台626协同动作，从下方支承基板p中、从基板台626突 出的部分。又，各空气导件652，与基板台626不同的，不会进行基板p的平面矫正。 于基板载台装置620，如图27所示，在基板p被基板台626与空气导件652支承的状态下， 将基板台626及基板保持具622分别相对投影光学系统16(参照图23)驱动于x轴方向， 据以进行扫描曝光。又，空气导件652，可与载台本体632一体的驱动于x轴方向、亦 可不驱动。空气导件652不被驱动于x轴方向的情形时，将x轴方向的尺寸做成与基板 p的x轴方向驱动范围同程度较佳。据此，可防止未被基板台626支承
的基板的部分区 域不被支承。
[0189]
接着，说明第6实施形态的基板测量系统680的构成及动作。上述第1实施形态(参 照图2等)中，是将第1移动体(第1实施形态中为微动载台22)的位置信息透过用以 驱动微动载台22的构件的y粗动载台24以光学平台18a为基准加以求出，相对于此， 本第6实施形态(参照图23)中，则是将第1移动体(此处是基板保持具622)的位置 信息，透过与基板保持具622分开独立配置的第2移动体(此处是测量台624)以光学 平台18a为基准加以求出。本第6实施形态中，测量台624，在投影光学系统16的 y 侧及－y侧分别于x轴方向分离配置有2个(合计4个)(参照图23、图26等)，但测量 台624的数量及配置可适当变更，不限定于此。
[0190]
测量台624，如图23所示，被悬吊于光学平台18a下面的状态固定的y线性致动器 682，于y轴方向以既定(与基板保持具622可往y轴方向的移动距离同等)行程驱动。 y线性致动器682的种类无特别限定，可使用线性马达或滚珠螺杆装置等。
[0191]
与上述第1实施形态的读头座96(参照图2、图3等)同样的，于各测量台624的上 面，如图26所示，安装有2个朝上x读头80x与2个朝上y读头80y。
[0192]
又，如图23所示，于光学平台18a的下面，与各测量台624对应的(亦即4个)，与 上述第1实施形态的朝下标尺78(参照图2、图3等)同样的固定(参照图26)有延伸 于y轴方向的朝下标尺684。朝下标尺684，以测量台624的于y轴方向的测量范围较于 x轴方向的测量范围广(长)的方式，于其下面具有2维绕射光栅。本实施形态中， 以各测量台624所具有的2个朝上x读头80x与对应的朝下标尺684(固定标尺)构成2 个x线性编码器系统，并以各测量台624所具有的2个朝上y读头80y与对应的朝下标尺 684(固定标尺)构成2个y线性编码器系统。
[0193]
主控制装置(未图示)，如图27所示，在将基板保持具622以长行程驱动于y轴方 向时，控制各测量台624的y轴方向的位置，以使相对该基板保持具622的y轴方向位 置在既定范围内。因此，合计4个的测量台624，实质上进行相同动作。又，4个测量 台624，无须严谨的分别同步移动，亦无需严谨的与基板保持具622同步移动。主控制 装置，适当使用上述2个x线性编码器系统及2个y线性编码器系统的输出，独立求出 各测量台624的x轴方向、y轴方向及θz方向的位置信息。
[0194]
回到图26，于 y侧的2个测量台624的下面，安装有延伸于x轴方向的朝下标尺 686(参照图23)。亦即，2个测量台624协同动作悬吊支承朝下标尺686。于－y侧的2 个测量台624的下面，亦同样的安装有延伸于x轴方向的朝下标尺686。朝下标尺686， 以基板保持具622的于x轴方向的测量范围较于y轴方向的测量范围广(长)的方式， 其下面具有2维绕射光栅。固定在测量台624的各朝上读头80x、80y与朝下标尺686的 相对位置关系为已知。
[0195]
如图24所示，于基板保持具622知上面，对应合计2个的朝下标尺684(参照图26)， 固定有2个读头座688。读头座688，是在基板保持具622保持有基板p的状态下，于基 板p的 y侧、－y侧分别夹着基板p的中央部配置。于读头座688的上面，安装有2个 朝上x读头80x与2个朝上y读头80y。
[0196]
如上所述，基板保持具622与各测量台624(亦即2个朝下标尺686)是被位置控制 成y轴方向的位置在既定范围内。具体而言，各测量台624的y轴方向的位置，是被控 制成来自安装在基板保持具622的各读头80x、80y的测量光束，不会从朝下标尺686 的格子面脱离。亦即，基板保持具622与各测量台624是于同方向以大致同速度移动， 以恒保持读头座
688与朝下标尺686的对向状态。
[0197]
如上所述，本第6实施形态，以基板保持具622所具有的4个朝上x读头80x与对应 的朝下标尺686(可动标尺)构成4个x线性编码器系统，并以基板保持具622所具有 的4个朝上y读头80y与对应的朝下标尺686(可动标尺)构成4个y线性编码器系统。 主控制装置(未图示)根据上述4个x线性编码器系统及4个y线性编码器的输出，求 出基板保持具622相对合计4个测量台624于xy平面内的位置信息。主控制装置根据基 板保持具622相对各测量台624的位置信息(第1信息)、各测量台624相对光学平台18a 的位置信息(第2信息)、以及在各测量台624的朝上读头80x、80y与朝下标尺686的位 置信息(第3信息)，以光学平台18a为基准求出基板保持具622(基板p)的位置信息。
[0198]
《第7实施形态》
[0199]
接着，使用图28～图31，说明第7实施形态的液晶曝光装置。第7实施形态的液晶 曝光装置的构成，除了基板载台装置720及其测量系统的构成不同外，与上述第6实施 形态大致相同，因此，以下仅就差异点加以说明，针对与上述第6实施形态具有相同 构成或功能的要素，是赋予与上述第6实施形态相同符号，并适当省略其说明。
[0200]
本第7实施形态中，基板载台装置720亦具备第1移动体(此处是一对基板保持具 722)、及包含第2移动体(此处是测量台624)的基板测量系统780等。
[0201]
上述第6实施形态(参照图26等)中，基板保持具622形成为围绕基板p的外周全 体的矩形框状，相对于此，本第7实施形态的一对基板保持具722，彼此在物理上分离， 一方的基板保持具722吸附保持基板p的 x侧端部近旁、且另一方的基板保持具722 吸附保持基板p的－x侧端部近旁的点不同。基板台626的构成及功能、以及用以驱动 基板台626的驱动系统(含x粗动载台628等)，因与上述第6实施形态相同，因此省略 说明。
[0202]
如图29所示，各基板保持具722，具有将基板p于y轴方向的中央部从下面加以吸 附保持的吸附垫726。此外，－x侧的基板保持具722，因上面安装有测量板728，因 此与 x侧的基板保持具722相较，于y轴方向的长度设定得较长，但关于保持基板p 的功能及基板p的位置控制动作等，一对基板保持具722是共通的，因此本实施形态中， 为方便起见，是对一对基板保持具722赋予共通的符号加以说明。于测量板728，形成 有用于与投影光学系统16(参照图1)的光学特性(定标(scaling)、位移(shift)、旋 转(rotation)等)相关的校准等的指标。
[0203]
各基板保持具722，被由具有y可动子640的固定子730(分别参照图30)、与各基 板保持具722所具有的可动子732(分别参照图29)构成的3dof马达，相对对应的y 可动子640微幅驱动于x、y及θz方向。于本实施形态，作为3dof马达，虽是使用2 个x线性马达与1个y线性马达组合而成的物，但3dof马达额构成无特别限定，可适 当变更。本第7实施形态中，基板保持具722，彼此虽被3dof马达独立的驱动，但基 板p的动作本身则与上述第6实施形态相同。
[0204]
回到图28，各基板保持具722被延伸于y轴方向的空气导件734从下方以非接触方 式支承(关于－x侧的基板保持具722，请参照图31)。空气导件734上面的高度位置 被设定为较基板台626及空气导件652的上面的高度位置低。空气导件734的长度，则 被设定为与基板保持具722的y轴方向可移动距离同等(或略长)。空气导件734，亦 与空气导件652同样的被固定于载台本体632，与该载台本体632一体的以长行程移动 于x轴方向。又，空气导件
734亦可适用于上述第6实施形态的基板载台装置620。
[0205]
接着，说明第7实施形态的基板测量系统780。本第7实施形态的基板测量系统780， 除基板p侧的读头的配置、测量台624的数量及配置等不同外，概念上，与上述第6实 施形态的基板测量系统680(参照图26)大致相同。亦即，于基板测量系统780，是将 第1移动体(此处，是各基板保持具722)的位置信息透过测量台624以光学平台18a 为基准加以求出。以下，具体说明的。
[0206]
基板测量系统780所具有的测量台624的构成，除配置外，与上述第6实施形态相 同。上述第6实施形态中，如图23所示，测量台624是配置在投影光学系统16的 y侧 及－y侧，相对于此，本第7实施形态的测量台624，如图28所示，于y轴方向的位置 与投影光学系统16重复，一测量台624(参照图28)配置在投影光学系统16的 x侧、 另一测量台624(图28中未图示)则配置在投影光学系统16的－x侧(图参照31)。本 第7实施形态中，亦与上述第6实施形态同样的，测量台624是被y线性致动器682于y 轴方向以既定行程驱动。又，各测量台624的xy平面内的位置信息，是使用由安装在 测量台624的朝上读头80x、80y(参照图31)、与定固在光学平台18a下面的对应的朝 下标尺684所构成的编码器系统，由未图示的主控制装置分别独立的加以求出。
[0207]
于2个测量台624的下面，分别固定有朝下标尺782(参照图31)。亦即，于上述第 6实施形态(参照图27)中，是以2个测量台624悬吊支承1个朝下标尺686，相对于此， 本第7实施形态中，则是于1个测量台624悬吊支承1个朝下标尺782。朝下标尺782，是 以各基板保持具722于x轴方向的测量范围较y轴方向的测量范围广(长)的方式，于 其下面具有2维绕射光栅。固定在测量台624的各朝上读头80x、80y与朝下标尺782的 相对位置关系为已知。
[0208]
此外，于各基板保持具722，固定有读头座784。于各读头座784的上面，以和对 应的朝下标尺782对向的方式，安装有2个朝上x读头80x与2个朝上y读头80y(分别参 照图29)(参照图31)。关于本第7实施形态中在基板p的位置控制时的基板p的位置测 量动作，因与上述第6实施形态大致相同，故省略说明。
[0209]
《第8实施形态》
[0210]
接着，使用图32～图35，说明第8实施形态的液晶曝光装置。第8实施形态的液晶 曝光装置的构成，除基板载台装置820及其测量系统的构成不同外，与上述第6实施形 态大致相同，因此，以下，仅说明相异处，针对与上述第6实施形态具有相同构成或 功能的要素，是赋予与上述第6实施形态相同符号并适当省略其说明。
[0211]
本第8实施形态的基板载台装置820，具备第1移动体(此处，是基板保持具822)、 第2移动体(此处，是x粗动载台628)及基板测量系统880等。
[0212]
本第8实施形态中，保持基板p的基板保持具822，与上述第6实施形态(参照图26 等)同样的，是形成为围绕基板p的外周整体的矩形框状。关于用以驱动基板保持具 822、基板台626的驱动系统，因与上述第6实施形态相同，因此省略其说明。又，本 第8实施形态的基板载台装置820，与上述第7实施形态(参照图30)同样的，具有从 下方以非接触方式支承基板保持具822的空气导件734。
[0213]
接着，说明基板测量系统880。上述第6实施形态(参照图23、图26等)中，基板 保持具622的位置信息是透过测量台624以光学平台18a为基准加以求出，相对于此， 本第8实施形态中，基板保持具822的位置信息，是透过用以将基板台626往x轴方向 驱动的x粗动载台
628以光学平台18a为基准加以求出。关于此点，基板测量系统880 与上述第2实施形态的基板测量系统250(参照图8等)，在概念上是共通的。又，本第 8实施形态中的x粗动载台628，是由与一对底座634对应配置的延伸于x轴方向的一对 平板状(带状)构件构成(参照图34)，但因功能上是相同的，为方便起见，赋予与 第6实施形态的x粗动载台628相同符号进行说明。
[0214]
