镀膜材料存放装置、真空镀膜设备及真空镀膜方法与流程

技术特征：
1.一种镀膜材料存放装置，应用于真空镀膜设备，其特征在于，包括：连接真空腔室的密封腔室，用于放置真空镀膜设备镀膜使用的镀膜材料；设于所述密封腔室与真空腔室接合处的真空阀门，用于连通或者分隔所述密封腔室与真空腔室；连接所述真空阀门的驱动装置，用于驱动打开或者关闭所述真空阀门；连接所述驱动装置的控制装置，用于控制所述驱动装置在镀膜过程中打开所述真空阀门，在镀膜后关闭所述真空阀门，对密封腔室内的镀膜材料进行密封保护。2.根据权利要求1所述的镀膜材料存放装置，其特征在于，还包括：连接所述密封腔室的抽气设备或充气设备，以及内置于所述密封腔室内的真空检测装置；所述真空检测装置用于在所述真空阀门处于关闭状态下检测密封腔室的真空度，所述抽气设备用于从所述密封腔室抽气，所述充气设备用于向密封室注入惰性气体。3.根据权利要求1所述的镀膜材料存放装置，其特征在于，所述真空阀门包括真空插板阀、真空翻板阀或真空气动阀；所述驱动装置采用电动或者气动方式进行驱动。4.根据权利要求1所述的镀膜材料存放装置，其特征在于，所述镀膜材料存放装置在存放镀膜材料的位置附近设有供气口，用于注入惰性气体。5.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括：真空腔室、至少一个权利要求1-4任一项所述的镀膜材料存放装置、真空泵以及离子源；其中，所述真空腔室内设置有工件挂装结构，用于放置镀膜的工件；所述真空泵连接真空腔室，用于对真空腔室进行抽真空；所述离子源连接真空腔室，用于对工件进行清洁或对镀膜形成的膜层进行后处理。6.一种真空镀膜方法，其特征在于，应用于权利要求5所述的真空镀膜设备，该方法包括：在真空腔室中放入新的工件；通过真空泵将所述真空腔室抽真空；打开镀膜材料存放装置的真空阀门，连通密封腔室与真空腔室，利用密封腔室内的镀膜材料对真空腔室内的工件进行镀膜；在镀膜完成后，关闭所述真空阀门以分隔所述真空腔室与所述密封腔室；关闭真空泵，在大气压状态下打开真空腔室腔门，取出所述已镀膜的工件。7.根据权利要求6所述的真空镀膜方法，其特征在于，在真空腔室中放入新的工件之前，还包括：在镀膜材料存放装置的密封腔室内放入镀膜材料，关闭真空腔室腔门；通过真空泵将所述真空腔室抽真空；执行清洁工序，对镀膜材料的表面进行清洁；在清洁工序完成后，关闭镀膜材料存放装置的真空阀门，分隔密封腔室与真空腔室。8.根据权利要求7所述的真空镀膜方法，其特征在于，若镀膜材料存放装置的数量为多个；在执行清洁工序前，同时打开各个镀膜材料存放装置的真空阀门，连通密封腔室与真空腔室；依次对各个镀膜材料存放装置的密封腔室内的镀膜材料的表面进行清洁。
9.根据权利要求6所述的真空镀膜方法，其特征在于，若镀膜材料存放装置的数量为多个；所述打开镀膜材料存放装置的真空阀门，连通密封腔室与真空腔室，利用密封腔室内的镀膜材料对真空腔室内的工件进行镀膜的步骤，包括：打开当前的镀膜材料存放装置的真空阀门，同时保持关闭其他镀膜材料存放装置的真空阀门；执行镀膜工序，利用当前的镀膜材料存放装置的密封腔室内的镀膜材料对工件进行镀膜；在镀膜完成后，先关闭当前的镀膜材料存放装置的真空阀门，然后打下一个镀膜材料存放装置的真空阀门，利用密封腔室内的镀膜材料对工件进行镀膜；以此类推，直至使用所有所需的镀膜材料对工件执行镀膜工序。10.根据权利要求6所述的真空镀膜方法，其特征在于，关闭镀膜材料存放装置的真空阀门，分隔密封腔室与真空腔室，包括：开启真空泵运行，在高真空状态下关闭真空阀门，分隔真空腔室与密封腔室；或者，在真空腔室处于富氩气的状态下，关闭真空阀门。

技术总结
本申请涉及一种镀膜材料存放装置、真空镀膜设备及真空镀膜方法，所述镀膜材料存放装置包括：连接真空腔室的密封腔室，用于放置真空镀膜设备镀膜使用的镀膜材料；设于密封腔室与真空腔室接合处的真空阀门，用于连通或者分隔密封腔室与真空腔室；连接真空阀门的驱动装置，用于驱动打开或者关闭真空阀门；连接驱动装置的控制装置，用于控制驱动装置在镀膜过程中打开真空阀门，在镀膜后关闭真空阀门，对密封腔室内的镀膜材料进行密封保护；该技术方案，避免了密封腔室内的镀膜材料与空气接触发生反应或者被吸附污染，保证了镀膜材料的纯度，使得在镀膜过程中，无需频繁清洁镀膜材料，提高了镀膜效率，也提升了镀膜效果。也提升了镀膜效果。也提升了镀膜效果。


技术研发人员：刘玮 朱昆 曹健辉 陈惠君 颜学庆 刘晓兰
受保护的技术使用者：等离子体装备科技（广州）有限公司
技术研发日：2021.12.28
技术公布日：2022/4/8