一种提高微波CVD窗口耐热性的复合窗口结构的制作方法

技术特征：
1.一种提高微波cvd窗口耐热性的复合窗口结构，其特征在于，包括：真空组件及固接于所述真空组件上的复合窗口组件；所述真空组件包括多个金属反射挡板及用于封盖金属反射挡板，多个所述金属反射挡板构成一密封腔室，所述密封腔室的上端通过端盖进行密封，所述金属反射挡板上一体式连接于平面板，所述平面板上开设有微波孔；所述复合窗口组件包括固定于所述平面板上的第一窗口件及固接于所述平面板远离第一窗口件一端面上的第二窗口件，所述第一窗口件与所述第二窗口件平行且间隔设置。2.如权利要求1所述的一种提高微波cvd窗口耐热性的复合窗口结构，其特征在于，所述第一窗口件为二氧化硅材料，所述二氧化硅材料为石英材料。3.如权利要求1所述的一种提高微波cvd窗口耐热性的复合窗口结构，其特征在于，所述第二窗口件为导热材料，所述导热材料为cvd金刚石厚膜。4.如权利要求1所述的一种提高微波cvd窗口耐热性的复合窗口结构，其特征在于，所述第一窗口件与第二窗口件均为圆形结构，且所述第二窗口件通过钎焊的方式焊接于平面板上，所述第一窗口件通过圆环形金属真空密封圈密封设置于金属反射挡板上。5.如权利要求2所述的一种提高微波cvd窗口耐热性的复合窗口结构，其特征在于，所述第一窗口件的一相对两面抛光平整，且第一窗口件的厚度为8.0
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12.0毫米之间。6.如权利要求3所述的一种提高微波cvd窗口耐热性的复合窗口结构，其特征在于，所述第二窗口5一相对两面抛光平整，且第二窗口件的厚度在1.0
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2.0毫米之间。7.如权利要求1
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6所述的任一的一种提高微波cvd窗口耐热性的复合窗口结构，其特征在于，还包括与真空组件连接的抽真空组件与供气组件、设置于真空组件内的等离子体反应室及与所述真空组件连通的微波组件，所述抽真空组件包括真空泵，所述真空泵与真空组件相连接；所述供气组件包括与真空组件连通的反应原料气体及与用于控制反应原料气体流量的气体流量控制器；所述微波组件包括微波源、与所述微波源连通的波导管及与所述波导管连接的微波模式转换器；所述等离子体反应室包括基片台及设置于所述基片台上的等离子球体。

技术总结
本发明公开了一种提高微波CVD窗口耐热性的复合窗口结构，包括：真空组件及固接于所述真空组件上的复合窗口组件；所述真空组件包括多个金属反射挡板及用于封盖金属反射挡板，多个所述金属反射挡板构成一密封腔室，所述密封腔室的上端通过端盖进行密封，所述金属反射挡板上一体式连接于平面板，所述平面板上开设有微波孔；所述复合窗口组件包括固定于所述平面板上的第一窗口件及固接于所述平面板远离第一窗口件一端面上的第二窗口件，所述第一窗口件与所述第二窗口件平行且间隔设置。根据本发明，自身良好的散热特点，形成一个较低温度的热屏蔽层，避免传统的微波窗口过热，可以大幅度提高微波馈入真空腔的功率值。度提高微波馈入真空腔的功率值。度提高微波馈入真空腔的功率值。


技术研发人员：胡常青 赵建海
受保护的技术使用者：上海铂世光半导体科技有限公司
技术研发日：2021.06.10
技术公布日：2021/10/18