如图34所示，在固定于x粗动载台628的一对y固定子638各个的上面，与上述第2 实施形态(参照图9)同样的，固定有朝上标尺882。朝上标尺882的构成及功能，因 与上述第2实施形态的朝上标尺252(参照图9)相同，故此处省略说明。
[0215]
如图33所示，于基板保持具822的 x侧及－x侧端部近旁，分别固定有于y轴方 向分离的一对读头座884。于合计4个的读头座884的各个，以和朝上标尺882(参照图 34)对向的方式，分别安装有一个朝下x读头74x、朝下y读头74y及朝下z读头74z(参 照图33)。x读头74x、y读头74y的构成及功能，因与上述第1实施形态的x读头74x、 y读头74y(分别参照图3等)相同，故，此处省略其说明。于本第8实施形态，是以 合计4个朝下x读头74x与对应的朝上标尺882，构成4个x线性编码器系统(参照图35)， 并以合计4个朝下y读头74y与对应的朝上标尺882，构成4个y线性编码器系统(参照 图35)。主控制装置(未图示)，适当使用上述4个x线性编码器系统及4个y线性编码 器系统的输出，以x粗动载台628为基准求出基板保持具822的x轴方向、y轴方向及θz 方向的位置信息(第1信息)。
[0216]
朝下z读头74z的构成，无特别限定，可使用公知的激光变位传感器等。z读头74z， 使用对应的朝上标尺882的格子面(反射面)(参照图35)测量读头座884的z轴方向的 变位量。主控制装置(未图示)根据合计4个z读头74z的输出，求出基板保持具822 (亦即基板p)相对x粗动载台628的z倾斜方向的变位量信息。
[0217]
回到图34，于y固定子638的 y侧及－y侧的端部近旁，分别固定有于x轴方向 分离的一对读头座886。于合计8个读头座886的各个，分别安装有1个朝上x读头80x、 朝上y读头80y及朝上z读头80z。x读头80x、y读头80y的构成及功能，因与上述第1 实施形态的x读头80x、y读头80y(分别参照图3等)相同，此处省略其说明。关于各 读头80x、80y、80z与上述朝上标尺882的相对位置关系的信息(第3信息)为已知。
[0218]
于光学平台18a(参照图32)的下面，对应上述一对读头座884，固定有1个朝下 标尺888。亦即，如图35所示，于光学平台18a的下面，固定有合计4个朝下标尺888。 朝下标尺888的构成及功能，因与上述第2实施形态的朝下标尺254(参照图8)相同， 故此处省略其说明。于本第8实施形态，以合计8个朝上x读头80x与对应的朝下标尺 888，构成8个x线性编码器系统(参照图35)，并以合计8个朝上y读头80y与对应的朝 下标尺888，构成8个y线性编码器系统(参照图35)。主控制装置(未图示)，适当使 用上述8个x线性编码器系统及8个y线性编码器系统的输出，以光学平台18a为基准求 出x粗动载台628的x轴方向、y轴方向及θz方向的位置信息(第2信息)。
[0219]
作为朝上z读头80z，是使用与上述朝下z读头74z相同的变位传感器。主控制装置 (未图示)根据合计8个z读头74z的输出，求出x粗动载台628相对光学平台18a的z倾 斜方向的变位量信息。
[0220]
于本第8实施形态，除了基板p(基板保持具822)的位置信息是透过x粗动载台 628以光学平台18a为基准(根据上述第1～第3信息)加以求出外，基板p(基板保持 具822)的z
倾斜方向的位置信息，亦是透过x粗动载台628以光学平台18a为基准加以 求出。
[0221]
《第9实施形态》
[0222]
接着，使用图36～图38，说明第9实施形态的液晶曝光装置。第9实施形态的液晶 曝光装置的构成，除基板载台装置920(参照图38)及其测量系统的构成不同外，与 上述第8实施形态大致相同，因此，以下，仅说明相异处，针对与上述第8实施形态具 有相同构成或功能的要素，是赋予与上述第8实施形态相同符号并适当省略其说明。
[0223]
如图38所示，本第9实施形态的基板载台装置920，与上述第7实施形态(参照图29)同样的，具备物理上分离配置的一对基板保持具922。一基板保持具922保持基板 p的 x侧端部近旁、且另一基板保持具922保持基板p的－x侧端部近旁的点，以及一 对基板保持具922被3dof马达相对x粗动载台628独立的驱动的点，亦与上述第7实施 形态相同。
[0224]
本第9实施形态的基板测量系统980(参照图38)的构成及动作，除了一对基板保 持具922各个的位置信息是独立的求出的点外，与上述第8实施形态相同。亦即，如图 36所示，于各基板保持具922固定有于y轴方向分离的一对读头座884。于读头座884， 以和固定在y固定子638上面的朝上标尺882(分别参照图37)对向的方式(参照图38)， 安装有朝下读头74x、74y、74z。x粗动载台628的以光学平台18a(参照图28等)为基 准的位置测量系统的构成及动作，因与上述第7实施形态相同，故省略其说明。
[0225]
《第10实施形态》
[0226]
接着，使用图39～图43，说明第10实施形态的液晶曝光装置。第10实施形态的液 晶曝光装置的构成，除基板载台装置1020(参照图41等)及其测量系统的构成不同外， 与上述第9实施形态大致相同，因此，以下，仅说明差异点，针对与上述第9实施形态 具有相同构成或功能的要素，是赋予与上述第9实施形态相同符号并适当省略其说明。
[0227]
上述第9实施形态(参照图38)中，相对于基板p的x轴方向的两端部近旁是分别 被基板保持具922保持，如图39所示，本第10实施形态中，基板p，仅于x轴方向的一 (本实施形态中，为－x侧)端部近旁被吸附保持于基板保持具922的点是不同的。 关于基板保持具922，因与上述第9实施形态相同，故此处省略其说明。此外，关于本 第10实施形态的基板测量系统1080(参照图41)的构成及动作，亦与上述第9实施形 态相同，故此处省略其说明。
[0228]
于本第10实施形态，由于没有保持基板p的 x侧端部近旁的构件(相当于上述 第9实施形态中的 x侧基板保持具922的构件)，因此，如图40所示，y固定子638仅 配置在基板台626的－x侧。因此，于基板载台装置1020，与上述第9实施形态的基板 载台装置920(参照图38)的底座相较，底座1024较短，整体较小型。又，连结y固 定子638与空气导件734的连结构件1022，本实施形态中，于x轴方向亦具有刚性，y 固定子638可进行基板台626按压、或牵引(推拉)。此外，由于没有保持基板p的 x 侧端部近旁的构件，因此能容易地进行基板p的更换动作。再者，如图42及图43所示， 支承重量抵销装置42的x导件648虽是固定在下架台部18c上，但不限于此，亦可以是 在与装置本体18物理上分离的状态设置在地面f上。
[0229]
《第11实施形态》
[0230]
接着，使用图44～图47，说明第11实施形态的液晶曝光装置。第11实施形态的液 晶曝光装置的构成，除基板载台装置1120及其测量系统的构成不同外，与上述第10 实施形态大致相同，因此，以下，仅说明差异点，针对与上述第10实施形态具有相同 构成或功能的要素，是赋予与上述第10实施形态相同符号并适当省略其说明。
[0231]
本第11实施形态的基板载台装置1120中，基板p，与上述第10实施形态(参照图 41等)同样的，仅x轴方向的一侧(本实施形态中，为－x侧)的端部近旁被保持于 基板保持具1122(参照图47)。
[0232]
基板保持具1122，如图45所示，宽度方向(x轴方向)的尺寸被设定为较上述第 10实施形态的基板保持具922(参照图39)略长。基板保持具1122，如图44所示，被 空气导件1124从下方以非接触方式支承。空气导件1124的构成及功能，与上述第7～ 第10各实施形态的空气导件734(参照图30等)大致相同，不同处在于，对应基板保 持具1122，x轴方向的尺寸被设定为略长
[0233]
接着，说明基板测量系统1180。基板测量系统1180，如图44所示，就将基板保持 具1122的位置信息透过x粗动载台628以光学平台18a为基准加以求出的点而言，与上 述第10实施形态(参照图41)相同，但朝上标尺882及朝下读头74x、74y(参照图45) 的配置不同。
[0234]
朝上标尺882，如图44所示，固定在用以悬浮支承基板保持具1122的空气导件 1124。空气导件1124的上面(导引面)的高度位置与朝上标尺882的格子面(被测量 面)的高度位置，被设定为大致相同。空气导件1124因被固定于载台本体632，因此， 朝上标尺882的移动是相对基板p、xy平面内的位置被控制在既定范围内。于基板保 持具1122形成有开口在下方的凹部，于该凹部内，以和朝上标尺882对向的方式，各 朝下读头74x、74y、74z(分别参照图45)分别安装有一对。关于基板保持具1122的 位置测量动作，因与上述第10实施形态相同，因此省略其说明。
[0235]
又，上述第10实施形态中，于y固定子638固定有读头座886(分别参照图41等)， 相对于此，本第11实施形态中，如图46所示，于空气导件1124固定有读头座886。读 头座886，在空气导件1124的长边方向两端部近旁分别配置有一对。关于使用固定在 光学平台18a(参照图44)的朝下标尺888的x粗动载台628的位置测量动作，因与上 述第10实施形态相同，故省略其说明。
[0236]
于本第11实施形态，基板保持具1122的位置信息是透过空气导件1124以光学平台 18a为基准加以求出。空气导件1124，因是固定于载台本体632，因此不易受扰动 (disturbance)影响，能提升曝光精度。又，与上述第10实施形态等相较，因朝上标 尺882及朝下标尺888的位置接近投影光学系统16的中心位置，因此误差小，可提升曝 光精度。
[0237]
《第12实施形态》
[0238]
接着，使用图48～图54，说明第12实施形态的液晶曝光装置。第12实施形态的液 晶曝光装置的构成，除基板载台装置1220及其测量系统的构成不同外，与上述第7实 施形态大致相同，因此，以下，仅说明差异点，针对与上述第7实施形态具有相同构 成或功能的要素，是赋予与上述第7实施形态相同符号并适当省略其说明。
[0239]
如图31等所示，上述第7实施形态中，基板p是被于y轴方向以长行程移动的一对 基板保持具722保持x轴方向的两端部近旁，相对于此，本第12实施形态中，如图53 所示，不同处在于，基板p是被于x轴方向以长行程移动的一对基板保持具1222保持y 轴方向的两端部近旁。基板载台装置1220，于扫描曝光动作时，藉由仅将一对基板保 持具1222相对投影光学系统16(参照图48)驱动于x轴方向，以进行对基板p的扫描 曝光动作。又，于曝光区域间移动时，一对基板保持具1222与包含基板台626的系统 一体的移动于y轴方向。亦即，基板载台装置1220，是将上述第7实施形态的基板载 台装置720(参照图31等)相对投影光学
系统16绕z轴旋转90
°
的构造。以下，说明基 板载台裝置1220的构成。
[0240]
如图50所示，在下架台部18c上，延伸于y轴方向的平台1224于x轴方向以既定间 隔固定有3个。在中央的平台1224上，透过线性导件装置1226载置有重量抵销装置42。 又，在 x侧及－x侧的平台1224上，透过线性导件装置1226载置有z致动器1228。重 量抵销装置42透过载台本体632从下方支承基板台626(分别参照图48)的点，与上述 第6实施形态(参照图23等)等相同。
[0241]
如图51所示，y粗动载台1230被载置在延伸于y轴方向的一对底座1232上，被未 图示的y线性致动器以长行程驱动于y轴方向。上述重量抵销装置42及2个z致动器 1228(分别参照图50)，分别藉由连结构件46连结于y粗动载台1230(参照图48)，与 y粗动载台1230一体的移动于y轴方向。载台本体632亦藉由连结构件46连结于y粗动 载台1230(参照图48)，与y粗动载台1230一体的移动于y轴方向。在y粗动载台1230 的y轴方向的两端部近旁，安装有延伸于x轴方向的固定子1234。
[0242]
如图52所示，在基板台626的 y侧及－y侧，分别对应一对基板保持具1222(参 照图53)配置有空气导件1236。空气导件1236透过支承构件1238(参照图48)固定于 载台本体632。空气导件1236的上面的z位置，被设定为较基板台626的上面的z位置 低的位置。
[0243]
在基板台626的 x侧及－x侧，配置有用以从下方支承基板p的多个(本实施形 态中，分别为4个)空气导件1240。空气导件1240的上面的z位置，被设定为与基板台 626的上面的z位置大致相同。空气导件1240，在扫描曝光动作时等，基板p相对基板 台626往x轴方向相对移动时，与基板台626协同动作从下方支承基板p(参照图54)。
[0244]
在4个空气导件1240的 y侧及－y侧，分别对应一对基板保持具1222配置有空气 导件1242。空气导件1242是与上述空气导件1236相同的构件，其上面的z位置被设定 为与空气导件1236大致相同。空气导件1242，与空气导件1236协同动作在基板保持具 1222相对基板台626往x轴方向相对移动时，从下方支承基板保持具1222(参照图54)。 空气导件1240、1242是透过共通的基座构件载置在上述z致动器1228(参照图50)上。 因z致动器1228与重量抵销装置42(参照图50)一体的往y轴方向移动，因此空气导 件1240、1242、1236及基板台626是一体的往y轴方向移动。
[0245]
如图49所示，一对基板保持具1222是夹着基板p的中央部(重心位置)配置，使 用吸附垫1244吸附保持基板p的下面。又，在各基板保持具1222，安装有与上述固定 子1234(参照图51)协同动作构成2dof马达的可动子1246。未图示的主控制装置， 透过对应的2dof马达将各基板保持具1222相对基板台626(参照图52)以长行程驱动 于x轴方向，并以能将与基板台626、y粗动载台1230(参照图51)等的y轴方向的位 置关系控制在既定范围内的方式，对基板保持具1222赋予y轴方向的推力。
[0246]
如上所述，于基板载台装置1220，如图54所示，于扫描曝光动作时等，藉由将一 对基板保持具1222在空气导件1236、1242上以2dof马达驱动于x轴方向，以进行对 基板p的扫描曝光动作。又，于曝光区域间移动时，一对基板保持具1222与包含基板 台626的系统(基板台626、y粗动载台1230、固定子1234、空气导件1236、1240、1242 等)一体的移动于y轴方向。
[0247]
接着，说明本第12实施形态的基板测量系统1280(参照图53)。基板测量系统1280， 概念上类似于第1实施形态的基板测量系统70(参照图4)。亦即，于保持基板p的构件 (本实
施形态中，是分别于一对基板保持具1222)透过读头座1282安装一对朝下读头 74x、74y(分别参照图49)，该朝下读头74x、74y，与安装在固定子1234上面的对应 的朝上标尺1284对向。未图示的主控制装置，适当使用2个x线性编码器系统及2个y 线性编码器系统的输出，独立的求出各基板保持具1222相对y粗动载台1230的x轴方 向、y轴方向及θz方向的位置信息(第1信息)。
[0248]
又，如如图51所示，在固定子1234的长边方向中央部固定有读头座1286。在读头 座1286安装有一对朝上读头80x、80y，该朝上读头80x、80y与固定在光学平台18a(参 照图48)下面的对应的朝下标尺1288构成x线性编码器系统、y线性编码器系统。朝 上标尺1284与各朝上读头80x、80y的位置关系(第3信息)为已知。未图示的主控制 装置，适当使用4个x线性编码器系统及4个y线性编码器系统的输出，求出y粗动载 台1230的水平面内的位置信息(第2信息)。
[0249]
《第13实施形态》
[0250]
接着，使用图55～图58，说明第13实施形态的液晶曝光装置。第13实施形态的液 晶曝光装置的构成，除基板载台装置1320及其测量系统的构成外，与上述第12实施形 态大致相同，因此，以下，仅说明差异点，针对与上述第12实施形态具有相同构成或 功能的要素，是赋予与上述第12实施形态相同符号并适当省略其说明。
[0251]
与上述第12实施形态的基板载台装置1220(参照图53等)同样的，于基板载台装 置1320，如图58所示，基板p的y轴方向两端部近旁被一对基板保持具1322保持。一 对基板保持具1322被2dof马达以长行程驱动于x轴方向、并被微幅驱动于y轴及θz 方向的点，与上述第12实施形态相同。上述第12实施形态中，基板保持具1222(参照 图53等)是因应x轴方向的位置，被彼此分离配置的空气导件1236及一对空气导件 1242(分别参照图53等)中的一者从下方支承，相对于此，本第13实施形态中的基板 保持具1322，则是被设定为可涵盖x轴方向的可移动区域全范围的长度的单一空气导 件1324从下方支承。空气导件1324，如图55所示，连接于载台本体632，可与基板台 626一体的移动于y轴方向。
[0252]
接着，说明第13实施形态的基板测量系统1380的构成及动作。基板测量系统1380， 概念上，具有将上述第11实施形态的基板测量系统1180(参照图44等)绕z轴旋转90
°ꢀ
的构造。亦即，本第13实施形态中，在空气导件1324的上面，如图57所示，固定有朝 上标尺1382。于上述第11实施形态，朝上标尺882(参照图46等)是被配置成与x轴 方向相较、于y轴方向的位置信息的测量范围较广(以y轴方向为长边方向)，相对于 此，本实施形态的朝上标尺1382，则是被配置成与y轴方向相较、于x轴方向的位置 信息的测量范围较广(以x轴方向为长边方向)。
[0253]
基板保持具1322，如图55所示，与上述第11实施形态的基板保持具1122(参照图 44等)同样的，形成有开口于下方的凹部，于该凹部内，以和朝上标尺1382对向的方 式(图58参照)，分别安装有一对朝下读头74x、74y、74z(分别参照图56)。
[0254]
如图57所示，在空气导件1324的长边方向两端部近旁，分别固定有读头座1384， 在各读头座1384，以和固定在光学平台18a(参照图55)下面的对应的朝下标尺1386 对向的方式，分别安装有2个朝上读头80x、80y、80z。本第13实施形态的基板测量系 统1380，亦与上述第12实施形态的基板测量系统1280(参照图53等)同样的，基板p (一对基板保持具1322)的位置信息是透过y粗动载台1230以光学平台18a为基准加 以求出。
[0255]
《第14实施形态》
[0256]
接着，使用图59，说明第14实施形态的液晶曝光装置。第14实施形态的液晶曝光 装置的构成，除基板载台装置1420及其测量系统的构成不同外，与上述第13实施形态 大致相同，因此，以下，仅说明差异点，针对与上述第13实施形态具有相同构成或功 能的要素，是赋予与上述第13实施形态相同符号并适当省略其说明。
[0257]
上述第13实施形态(参照图58)中，基板p是于y轴方向的两端部近旁分别被基 板保持具1322保持，相对于此，如图59所示，本第14实施形态中，不同之处在于，基 板p仅有y轴方向的一侧(本实施形态中，为 y侧)的端部近旁被基板保持具1422 吸附保持。关于基板保持具1422，除相对固定子1424被3dof马达驱动的点外，与上 述第12实施形态相同，因此，此处省略其说明。连结固定子1424与空气导件1324的连 结构件1426，于y轴方向亦具有刚性，固定子1424能进行基板台626的按压、或牵引 (推拉)。关于本第14实施形态的基板测量系统1480的构成及动作，因与上述第13实 施形态相同，故此处省略其说明。
[0258]
《第15实施形态》
[0259]
接着，使用图60～图63，说明第15实施形态的液晶曝光装置。第15实施形态的液 晶曝光装置的构成，除基板载台装置1520的构成不同外，与上述第1或第6实施形态大 致相同，因此，以下，仅说明差异点，针对与上述第1或第6实施形态具有相同构成或 功能的要素，赋予与上述第1或第6实施形态相同符号并适当省略其说明。
[0260]
如图60所示，基板载台装置1520，具备第1移动体(此处，是基板保持具1522) 与第2移动体(此处，是y粗动载台24)。
[0261]
如图62所示，基板保持具1522，与上述第6实施形态(参照图26等)的基板保持 具622同样的，是形成为俯视矩形框状(画框状)，基板p被配置在基板保持具1522的 开口内。基板保持具1522具有4个吸附垫1524，从下方吸附保持基板p的4边各个的中 央部近旁。
[0262]
基板p中、包含中央部的曝光区域，如图60所示，被基板台626从下方以非接触方 式支承。基板台626，与上述第6实施形态(参照图26等)同样的，是以非接触状态进 行基板p的平面矫正。又，图60等虽未图示，在基板台626的下面，与上述第6实施形 态同样的，固定有载台本体632(参照图23)。未图示的载台本体632，如图63所示， 透过多个连结构件1526，以容许z倾斜方向的相对移动的状态连结于x粗动载台26， 因此，基板台626是与x粗动载台26一体的、以长行程移动于x轴及y轴方向。x粗动 载台26、y粗动载台24等的构成及动作与上述第1实施形态(参照图4等)大致相同， 因此省略其说明。
[0263]
又，如图63所示，从载台本体632(图63中未图示。参照图23)往
±
y方向及
±
x 方向的合计4方向，突出台构件1528。如图60所示，基板保持具1522透过未图示的空 气轴承以非接触状态被载置于4个台构件1528上。此外，基板保持具1522，被由安装 在基板保持具1522的多个可动子1530(参照图62)与安装在载台本体632的多个固定 子1532(参照图63)所构成的多个线性马达，相对基板台626以微少行程驱动于x轴、 y轴及θz方向。
[0264]
上述第6实施形态的基板保持具622，可从基板台626分离而于y轴方向以长行程 相对移动(参照图27)，相对于此，本第15实施形态中，未图示的主控制装置，如图 61所示，于x轴及y轴方向，以能将基板保持具1522与基板台626的位置控制在既定范 围内的方式，使用上述多个线性马达对基板保持具1522赋予推力。因此，基板p的曝 光区域全体恒被基板台626从下方支承。
成(包含驱动系统)，与上述第15实施形态(参照图60等)大致相同。上述第15实施 形态的基板测量系统1580(参照图60等)，是将基板保持具1522的位置信息透过y粗 动载台24以光学平台18a为基准加以求出(亦即，是与第1实施形态的基板测量系统70 相同的构成)，相对于此，本第17实施形态的基板测量系统1780，不同处在于，是将 基板保持具1522的位置信息透过y粗动载台24及测量台1782以光学平台18a为基准加 以求出。
[0275]
第17实施形态的基板载台装置1720中，在y粗动载台24，与上述第15实施形态(参 照图63等)同样的，透过臂构件86固定有标尺座1784。又，图65中虽未图示，但标尺 座1784是与上述第15实施形态同样的，于基板保持具1522的 y侧及－y侧分别配置 有1个。测量台1782亦同样的，虽未图示，但对应标尺座1784，于投影光学系统16的 y侧及－y侧分别配置有1个。
[0276]
在标尺座1784的上面，于y轴方向以既定间隔安装有用于基板保持具1522的位置 测量用的朝上标尺1786、与用于测量台1782的位置测量用的朝上标尺1788。朝上标尺 1786、1788，以和y轴方向相较、于x轴方向的位置信息的测量范围较大的方式(以 x轴方向为长边方向)，于其上面具有2维绕射光栅。朝上标尺1786与朝上标尺1788的 位置关系，为已知。又，形成在朝上标尺1786、1788的2维绕射光栅的间距可相同、 亦可不同。此外，于标尺座1784，可取代2个朝上标尺1786、1788，具有兼用于基板 保持具1522的位置测量与测量台1782的位置测量的宽幅的1个朝上标尺。
[0277]
在基板保持具1522，与上述第15实施形态(参照图63等)同样的，透过读头座88 安装有各2个朝下读头74x、74y。基板保持具1522相对y粗动载台24的xy平面内的位 置信息，以由朝下读头74x、74y与对应的朝上标尺1786构成的编码器系统加以求出的 点，因与上述第15实施形态(亦即第1实施形态)相同，故省略其说明。
[0278]
测量台1782，与上述第16实施形态(参照图64)的测量台624同样的，被y线性 致动器682以既定行程驱动于y轴方向。在测量台1782，与上述第16实施形态同样的， 安装有各2个朝上读头80x、80y。测量台1782相对光学平台18a的xy平面内的位置信 息，以由朝上读头80x、80y与对应的朝下标尺984构成的编码器系统加以求出的点， 因与上述第16实施形态(亦即第6实施形态)相同，故省略其说明。
[0279]
y粗动载台24的xy平面内的位置信息，是透过测量台1782以光学平台18a为基准 加以求出。用以求出y粗动载台24的位置信息的测量系统，概念上，与用以求出基板 保持具1522相对y粗动载台24的位置信息的测量系统(编码器系统)相同。亦即，在 测量台1782，安装有各2个朝下x读头74x与朝下y读头74y，以由此等朝下读头74x、 74与朝上标尺1788构成的编码器系统，求出y粗动载台24相对测量台1782的xy平面 内的位置信息。未图示的主控制装置，根据测量台1782相对上述光学平台18a的位置 信息、y粗动载台24相对测量台1782的位置信息、及基板保持具1522相对y粗动载台 24的位置信息，以光学平台18a为基准求出基板保持具1522的位置信息。
[0280]
《第18实施形态》
[0281]
接着，使用图66～图68，说明第18实施形态的液晶曝光装置。第18实施形态的液 晶曝光装置的构成，除基板载台装置1820及其测量系统的构成不同外，与上述第1实 施形态大致相同，因此，以下，仅说明差异点，针对与上述第1实施形态具有相同构 成或功能的要素，是赋予与上述第1实施形态相同符号并适当省略其说明。
[0282]
于上述第1实施形态(参照图2等)，用以求出微动载台22的位置信息的朝上标尺 72、及用以求出朝上标尺72的位置信息的朝上读头80x、80y是分别固定在y粗动载台 24，相对于此，本第18实施形态中，如图67所示，不同处在于，朝上标尺72及朝上读 头80x、80y被固定在自重支承装置28所具备的y步进导件44。
[0283]
朝上标尺72被固定在标尺座84的上面。标尺座84，如图66所示，在微动载台22 的 y侧及－y侧分别配置有1个。标尺座84，如图67所示，透过从x轴方向观察呈l 字形的臂构件1886固定在y步进导件44。因此，标尺座84(及朝上标尺72)可与y步 进导件44及y粗动载台24一体的于y轴方向以既定长行程移动。如上所述，因y步进 导件44配置在y粗动载台24所具有的一对x梁36之间(x梁36的z位置与y步进导件44 的z位置部分重复)，因此，于x梁36形成有用以使臂构件1886通过的(用以防止臂构 件86与x梁36的接触)贯通孔45。
[0284]
包含朝下读头74x、74y及朝上标尺72的微动载台测量系统76(参照图6)的构成 及动作，因与上述第1实施形态相同，故省略其说明。又，包含朝下标尺78及朝上读 头80x、80y的粗动载台测量系统82(参照图6)的构成及动作，亦与上述第1实施形态 相同，因此省略说明。不过，本实施形态中，粗动载台测量系统82所测量者，实际上， y步进导件44的位置信息点与上述第1实施形态不同。如以上所述，本实施形态的基 板测量系统1870，是将微动载台22(基板p)的位置信息透过y步进导件44以光学平 台18a为基准加以求出。
[0285]
根据本第18实施形态，是于支承微动载台22(与微动载台22包含在同一系统中) 的y步进导件44固定朝上标尺72，因此，与上述第1实施形态相较，可抑制粗动载台 24、26的动作的影响，进一步提升微动载台22的位置测量精度。
[0286]
《第19实施形态》
[0287]
接着，使用图69、图70，说明第19实施形态的液晶曝光装置。第19实施形态的液 晶曝光装置的构成，除装置本体1918及基板测量系统1970(参照图70)的构成不同外， 与上述第18实施形态大致相同，因此，以下，仅说明差异点，针对与上述第18实施形 态具有相同构成或功能的要素，赋予与上述第18实施形态相同符号并适当省略其说 明。
[0288]
上述第18实施形态(参照图66)中，装置本体18，是以光学平台18a、中架台部 18b及下架台部18c一体组装的状态透过防振装置19设置在地面f上，相对于此，本第 19实施形态中，装置本体1918，如图69所示，则是在支承投影光学系统16的部分(以 下，称「第1部分」)、与支承y步进导件44的部分(以下，称「第2部分」)彼此在物 理上分离的状态设置在地面f上。
[0289]
装置本体1918中、支承投影光学系统16的第1部分具备光学平台18a、一对中架台 部18b及一对第1下架台部18d，形成为前视(从x轴方向观察)呈门型(倒u字型)。 第1部分透过多个防振装置19设置在地面f上。相对于此，装置本体1918中、支承y步 进导件44的第2部分具备第2下架台部18e。第2下架台部18e由平板状构件构成，插入 在一对第1下架台部18d之间。第2下架台部18e，透过与支承上述第1部分的多个防振 装置19不同的另外的多个防振装置19设置在地面f上。一对第1下架台部18d与第2下架 台部18e之间形成有间隙，第1部分与第2部分在振动上分离(绝缘)。在第2下架台部 18e上透过机械性的线性导件装置52载置y步进导件44的点，与上述第18实施形态相 同。
[0290]
图69中，图示虽被省略了一部分，但一对底座30的构成与上述第18(第1)实施 形态相同。一对底座30包含第2下架台部18e，以和装置本体218在振动上分离的状态 设置在
地面f上。一对底座30上载置有y粗动载台24及x粗动载台26的点，以及y步进 导件44上透过自重支承装置28载置有微动载台22的点，与上述第18实施形态相同。
[0291]
接着，说明第19实施形态的基板测量系统1970的构成及动作。又，除测量系统外 的基板载台装置1920的构成及动作，因与上述第18实施形态相同，故省略其说明。
[0292]
图70是显示第19实施形态的基板测量系统1970的概念图。基板测量系统1970中、 用以求出微动载台22(实际上是基板保持具32)的xy平面内的位置信息的微动载台 测量系统76(参照图6)的构成，与上述第18(第1)实施形态相同，因此，省略其说 明。本第19实施形态的基板测量系统1970，用以求出基板保持具32相对水平面交叉的 方向的位置信息的z倾斜位置测量系统1998的构成，与上述第18(第1)实施形态不同。
[0293]
z倾斜位置测量系统1998，如如图70所示，是将基板保持具32的z倾斜方向的位 置信息，与微动载台测量系统76同样的，透过y粗动载台24以光学平台18a(参照图 69)为基准加以求出。
[0294]
如图69所示，在固定于基板保持具32的 y侧及－y侧侧面的读头座1988的各个， 与2个朝下x读头74x及2个朝下y读头74y一起，于x轴方向分离安装有2个朝下z读头 74z(参照图70)。作为朝下z读头74z，使用对朝上标尺72照射测量光束的公知的激光 变位仪。未图示的主控制装置，根据合计4个的朝下z读头74z(参照图9)的输出，求 出微动载台22相对y粗动载台24的z倾斜方向的变位量信息。
[0295]
又，在固定于y步进导件44的 y侧及－y侧侧面的一对标尺座84的各个，与上 述第1实施形态的读头座96同样的(参照图4)、固定有2个读头座1996。又，如图70 所示，在读头座1996，与2个朝上x读头84x及2个朝上y读头80y一起安装有1个朝上z 读头80z。朝上z读头80z虽亦是使用与朝下z读头74z相同的激光变位仪，各z读头74z、 80z的种类可以是不同的。未图示的主控制装置根据合计4个朝上z读头80z(参照图70) 的输出，求出y粗动载台24相对光学平台18a(参照图69)的z倾斜方向的变位量信息。
[0296]
于以上说明的第19实施形态，由于可将基板p的z倾斜方向的位置信息以光学平 台18a(亦即投影光学系统16)为基准加以求出，因此，可与基板p的xy平面内的位 置信息一起，以高精度取得基板p的z倾斜方向的位置信息。亦即，例如国际公开第 2015/147319号所揭示，在以重量抵销装置42为基准求出基板p的z倾斜方向的位置 信息的情形时，因重量抵销装置42是载置于y步进导件44上，有可能因y步进导件44 移动时的振动等，在基板p的位置测量产生误差。相对于此，于本实施形态，假设y 步进导件44的移动时产生振动等，由于y步进导件44的位置信息是以光学平台18a为 基准常时测量，即使透过y步进导件44测量基板p的位置信息，该y步进导件44的位置 偏差亦不会反映于基板p的测量结果。因此，能以高精度測量基板p的位置信息。
[0297]
又，装置本体1980中、支承y步进导件44的第2部分(第2下架台部18e)是与支 承投影光学系统16的第1部分在振动上分离，因此在y步进导件44随着基板p往y轴方 向的移动而往y轴方向移动时，能抑制因该移动而产生的振动、变形等对投影光学系 统16的影响，从而能提升曝光精度。
[0298]
又，于上述第1实施形态，虽是针对一对读头座88分别具有用以测量微动载台22 (基板保持具32)的位置的4个读头(各一对朝下x读头74x及朝下y读头74y)，合计 设有8个基板保持具位置测量用读头的情形做了说明，但基板保持具位置测量用读头 的数量可少
于8个。以下，说明此种实施形态。
[0299]
《第20实施形态》
[0300]
其次，根据图71～图74(c)说明第20实施形态。本第20实施形态的液晶曝光装 置的构成，除基板测量系统2070的一部分构成外，因与前述第1实施形态相同，因此， 以下仅说明差异点，针对与第1实施形态具有相同构成及功能的要素，是赋予与上述 第1实施形态相同符号并省略其说明。
[0301]
图71中以俯视图方式，将本第20实施形态的基板保持具32及基板测量系统2070 的一对读头座88，与投影光学系统16一起显示。图71中，为了易于理解说明，省略了 y粗动载台24等的图示。又，图71中，读头座88是以虚线图示。
[0302]
于本第20实施形态的液晶曝光装置，如图71所示，在夹着基板保持具32的基板载 置区域的 y侧及－y侧的区域，分别配置有标尺座84。于各标尺座84上面，以在x 轴方向上格子区域彼此分离配置的方式，于x轴方向以既定间隔、例如配置有5个编 码器标尺2072(以下，简称为标尺2072)。
[0303]
多个标尺2072，分别具有形成有反射型2维格子的格子区域(格子部)。又，虽亦 能于标尺2072的全域形成格子，但在标尺2072的端部以良好精度形成格子是非常困难 的，因此，本实施形态中，于标尺2072是以格子区域的周围为空白部的方式形成格子。 因此，与在x轴方向相邻的一对标尺2072的间隔相较，格子区域的间隔较大，在测量 光束照射到格子区域外的期间为无法进行位置测量的非测量期间(亦称非测量区间， 但以下统称为非测量期间)。
[0304]
配置在基板保持具32的 y侧的5个标尺2072与配置在－y侧的5个标尺2072，相 邻标尺2072(格子区域)间的间隔虽相同，但其配置位置，是相对 y侧的5个标尺 2072，－y侧的5个标尺2072全体往 x侧错开既定距离d(较相邻标尺2072(格子区 域)的间隔略大的距离)配置。此是为避免发生测量基板保持具32的位置信息的后述 2个x读头74x及2个y读头74y的合计4个读头中的2个以上未与任一标尺对向的状态 (亦即，4个读头的测量光束从标尺脱离的非测量期间不至于重迭)。
[0305]
各标尺2072，是由例如以石英玻璃形成的延伸于x轴方向的俯视矩形的板状(带 状)构件构成。于各标尺2072的上面，形成有以x轴方向及y轴方向为周期方向的既 定间距(例如1μm)的反射型2维绕射光栅(2维光栅)rg。以下，将前述格子区域 简称为2维光栅rg。又，图71中，为便于图示，2维光栅rg的格子线间的间隔(pitch) 显示得远大于实际。以下说明的其他图中亦同。以下，将配置在基板保持具32的 y 侧区域的5个标尺2072称为第1格子群、将配置在基板保持具32的－y侧区域的5个标 尺2072称为第2格子群。
[0306]
在位于 y侧的一读头座88的下面(－z侧的面)，以和标尺2072分别对向的状态， 于x轴方向相距既定间隔(较相邻标尺2072的间隔大的距离)固定有x读头74x与y读 头74y。同样的，在位于－y侧的另一读头座88的下面(－z侧的面)，以和标尺2072 分别对向的状态，于x轴方向相距既定间隔固定有y读头74y与x读头74x。亦即，与 第1格子群对向的x读头74x及y读头74y、与第2格子群对向的x读头74x及y读头74y， 分别以和相邻标尺2072的格子区域的间隔大的间隔将测量光束照射于标尺2072。以 下，为便于说明，将一读头座88所具有的x读头74x、y读头74y分别称为读头74a、读 头74b，将另一读头座88所具有的y读头74y、x读头74x分别称为读头74c、读头74d。
[0307]
此情形，读头74a与读头74c配置在同一x位置(与y轴方向平行的同一直线上)， 读头74b与读头74d配置在与读头74a与读头74c的x位置不同的同一x位置(与y轴方向 平行的同一直线上)。藉由与读头74a、74d分别对向的2维光栅rg构成一对x线性编码 器，藉由与读头74b、74c分别对向的2维光栅rg构成一对y线性编码器。
[0308]
本第20实施形态的液晶曝光装置，包含读头座88的其余部分，其他部分的构成， 除使用主控制装置100的基板测量系统2070的基板保持具32的驱动控制(位置控制) 外，与前述第1实施形态的液晶曝光装置10相同。
[0309]
本第20实施形态的液晶曝光装置，在图72(a)所示的标尺座84的 x端部近旁 一对读头座88对向的第1位置、与图72(b)所示的标尺座84的－x端部近旁一对读头 座88对向的第2位置之间，基板保持具32往x轴方向移动的范围内，一对读头座88的 读头74a～74d、亦即由一对x线性编码器及一对y线性编码器进行的基板保持具32的 位置测量是可能的。图72(a)是显示仅读头74b未与任一标尺2072对向的状态、图 72(b)则显示仅读头74c未与任一标尺2072对向的状态。
[0310]
在图72(a)所示的第1位置与图72(b)所示的第2位置之间，基板保持具32往x 轴方向移动的过程中，一对读头座88与标尺2072的位置关系，是在图73(a)～图73 (d)中分别所示的第1状态～第4状态、与4个读头74a～74d的全部与任一标尺2072 的2维光栅rg对向(亦即，4个读头74a～74d的全部，测量光束照射于2维光栅rg) 的第5状态的5个状态之间迁移。以下，取代读头对向于标尺2072的2维光栅rg、或测 量光束照射于标尺2072的2维光栅rg的说法，而仅以读头对向于标尺来加以表现的。
[0311]
此处，为便于说明，取6个标尺2072，对各标尺分别赋予用以识别的符号a～f， 记载为标尺2072a～2072f(参照图73(a))。
[0312]
图73(a)的第1状态，是显示读头74a对向于标尺2072b、且读头74c、74d对向于 标尺2072e、仅读头74b未与任一标尺对向的状态，图73(b)的第2状态，是显示从图 73(a)的状态，基板保持具32往－x方向移动既定距离后读头74a、74b对向于标尺 2072b、且读头74d对向于标尺2072e、仅读头74c变成未与任一标尺对向的状态。从图 73(a)的状态迁移至图73(b)的状态的过程中，经由读头74a、74b对向于标尺2072b、 且读头74c、74d对向于标尺2072e的第5状态。
[0313]
图73(c)的第3状态，是显示从图73(b)的状态，基板保持具32往－x方向移 动既定距离后变成仅读头74a未对向于任一标尺的状态。从图73(b)的状态迁移至图 73(c)的状态的过程中，经由读头74a、74b对向于标尺2072b、且读头74c对向于标 尺2072d、且读头74d对向于标尺2072e的第5状态。
[0314]
图73(d)的第4状态，是显示从图73(c)的状态，基板保持具32往－x方向移 动既定距离后，变成仅读头74d未对向于任一标尺的状态。从图73(c)的状态迁移 至图73(d)的状态的过程中，经由读头74a对向于标尺2072a、且读头74b对向于标尺 2072b、且读头74c对向于标尺2072d、且读头74d对向于标尺2072e的第5状态。
[0315]
从图73(d)的状态，当基板保持具32往－x方向移动既定距离时，经由读头74a 对向于标尺2072a、且读头74b对向于标尺2072b、且读头74c、74d对向于标尺2072d 的第5状态后，即成为读头74a对向于标尺2072a、且读头74c、74d对向于标尺2072d、 仅读头74b未对向于任一标尺的第1状态。
[0316]
以上，是针对在基板保持具32的
±
y侧分别配置的5个标尺2072中的各3个标尺 2072、与一对读头座88的间的状态(位置关系)的迁移做了说明，在10个标尺2072 与一对读头座88之间，若针对在基板保持具32的
±
y侧分别配置的5个标尺中的相邻各 3个标尺2072来看的话，与一对读头座88的位置关系，亦是以和上述相同的顺序迁移。
[0317]
如以上所述，本第20实施形态中，即使基板保持具32往x轴方向移动，2个x读头 74x、亦即读头74a、74d与2个y读头74y、亦即读头74b、74c的合计4个中的至少3个， 总是会予与任一标尺2072(2维光栅rg)对向。再者，即使基板保持具32往y轴方向 移动，4个读头在y轴方向皆是以测量光束不会从标尺2072(2维光栅rg)脱离的方式 设定标尺2072的格子区域的宽度，因此，4个读头中的至少3个总是会对向于任一标尺 2072。因此，主控制装置100，可常时使用读头74a～74d中的3个，管理基板保持具32 的x轴方向、y轴方向及θz方向的位置信息。以下，针对此点进一步说明的。
[0318]
设x读头74x、y读头74y的测量值分别为cx、cy，则测量值c
x
、c
y
可分别以次 式(1a)、(1b)表示。
[0319]
c
x
＝(p
i
－x)cosθz (q
i
－y)sinθz
……
(1a)
[0320]
c
y
＝－(p
i
－x)sinθz (q
i
－y)cosθz
……
(1b)
[0321]
此处，x、y、θz分别显示基板保持具32的x轴方向、y轴方向及θz方向的位置。 又，p
i
、q
i
则是读头74a～74d各个的x位置(x坐标值)、y位置(y坐标值)。于本实施 形态，读头74a、74b、74c、74d各个的x坐标值p
i
及y坐标值q
i
(i＝1、2、3、4)，是 从各一对x读头80x及y读头80y及与此对向的标尺78输出的测量结果、及读头座1996 与标尺72的相对位置关系算出。
[0322]
因此，基板保持具32与一对读头座88处于如图72(a)所示的位置关系，此时， 当设基板保持具32的xy平面内的3自由度方向的位置为(x、y、θz)的话，3个读头 74a、74c、74d的测量值，理论上，可以下式(2a)～(2c)(亦称为仿射转换的关系) 表示。
[0323]
c1＝(p1－x)cosθz (q1－y)sinθz
……
(2a)
[0324]
c3＝－(p3－x)sinθz (q3－y)cosθz
……
(2b)
[0325]
c4＝(p4－x)cosθz (q4－y)sinθz
……
(2c)
[0326]
在基板保持具32位于坐标原点(x，y、θz)＝(0，0，0)的基准状态下，藉由 联立方程式(2a)～(2c)，成为c1＝p1、c3＝q3、c4＝p4。基准状态例如于投影光学 系统16的投影区域的中心，基板保持具32的中心(与基板p的中心大致一致)一致，θz 旋转为零的状态。因此，基准状态下，可进行使用读头读头74b的基板保持具32的y 位置测量，读头74b的测量值c2，依据式(1b)，成为c2＝q2。
[0327]
从而，于基准状态，将3个读头74a、74c、74d的测量值分别初期设定为p1、q3、 p4的话，之后，相对于基板保持具32的变位(x、y、θz)，3个读头74a、74c、74d即 为提示由式(2a)～(2c)所得到的理论值。
[0328]
又，于基准状态，亦可取代读头74a、74c、74d中的任1个，例如取代读头74c， 将读头74b的测量值c2初期设定为q2。
[0329]
于此情形，之后，相对于基板保持具32的变位(x、y、θz)，3个读头74a、74b、 74d即为提示由式(2a)、(2c)、(2d)所得到的理论值。
[0330]
c1＝(p1－x)cosθz (q1－y)sinθz
……
(2a)
[0331]
c4＝(p4－x)cosθz (q4－y)sinθz
……
(2c)
[0332]
c2＝－(p2－x)sinθz (q2－y)cosθz
……
(2d)
[0333]
联立方程式(2a)～(2c)及联立方程式(2a)、(2c)、(2d)，相对3个(x、y、 θz)变数被赋予3个式。因此，相反的，若能获知联立方程式(2a)～(2c)中的从 属变数c1、c3、c4、或联立方程式(2a)、(2c)、(2d)中的从属变数c1、c4、c2的话， 即能求出变数x、y、θz。此处，当适用近似sinθz≒θz时、或适用高次近似时，皆能 容易地解开方程式。因此，可从读头74a、74c、74d(或读头74a、74b、74d)的测量 值c1、c3、c4(或c1、c2、c4)算出基板保持具32的位置(x、y、θz)。
[0334]
接着，针对于本第20实施形态的液晶曝光装置中进行的、测量基板保持具32的位 置信息、在基板测量系统2070的读头切换时的接续处理、亦即测量值的初期设定，以 主控制装置100的动作为中心说明的。
[0335]
本第20实施形态中，如前所述，于基板保持具32的有效行程范围总是有3个编码 器(x读头及y读头)在测量基板保持具32的位置信息，在进行编码器(x读头或y读 头)的切换处理时，例如图74(b)所示，4个读头74a～74d的各个会对向于任一标尺 2072，而成为可测量基板保持具32的位置的状态(前述第5状态)。图74(b)显示， 如图74(a)所示，从原本是以读头74a、74b及74d测量基板保持具32的位置的状态， 基板保持具32往－x方向移动，而如图74(c)所示，迁移至以读头74b、74c、74d测 量基板保持具32的位置的状态途中出现的第5状态的示例。亦即，图74(b)是显示 用于基板保持具32的位置信息的测量的3个读头，正在从读头74a、74b、74d切换为读 头74b、74c、74d的状态。
[0336]
在欲进行基板保持具32的xy平面内的位置控制(位置信息的测量)的读头(编 码器)的切换处理(接续)的瞬间，如图74(b)所示，读头74a、74b、74c及74d分 别对向于标尺2072b、2072b、2072d、2072e。乍见图74(a)～图74(c)时，于图 74(b)看起来好像是欲从读头74a切换为读头74c，但读头74a与读头74c，从测量方 向相异的点即可得知，在欲进行接续的时序将读头74a的测量值(计数值)原封不动 地将其作为读头74c的测量值的初期值，亦毫无意义。
[0337]
因此，本实施形态中，是由主控制装置100，从使用3个读头74a、74b及74d的基 板保持具32的位置信息的测量(及位置控制)，切换为使用3个读头74b、74c、74d的 基板保持具32的位置信息的测量(及位置控制)。亦即，此方式与通常的编码器接续 的概念相异，并非是由某一读头接续至另一读头，而是从3个读头(编码器)的组合 接续至另3个读头(编码器)的组合。
[0338]
主控制装置100，首先，根据读头74a、74d及74b的测量值c1、c4、c2，解开联立 方程式(2a)、(2c)、(2d)，算出基板保持具的xy平面内的位置信息(x、y、θz)。
[0339]
其次，主控制装置100，于次式(3)的仿射转换的式中，代入上述算出的x、θz， 以求出读头74c的测量值的初期值(读头74c待测量的值)。
[0340]
c3＝－(p3－x)sinθz (q3－y)cosθz
……
(3)
[0341]
上式(3)中，p3、q3是读头74c的测量点的x坐标值、y坐标值。
[0342]
藉由将上述初期值c3作为读头74c的初期值，即能在维持基板保持具32的3自由度 方向的位置(x、y、θz)的状态下，毫无矛盾的完成接续。之后，使用切换后使用 的读头74b、74c、74d的测量值c2、c3、c4，解开下述联立方程式(2b)～(2d)，算 出基板保持具32的位置坐标(x、y、θz)。
[0343]
c3＝－(p3－x)sinθz (q3－y)cosθz
……
(2b)
[0344]
c4＝(p4－x)cosθz (q4－y)sinθz
……
(2c)
[0345]
c2＝－(p2－x)sinθz (q2－y)cosθz
……
(2d)
[0346]
又，以上，虽是针对从3个读头切换为包含1个与此3个读头不同的其他读头的3 个读头的情形做了说明，这是由于使用从切换前的3个读头的测量值求出的基板保持 具32的位置(x、y、θz)，将切换后所使用的其他读头待测量的值，根据仿射转换的 原理算出，并将该算出的值设定为切换后所使用的其他读头的初期值，因此以此方式 做了说明。然而，若不碰以切换后所使用的其他读头待测量的值的算出等的程序，而 仅着眼于切换及接续处理的直接对象的2个读头的话，则亦可以说是将切换前使用的3 个读头中的1个读头切换为另1个读头。无论如何，读头的切换，是在切换前用于基板 保持具的位置信息的测量及位置控制的读头、与切换后所使用的读头，皆同时对向于 任一标尺2072的状态下进行。
[0347]
又，以上的说明，读头74a～74d的切换例，无论是在任3个读头切换为其他3个读 头、或从任一读头切换为其他读头的切换中，皆是以和上述说明相同的程序进行读头 的切换。
[0348]
附带一提的，如本第20实施形态般，以多个标尺(2维光栅rg)构成格子部的情 形时，当分别被测量光束照射的标尺、更严谨的来说当形成在各标尺的格子(2维光 栅rg)彼此错开时，会产生编码器系统的测量误差。
[0349]
又，于本第20实施形态，因应基板保持具32的x位置，用于基板保持具32的位置 信息测量及位置控制的至少3个读头的测量光束照射的至少2个标尺2072的组合不同， 举例来说，可认为至少每2个标尺的组合即存在坐标系统，例如当因至少2个标尺的相 对位置变动等而使得此等坐标系统间生偏差(grid误差)时，即会发生编码器系统的 测量误差。又，由于至少2个标尺的相对位置关系会长期的变化，因此grid误差、亦即 测量误差亦会变动。
[0350]
然而，本第20实施形态中，于读头的切换时，在设定切换后读头的初期值的时间 点，会产生4个读头74a～74d全部同时对向于至少2个标尺2072的任一者的第5状态。 于此第5状态，虽然4个读头全部能测量基板保持具32的位置信息，但基板保持具的位 置坐标(x、y、θz)的测量仅需3个读头，因此1个是多余的。在此情形下，主控制 装置100藉由利用此多余读头的测量值，来取得因坐标系统间的偏差(grid误差)引起 的编码器系统的测量误差的修正信息(grid修正信息或格子修正信息)、以及进行可补 偿因grid误差引起的编码器系统的测量误差的基板保持具32的驱动(位置控制)。
[0351]
例如在4个读头74a～74d的各个同时至少对向于2个标尺时，进行使用2组的3个1 组的读头的基板保持具的位置坐标(x、y、θz)的测量所得的，具体而言，藉由解 开利用前述仿射变换的式的联立方程式所得的位置(x、y、θz)的差、亦即求出偏 置δx、δy、δθz、将此偏置(offset)设为此时由4个读头74a～74d对向的至少2个标尺的 组合构成的坐标系统的偏置。此偏置，被用于以该对向于至少2个标尺的4个读头中的 3个读头进行的基板保持具32的位置信息测量及基板保持具32的位置控制。又，在进 行前述读头的切换及接续处理的前后，切换前原本用于基板保持具32的位置信息的测 量及位置控制的3个读头对向的至少2个标尺的组合、与切换后原本用于基板保持具32 的位置信息的测量及位置控制的3个读头对向的至少2个标尺的组合，当然不同，因此 在读头切换进行的前后，在基板保持具32的位置信息测量及位置控制不同的偏置被用 作为grid或格子修正信息。
[0352]
此处，作为一例，考虑基板保持具32往－x方向移动的过程中，在图74(a)的 状态前一刻出现的下述第5状态(称为事例1的状态)。亦即，读头74a、74b对向于标 尺2072b、读头74c、74d对向于标尺2072e的状态。在此状态下，使用读头74a～74d中、 由任3个读头的组合构成的2组读头，亦能求出偏置。然而，图74(a)的状态，读头 74c无法进行测量，为了使此读头74c的测量复归，在图74(b)所示的第5状态下，使 用从3个读头74a、74b、74d的测量值算出的基板保持具的位置坐标(x、y、θz)。又， 在基板保持具32往－x方向移动的过程中，于事例1的状态前，进行原本为无法测量 状态的读头74b的复归。此读头74b的复归，是使用从3个读头74a、74c、74d的测量值 算出的基板保持具的位置坐标(x、y、θz)。因此，于事例1的状态，是使用除3个读 头74a、74b、74d的组及3个读头74a、74c、74d的组以外的3个读头的组、亦即3个读 头74a、74b、74c的组与3个读头74b、74c、74d的组，来取得由标尺2072b、2072e的 组合构成的坐标系统的格子修正信息。
[0353]
具体而言，主控制装置100，于事例1的状态，使用读头74a、74b、74c的测量值 算出基板保持具32的位置坐标(为方便起见，设为(x1、y1、θz1))，并使用读头74b、 74c、74d的测量值算出基板保持具32的位置坐标(为方便起见，设为(x2、y2、θz2))。 接着，求出2个位置的差δx＝x2－x1、δy＝y2－y1、δθz＝δθz1－δθz2，将此偏置作 为格子修正信息，储存于例如内部记忆体(记忆装置)。
[0354]
又，例如图74(b)所示的第5状态，用于基板保持具32的位置控制的读头，从 读头74a切换为读头74c，此时，使用3个读头74a、74b、74d的测量值以前述仿射变换 的式进行基板保持具32的位置坐标的算出。此时，主控制装置100，算出此位置坐标， 并使用除了为进行此读头的切换的基板保持具32的位置坐标算出所使用的3个读头 74a、74b、74d的组、与为进行次一读头的切换时用以设定切换后的读头的测量值所 使用的3个读头74b、74c、74d的组以外的例如3个读头74a、74b、74c的组与3个读头 74a、74b、74d的组，与标尺2072b、2072e的组合同样的，取得在上述读头的切换后 由用于基板保持具32的位置测量及位置控制的读头74b、74c、74d所对向的3个标尺 2072b、2072d及2072e的组合构成的坐标系统的格子修正信息(偏置)。
[0355]
本实施形态中，主控制装置100，针对基板保持具32在从图72(a)所示的第1位 置往图72(b)所示的第2位置于－x方向或 x方向移动的过程中，依序切换的、与 用于基板保持具32的位置控制的3个读头所对向的至少2个标尺2072的所有组合对应 的多个坐标系统，以上述程序，求出偏置δx、δy、δθz，作为格子修正信息储存于 记忆装置。
[0356]
又，例如，主控制装置100，亦可在从图73(a)所示的第1状态迁移至图73(b) 所示的第2状态的过程中，于读头74a、74b对向于标尺2072b、且读头74c、74d对向于 标尺2072e的第5状态，进行前述读头的切换及接续处理后，一边将包含复归的读头74b 的3个读头74a、74b、74d的测量值用于位置控制、一边在读头74c成为无法测量为止 的基板保持具32的移动中，于多个位置的各个，以前述程序来取得由标尺2072b与标 尺2072e构成的坐标系统的格子修正信息(偏置)。亦即，可以不是在用于基板保持具 32的位置测量及位置控制的3个读头所对向的至少2个标尺2072的每一组合取得1个格 子修正信息，而是取得多个格子修正信息。此外，亦可在包含用于基板保持具32的位 置测量及位置控制的3个读头、与多余的1个读头的4个读头与相同组合的至少2个标尺 2072对向的期间，使用上述手法实质上连续地取得格子修正信息。此情形，可于4个 读头对向于组合相同的至少2个标尺2072的全部
期间(区间)取得格子修正信息。又， 在用于基板保持具32的位置测量及位置控制的3个读头所对向的至少2个标尺2072的 每一组合取得的格子修正信息可以不是同数，例如可视不同标尺的组合使取得的格子 修正信息的数相异。例如，可在曝光动作时3个读头所对向的至少2个标尺2072的组合、 与曝光动作以外(对准动作、基板更换动作等)时3个读头所对向的至少2个标尺2072 的组合，使格子修正信息的数相异。又，本实施形态中，作为一例，是在基板往基板 保持具32的装载前或装载后、且基板处理动作(包含曝光动作、对准动作等)前，针 对用于基板保持具32的位置测量及位置控制的3个读头对向的至少2个标尺2072的所 有组合取得格子修正信息将的储存于记忆装置，并定期的、或随时进行格子修正信息 的更新。格子修正信息的更新，只要是例如能进行基板处理动作的状态的话，可在包 含基板处理动作中的任意时间点进行。
[0357]
又，实际上，虽可在取得所需的所有格子修正信息(偏置δx、δy、δθz)一次 后，于每次进行读头切换时进行偏置δx、δy、δθz的更新，但不一定非如此不可， 亦可在每进行既定次数的读头切换、或每经过既定片数的基板曝光结束后等，以预先 设定的间隔(interval)进行偏置δx、δy、δθz的更新。或在不进行读头切换的期间 中，进行偏置的取得、更新。此外，上述偏置的更新可在曝光动作前进行，若有需要， 亦可在曝光动作中进行。
[0358]
又，亦可使用上述各偏置，不是修正基板测量系统2070的测量信息(位置坐标)， 而是修正例如基板保持具32的驱动时的定位或位置控制的目标值，于此情形，可补偿 基板保持具32的位置误差(因未进行目标值修正的情形时产生的grid误差引起的位置 误差)。
[0359]
以上说明的本第20实施形态的液晶曝光装置，可发挥与前述第1实施形态同等的 作用效果。除此之外，使用本第20实施形态的液晶曝光装置，是在基板保持具32的驱 动中，以包含基板测量系统2070的x读头74x(x线性编码器)与y读头74y(y线性编 码器)的至少各1个的3个读头(编码器)测量在xy平面内的基板保持具32的位置信 息(含θz旋转)。并由主控制装置100，以在xy平面内的基板保持具32的位置在切换 前后能被维持的方式，将在xy平面内的基板保持具32的位置信息的测量所使用的读 头(编码器)，从切换前原本用于基板保持具32的位置测量及位置控制的3个读头(编 码器)中的任一读头(编码器)切换为另一读头(编码器)。因此，即便是进行基板 保持具32的位置控制所使用的编码器的切换，亦能在切换前后维持基板保持具32的 xy平面内的位置，进行正确的接续。因此，可一边进行多个读头(编码器)间的读 头的切换及接续(测量值的接续处理)、一边沿既定路径正确的使基板保持具32(基 板p)沿xy平面移动。
[0360]
又，根据本第20实施形态的液晶曝光装置，例如在基板的曝光中，由主控制装置 100，根据基板保持具32的位置信息的测量结果与该位置信息的测量所使用的3个读头 在xy平面内的位置信息((x、y)坐标值)，在xy平面内驱动基板保持具32。此情 形，主控制装置100，是利用仿射转换的关系一边算出在xy平面内的基板保持具32 的位置信息、一边在xy平面内驱动基板保持具32。如此，即能使用分别具有多个y 读头74y或多个x读头74x的编码器系统于基板保持具32的移动中一边切换用于控制 的读头(编码器)、一边以良好精度控制基板保持具32(基板p)的移动。
[0361]
又，根据本第20实施形态的液晶曝光装置，因应基板保持具32的x位置而不同的 每一用于基板保持具32的位置信息测量及位置控制的读头所对向的标尺的组合，取得 前述偏置δx、δy、δθz(格子修正信息)，视需要加以更新。因此，能因基板保持具 32的x位置
而不同的每一用于基板保持具32的位置信息测量及位置控制的读头所对 向的标尺组合的坐标系统间的grid误差(x、y位置误差及旋转误差)引起的编码器的 测量误差、或基板保持具32的位置误差受到补偿的方式，进行基板保持具32的驱动(位 置控制)。因此，就此点而言，亦能以良好精度进行基板保持具(基板p)的位置控制。
[0362]
又，上述第20实施形态，是使用测量光束从相邻一对标尺的1个脱离而移至另一 标尺的读头(相当于上述另一读头)将用以控制基板保持具的移动的修正信息(前述 另一读头的初期值)，根据以和至少1个标尺2072对向的3个读头测量的位置信息来加 以取得，但此修正信息，只要是在另一读头的测量光束移至另一标尺后，与至少1个 标尺2072对向的3个读头的1个从2维光栅rg脱离前取得即可。此外，将与至少1个标 尺2072对向的3个读头，切换为包含上述另一读头的不同的3个读头来进行基板保持具 的位置测量或位置控制的情形时，该切换，只要是在上述修正信息取得后，与至少1 个标尺2072对向的3个读头的1个脱离2维光栅rg的前进行即可。又，修正信息的取得 与切换可实质的同时进行。
[0363]
又，上述第20实施形态中，于x轴方向(第1方向)，为避免第1格子群的没有2维 光栅rg的区域(非格子区域)与第2格子群的没有2维光栅rg的区域(非格子区域) 重迭，换言之，为避免测量光束从2维光栅rg脱离的非测量期间于4个读头重迭，是 将第1格子群、第2格子群的各5个标尺2072配置在基板保持具32上。此情形， y侧 的读头座8所具有的读头74a、74b，于x轴方向是以较第1格子群的没有2维光栅rg的 区域的宽度大的间隔配置，－y侧的读头座88所具有的读头74c、74d，于x轴方向是 以较第2格子群的没有2维光栅rg的区域的宽度大的间隔配置。然而，包含多个2维格 子的格子部及可与此对向的多个读头的组合不限于此。重要的是，在移动体往x轴方 向的移动中，以测量光束从2维光栅rg脱离的(无法测量的)非测量期间于4个读头74a、 74b、74c、74d不会重迭的方式，设定读头74a、74b的间隔及读头74c、74d的间隔、 位置、第1、第2格子群的格子部的位置及长度或格子部的间隔及其位置即可。例如， 于第1格子群与第2格子群，即使于x轴方向的非格子区域的位置及宽度相同，可将与 第1格子群的至少1个标尺2072(2维光栅rg)对向的2个读头、和与第2格子群的至少 1个标尺2072(2维光栅rg)对向的2个读头，于x轴方向错开较非格子区域的宽度大 的距离配置。此情形，可将与第1格子群对向的2个读头中配置在 x侧的读头、和与 第2格子群对向的2个读头中配置在－x侧的读头的间隔，设成较非格子区域的宽度大 的间隔，亦可将与第1格子群对向的2个读头、和与第2格子群对向的2个读头，于x轴 方向交互配置、且将相邻一对读头的间隔设定成较非格子区域的宽度大。
[0364]
又，于上述第20实施形态，虽是针对在基板保持具32的 y侧区域配置第1格子 群、且在基板保持具32的－y侧区域配置第2格子群的情形做了说明，但亦可取代第1 格子群及第2格子群的一方、例如取代第1格子群而使用形成有延伸于x轴方向的2维 格子的单一标尺构件。此情形，亦可使1个读头常时对向于该单一的标尺构件。于此 情形，以和第2格子群对向设置3个读头，并藉由将该3个读头的x轴方向的间隔(测 量光束的照射位置间的间隔)设成大于相邻标尺2072上的2维光栅rg间的间隔，而与 基板保持具32的x轴方向的位置无关的，做成与第2格子群对向的3个读头中的至少2 个可与第2格子群的至少1个2维光栅rg对向的构成。或者，与基板保持具32的x轴方 向的位置无关的，采用对上述单一标尺构件常时至少有2个读头可对向的构成，再加 上对第2格子群的至少1个2维光栅rg至少有2个读头可对向的构成。于此情形，该至 少2个读头，于基板保持具32往x轴方向的移动中，测量光束
从多个标尺2072(2维光 栅rg)的1个脱离、并移至与1个标尺2072(2维光栅rg)相邻的另一标尺2072(2维 光栅rg)。然而，藉由将至少2个读头的x轴方向的间隔做成较相邻的标尺2072的2维 光栅rg的间隔大，于至少2个读头不会有非测量期间重迭、亦即总是有至少1个读头 的测量光束照射于标尺2072。此种构成下，总是有至少3个读头与至少1个标尺2072 对向而能测量3自由度方向的位置信息。
[0365]
又，第1格子群与第2格子群，其标尺的数量、相邻标尺的间隔等可以是不同的。 此情形，与第1格子群对向的至少2个读头和与第2格子群对向的至少2个读头，读头(测 量光束)的间隔、位置等可以是不同的。
[0366]
又，上述第20实施形态中，虽是使用分别形成有单一的2维光栅rg(格子区域) 的多个标尺2072，但不限于此，2个以上的格子区域，可将在x轴方向分离形成的标 尺2072，包含在第1格子群或第2格子群的至少一方。
[0367]
又，于上述第20实施形态中，由于总是以3个读头进行基板保持具32的位置(x、 y、θz)的测量、控制，因此是针对包含同一构成的各5个标尺2072的第1格子群与第 2格子群，于x轴方向错开既定距离配置的情形做了说明，但不限于此，可在第1格子 群与第2格子群于x轴方向不错开(彼此大致完全对向配置标尺2072的列)的情形下， 于一读头座88与另一读头座88，使基板保持具32的位置测量用读头(读头74x、74y) 的配置于x轴方向相异。此情形，亦能总是以3个读头进行基板保持具32的位置(x、 y、θz)的测量、控制。
[0368]
又，上述第20实施形态，虽是针对使用读头74a、74b与读头74c、74d的合计4个 读头的情形做了说明，但不限于此，亦可使用5个以上的读头。亦即，在分别对向于 第1格子群、第2格子群的各2个读头的至少一方，加上至少1个冗余(多余)读头。针 对此构成，于以下的第21实施形态说明的。
[0369]
《第21实施形态》
[0370]
接着，根据图75说明第21实施形态。本第21实施形态的液晶曝光装置的构成，除 基板测量系统2170的部分构成外，与前述第1及第20实施形态相同，因此，以下，仅 说明差异点，针对与第1及第20实施形态具有相同构成及功能的要素，是赋予与第1 及第20实施形态相同符号并省略其说明。
[0371]
图75中，显示了本第21实施形态的基板保持具32及基板测量系统2170的一对读头 座88，与投影光学系统16一起，以俯视图显示的。图75中，为易于理解说明，省略了 y粗动载台24等的图示，图75中，读头座88是以虚线显示，且亦省略了设在读头座88 上面的x读头880x、y读头88y的图示。
[0372]
于本第21实施形态的液晶曝光装置，如图75所示，夹着基板保持具32的基板载置 区域，于 y侧及－y侧的区域分别有标尺2072于x轴方向以既定间隔、例如配置有5 个。配置在基板载置区域的 y侧的5个标尺2072、与配置在－y侧区域的5个标尺 2072，相邻标尺2072间的间隔相同，且基板载置区域的 y侧及－y侧的各5个标尺 2072，是彼此对向配置在同一的x位置。因此，相邻标尺2072间的间隙的位置，是位 在大致同一的y轴方向的既定线宽的直线上。
[0373]
在位于 y侧的一读头座88的下面(－z侧的面)，以和标尺2072分别对向的状态， 从－x侧依序于x轴方向相距既定间隔(较相邻标尺2072彼此间的间隔大的距离)固 定有y读头74y、x读头74x及y读头74y的合计3个读头。在位于－y侧的另一读头座88 的下面(－z
读头74x，而使用以x轴方向及z轴方向为测量方向的编码器读头(xz读头)，并取代 各y读头74y，而使用以y轴方向及z轴方向为测量方向的编码器读头(yz读头)。作 为此等读头，可使用与例如美国专利第7,561,280号说明书所揭示的变位测量传感器读 头相同构成的传感器读头。此情形，主控制装置100在前述读头的切换及接续处理时， 可使用切换前用于基板保持具32的位置控制的3个读头的测量值，进行既定运算，据 以在用来保证于xy平面内3自由度方向(x、y、θz)的基板保持具32的位置的测量 结果的连续性的接续处理外，以和前述相同的手法，来进行用来保证于剩余3自由度 方向(z、θx、θy)的基板保持具32的位置的测量结果的连续性的接续处理。代表性 的以第20实施形态为例具体说明的话，主控制装置100，可将4个读头74a、74b、74c、 74d中、测量光束从1个2维光栅rg(格子区域)脱离而移至另一2维光栅rg(格子区 域)的1个读头用以控制于剩余的3自由度方向(z、θx、θy)的基板保持具32的移动 的修正信息，根据使用剩余3个读头进行的z轴方向(第3方向)的测量信息、或使用 该剩余的3个读头测量于剩余3自由度方向(z、θx、θy)的基板保持具32的位置信息， 来加以取得即可。
[0406]
又，当多个标尺板2072的高度与倾斜彼此偏差时，前述坐标系统间会产生偏差， 从而产生编码器系统的测量误差。因此，可做成亦修正因多个标尺板2072间的高度与 倾斜的偏差引起的编码器系统的测量误差。例如，于前述第20实施形态，在读头的切 换时，设定切换后读头的初期值的时间点，会产生4个读头74a～74d的全部同时对向 于任一标尺2072的第5状态。因此，主控制装置100可藉由利用此第5状态中的冗余读 头的测量值，来校准(校正)多个标尺板2072间的高度与倾斜的偏差引起的坐标系统 间的偏差。
[0407]
例如，与前述偏置(δx、δy、δθz)的取得时同样的，于第5状态下，进行使用 2组的3个1组的读头的基板保持具32的位置(z、θx、θy)测量，求出以该测量所得的 测量值彼此的差、亦即偏置δz、δθx、δθy，可将此偏置用于藉由与读头切换前后的 基板保持具32的位置信息测量及位置控制所使用的3个读头对向的至少2个标尺的组 合分别决定的坐标系统间的z轴方向、θx、θy方向的偏移的校准。
[0408]
又，上述第1～第22实施形态中，虽是以z倾斜位置测量系统及编码器系统构成基 板测量系统，但亦可例如取代x、y读头而使用xz、yz读头，来仅以编码器系统构成 基板测量系统。
[0409]
又，上述第17实施形态中，可在一对测量台1782之外，另设置于x轴方向离开测 量台1782配置的至少1个读头。例如，可于x轴方向离开投影光学系统16配置，相对 检测基板p的对准标记的标记检测系统(对准系统)于
±
y侧分别设置与测量台1782相 同的可动的读头单元，于基板标记的检测动作中，使用配置在标记检测系统的
±
y侧 的一对读头单元测量y粗动载台24的位置信息。此情形，于标记检测动作中，即使在 一对测量台1782所有的测量光束脱离标尺1788(或684)，亦能持续以基板测量系统(另 一对读头单元)进行y粗动载台24的位置信息的测量，而能提高标记检测系统的位置 等、曝光装置的设计自由度。此外，藉由将测量于z轴方向的基板p的位置信息的基 板测量系统配置在标记检测系统的近旁，在基板的z位置的检测动作中亦能进行使用 基板测量系统的y粗动载台24的位置信息的测量。或者，亦可将基板测量系统配置在 投影光学系统16的近旁，于基板的z位置的检测动作中以一对测量台1782测量y粗动 载台24的位置信息。此外，本实施形态中，当y粗动载台24被配置在离开投影光学系 统16设定的基板更换位置时，一对测量台1782的所有读头测量
光束将脱离标尺1788 (或684)。因此，可设置与被配置在基板更换位置的y粗动载台24的多个标尺1788(或 684)的至少1个对向的至少1个读头(可动读头或固定读头的任一种皆可)，于基板更 换动作中，亦能进行使用基板测量系统的y粗动载台24的位置信息的测量。此处，亦 可在y粗动载台24到达基板更换位置前，换言之，在被配置于基板更换位置的至少1 个读头对向于标尺1788(或684)之前，一对测量台1782的所有读头测量光束脱离标 尺1788(或684)的情形时，于y粗动载台24的移动路径途中追加配置至少1个读头， 以能持续进行使用基板测量系统的基板保持具32的位置信息的测量。此外，若使用与 一对测量桌台1782另行设置的至少1个读头的情形时，可使用一对测量桌台1782的测 量信息来进行前述接续处理。
[0410]
同样的，同样的，上述第1～第22实施形态中，亦可取代各x读头74x而使用前述 xz读头，并取代各y读头74y而使用前述yz读头。此情形，包含一对xz读头与一对 yz读头、以及能与此等对向的标尺的编码器系统，可测量关于多个读头74x、74y的 旋转(θz)与倾斜(θx及θy的至少一方)的至少一方的位置信息。
[0411]
又，标尺72、78、2072等虽表面形成有格子(表面为格子面)，但亦可例如设置 覆盖格子的罩构件(玻璃或薄膜等)，使格子面成为标尺的内部。
[0412]
又，上述第17实施形态中，虽是针对各一对x读头80x及y读头80y为用以测量y 粗动载台24的位置的读头、且设于测量台1782的情形做了说明，但各一对x读头80x 及y读头80y可以是不透过测量台1782，而是设于用以测量y粗动载台24的位置的读 头。
[0413]
又，截至目前为止的说明中，虽是针对基板编码器系统所具备的各读头在xy平 面内的测量方向，为x轴方向或y轴方向的情形做了说明，但不限于此，亦可取代2 维光栅，使用在xy平面内、以和x轴方向及y轴方向交叉且彼此正交的2方向(为方 便起见，称α方向、β方向)为周期方向的2维格子，并与此对应的，作为前述各读头， 使用以α方向(及z轴方向)或β方向(及z轴方向)为各自的测量方向的读头。此外， 亦可于前述第1实施形态中，取代各x标尺、y标尺，使用例如以α方向、β方向为周期 方向的1维格子，并与此对应的，作为前述各读头，使用以α方向(及z轴方向)或β 方向(及z轴方向)为各自的测量方向的读头。
[0414]
又，上述第20～第22实施形态中，亦可将第1格子群以前述x标尺的列构成、将 第2格子群以前述y标尺的列构成，对应于此，将可与x标尺的列对向的多个x读头(或 xz读头)以既定间隔(较相邻x标尺间的间隔大的间隔)配置，并将可与y标尺的列 对向的多个y读头(或yz读头)以既定间隔(较相邻y标尺间的间隔大的间隔)配置。
[0415]
又，上述第20～第22实施形态中，作为排列于x轴方向或y轴方向配置的各标尺， 当然可使用长度相异的多个标尺。此情形，若是将周期方向相同、或正交的标尺的列 排列2列以上设置时，可选择标尺间的空间可设定成彼此不会重迭的长度的标尺。亦 即，构成一列标尺列的标尺间的空间的配置间隔，可以不是等间隔。此外，例如，于 粗动载台上的标尺列中，可将配置在中央部的标尺设定为物理上较在x轴方向中的靠 近两端部分别配置的标尺(标尺列中，配置在各端部的标尺)的x轴方向的长度长。
[0416]
又，上述第6、第7、第16、第17各实施形态中，测量台用编码器，虽只要至少测 量测量台的移动方向(上述实施形态中，为y轴方向)的位置信息即可，但可亦测量 与移动方向不同的至少1个方向(x、z、θx、θy、θz中的至少1者)的位置信息。例 如，测量方向为x轴方向的读头(x读头)的x轴方向的位置信息亦加以测量，以此x 信息与x读头的测量信息来求出x
轴方向的位置信息亦可。不过，测量方向为y轴方 向的读头(y读头)，可以不使用与测量方向正交的x轴方向的位置信息。同样的，x 读头，可以不使用与测量方向正交的y轴方向的位置信息。重要的是，可测量与读头 的测量方向相异的至少1个方向的位置信息，以此测量信息与读头的测量信息来求出 于测量方向的基板保持具622等的位置信息。此外，可使用例如于x轴方向位置相异 的2条测量光束测量可动读头的θz方向的位置信息(旋转信息)，使用此旋转信息与x 读头及y读头的测量信息，来求出基板保持具622等的x轴、y轴方向的位置信息。此 情形，藉由将x读头与y读头中的一方2个、另一方1个，以测量方向相同的2个读头在 与测量方向正交的方向不在同一位置的方式配置，即能测量x、y、θz方向的位置信 息。另1个读头，最好是对与2个读头不同的位置照射测量光束。再者，若可动读头用 编码器的读头是xz读头或yz读头的话，藉由例如将xz读头与yz读头中一方2个、另 一方1个，以不在同一直线上的方式配置，则不仅是z信息，亦能测量θx及θy方向的位 置信息(倾斜信息)。亦可以θx及θy方向的位置信息的至少一方、与x读头及y读头的 测量信息求出x轴、y轴方向的位置信息。同样的，可由xz读头或yz读头亦测量与z 轴方向不同方向的可动读头的位置信息，以此测量信息与读头测量信息求出z轴方向 的位置信息。此外，若测量可动读头的位置信息的编码器的标尺是单一标尺(格子区 域)的话，无论xyθz或zθxθy皆能以3个读头加以测量，但在多个标尺(格子区域) 是分离配置的情形时，只要x读头及y读头各2个、或xz读头及yz读头各2个，以4个 读头的非测量期间不会重迭的方式设定x轴方向的间隔即可。此说明，虽是以格子区 域与xy平面平行配置的标尺为前提，但格子区域是与yz平面平行配置的标尺亦同样 可以适用。
[0417]
又，上述第6、第7、第16、第17各实施形态中，作为测量测量台的位置信息的测 量装置是使用编码器，但亦可使用编码器以外的例如干涉仪等。此情形，只要例如于 可动读头(或其保持部)设置反射面，与y轴方向平行的将测量光束照射于反射面即 可。特别是在可动读头仅往y轴方向移动的情形时，无需加大反射面，为降低空气波 动的干涉仪光束的光路的局部空调亦容易。
[0418]
又，上述第17实施形态中，是将对y粗动载台24的标尺照射测量光束的可动读头， 于y轴方向在投影系统的两侧各设置1个，但亦可将可动读头各设置多个。例如，于y 轴方向以多个可动读头的测量期间部分重迭的方式配置相邻的可动读头(测量光束) 的话，即使y粗动载台24往y轴方向移动，亦能以多个可动读头持续进行位置测量。 此情形，多个可动读头需进行接续处理。因此，亦可仅于投影系统的
±
y侧的一方配 置，使用对至少1个标尺照射测量光束的多个读头的测量信息来取得关于测量光束进 入标尺的其他读头的修正信息，或者不仅是
±
y侧的一方而亦可使用配置在另一侧的 至少1个读头的测量信息。重要的是，使用分别配置在
±
y侧的多个读头中、正在对标 尺照射测量光束的至少3个读头的测量信息即可。
[0419]
又，上述第20～第22实施形态的基板测量系统中，虽是于扫描曝光中基板p移动 的扫描方向(x轴方向)将多个标尺(格子区域)彼此分离配置、并将多个读头设定 为能于基板p的步进方向(y轴方向)移动，但亦可与此相反的，于步进方向(y轴方 向)将多个标尺彼此分离配置、并将多个读头设定为能于扫描方向(x轴方向)移动。
[0420]
又，上述第1～第22实施形态中，编码器系统的读头无需具备将来自光源的光束 照射于标尺的光学系统的全部，可仅具有光学系统的一部分，例如仅具有射出部。
[0421]
又，上述第20～第22实施形态中，一对读头座88的读头不限于图71的配置(x读 头及y读头分别配置在
±
y侧、且在
±
y侧的一方与另一方，于x轴方向x、y读头的配 置相反)，可例如将x读头及y读头分别配置在
±
y侧、且在
±
y侧的一方与另一方，于 x轴方向x、y读头的配置相同。不过，当2个y读头的x位置相同时、2个x读头中的 一方测量中断时，将无法测量θz信息，因此最好是使2个y读头的x位置相异较佳。
[0422]
又，上述第1～第22实施形态中，将被编码器系统的读头照射测量光束的标尺(标 尺构件、格子部)，设置在投影光学系统16侧的情形时，不限于支承投影光学系统16 的装置本体18(框架构件)的一部分，亦可设于投影光学系统16的镜筒部分。
[0423]
又，上述第1～第22实施形态，虽是针对扫描曝光时的掩膜m及基板的移动方向 (扫描方向)为x轴方向的情形做了说明，但扫描方向亦可以是y轴方向。此情形， 必须将掩膜载台的长行程方向设定为绕z轴旋转90度的面向，并亦须使投影光学系统 16的面向绕z轴旋转90度等。
[0424]
又，上述第20～第22实施形态中，于y粗动载台24上，将多个标尺于x轴方向透 过既定间隔的间隙连接配置的标尺群(标尺列)，配置复数列、彼此于y轴方向分离 的不同位置(例如相对投影光学系统16的一侧( y侧)的位置、与另一(－y侧) 位置)时，可将此多个标尺群(多个标尺列)，以能根据在基板上照射(shot)的配 置(shot map)区分使用的方式构成。例如，若使多个标尺列的整体的长度，于标尺 列间彼此相异的话，即能因应不同的照射图(shot map)，亦能因应取4面的情形与取 6面的情形等、形成在基板上的照射区域的数的变化。此外，以此方式配置、并使各 标尺列的间隙位于x轴方向彼此相异的位置的话，与多个标尺列分别对应的读头即不 会有同时位于测量范围外的情形，因此能减少接续处理中被视为不定值的传感器的 数，而能高精度的进行接续处理。
[0425]
又，于y粗动载台24上，亦可将多个标尺于x轴方向透过既定间隔的间隙连接配 置的标尺群(标尺列)中，1个标尺(x轴测量用的图案)的x轴方向的长度，做成可 连续测定1照射区域的长度(在一边使基板保持具上的基板于x轴方向移动一边进行 扫描曝光时，元件图案被照射而于基板上形成的长度)份的长度。做成如此的话，在 1照射区域的扫描曝光中，无需进行对复数标尺的读头的接续控制，可容易地进行扫 描曝光中的基板p(基板保持具)的位置测量(位置控制)。
[0426]
又，上述第1～第22实施形态中，基板测量系统，为取得基板载台装置移动到与 基板装载器的基板更换位置的期间的位置信息，可于基板载台装置或其他载台装置设 置基板更换用的标尺，使用朝下读头取得基板载台装置的位置信息。或者，亦可于基 板载台装置或其他载台装置设置基板更换用的读头，藉测量标尺或基板更换用标尺来 取得基板载台装置的位置信息。
[0427]
此外，亦可设置与编码器系统不同的其他位置测量系统(例如载台上的标记与观 察此的观察系统)来进行载台的更换位置控制(管理)。
[0428]
又，基板载台装置，至少能将基板p沿水平面以长行程驱动即可，视情形可以不 进行6自由度方向的微小定位。针对此种2维载台装置，亦非适合适用上述第1～第19 实施形态的基板编码器系统。
[0429]
又，照明光可以是arf准分子激光(波长193nm)、krf准分子激光(波长248nm) 等的紫外光、或f2激光(波长157nm)等的真空紫外光。此外，作为照明光，亦可使 用例如将从dfb
半导体激光或光纤激光发出的红外线带或可见光带的单一波长激光 以例如掺杂有铒(或铒及镱两者)的光纤放大器加以増幅，使用非线性光学结晶加以波 长转换为紫外光的谐波。再者，亦可使用固体激光(波长：355nm、266nm)等。
[0430]
又，以上虽针对投影光学系统16为具备多个支光学系统的多透镜方式投影光学系 统的情形做了说明，但投影光学系统的数量不限于此，只要是1支以上即可。此外， 亦不限于多透镜方式的投影光学系统，亦可以是使用例如欧夫那(ofner)型大型反射镜 的投影光学系统等。再着，作为投影光学系统16可以是缩小系统及扩大系统的任一种。
[0431]
又，曝光装置的用途不限于将液晶显示元件图案转印至方型玻璃板片的液晶用曝 光装置，亦能广泛的适用于例如有机el(electro
‑
luminescence)面板制造用的曝光 装置、半导体制造用的曝光装置、用以制造薄膜磁头、微机器及dna晶片等的曝光 装置。此外，不仅仅是半导体元件等的微元件，为制造光曝光装置、euv曝光装置、 x线曝光装置及电子束曝光装置等所使用的标线片或掩膜，而将电路图案转印至玻璃 基板或硅晶片等曝光装置的制造，亦能适用。
[0432]
又，作为曝光对象的物体不限于玻璃板，亦可以是例如晶片、陶瓷基板、薄膜构 件、或掩膜母板(空白掩膜)等其他物体。此外，曝光对象物为平板显示器用基板的 情形时，该基板的厚度无特限定，亦包含例如薄膜状(具可挠性的片状构件)的物。 又，本实施形态的曝光装置，在曝光对象物为一边长度、或对角长500mm以上的基板 时尤其有效。
[0433]
液晶显示元件(或半导体元件)等的电子元件，经由进行元件的功能性能设计的 步骤、依据此设计步骤制作掩膜(或标线片)的步骤、制作玻璃基板(或晶片)的步 骤、以上述各实施形态的曝光装置及其曝光方法将掩膜(标线片)的图案转印至玻璃 基板的光刻步骤、对曝光后的玻璃基板进行显影的显影步骤、将残存抗蚀剂部分以外 的部分的露出构件以蚀刻加以去除的蚀刻步骤、将蚀刻后不要的抗蚀剂去除的抗蚀剂 除去步骤、以及元件组装步骤、检查步骤等而制造出。此情形，于光刻步骤使用上述 实施形态的曝光装置实施前述曝光方法，于玻璃基板上形成元件图案，因此能以良好 的生产性制造高集成度的元件。
[0434]
又，上述各实施形态的多个构成要件可适当加以组合。因此，上述多个构成要件 中的一部是可以不使用的。
[0435]
又，援用关于上述实施形态所引用的曝光装置等的所有公报、国际公开、美国专 利申请公开说明书及美国专利说明书等的揭示，作为本说明书记载的一部分。
[0436]
产业上的可利用性
[0437]
如以上的说明，本发明的移动体装置及移动方法，适合移动物体。本发明的曝光 装置及曝光方法，适合使物体曝光。又，本发明的平板显示器的制造方法，适于平板 显示器的制造。此外，本发明的元件制造方法，适于微元件的制造。
[0438]
附图标号：
[0439]
10
ꢀꢀꢀꢀ
液晶曝光装置
[0440]
20
ꢀꢀꢀꢀ
基板载台装置
[0441]
24
ꢀꢀꢀꢀ
y粗动载台
[0442]
32
ꢀꢀꢀꢀ
基板保持具
[0443]
70
ꢀꢀꢀꢀ
基板测量系统
[0444]
72
ꢀꢀꢀꢀ
朝上标尺
[0445]
74x
ꢀꢀꢀ
朝下x读头
[0446]
74y
ꢀꢀꢀ
朝下y读头
[0447]
78
ꢀꢀꢀꢀ
朝下标尺
[0448]
80x
ꢀꢀꢀ
朝上x读头
[0449]
80y
ꢀꢀꢀ
朝上y读头
[0450]
100
ꢀꢀꢀ
主控制装置
[0451]
p
ꢀꢀꢀꢀꢀ
基板