一种用于化学机械抛光的柔性膜、承载头及抛光设备的制作方法

1.本实用新型涉及化学机械抛光领域，特别涉及一种用于化学机械抛光的柔性膜、承载头及抛光设备。


背景技术：

2.集成电路产业是信息技术产业的核心，在助推制造业向数字化、智能化转型升级的过程中发挥着关键作用。芯片是集成电路的载体，芯片制造涉及芯片设计、晶圆制造、晶圆加工、电性测量、切割封装和测试等工艺流程。其中，化学机械抛光属于晶圆制造工序。
3.化学机械抛光(chemical mechanical planarization,cmp)是一种全局平坦化的超精密表面加工技术。化学机械抛光通常将晶圆吸合于承载头的底面，晶圆具有沉积层的一面抵压于抛光垫上表面，承载头在驱动组件的致动下与抛光垫同向旋转并给予晶圆向下的载荷；同时，抛光液供给于抛光垫的上表面并分布在晶圆与抛光垫之间，使得晶圆在化学和机械的共同作用下完成晶圆的化学机械抛光。
4.现有技术的cmp承载头，多腔室隔膜具有五个可调压的腔室分别作用于基板的不同环形区域，这五个腔室配合进行抵压抛光作业可以相较于仅具有一个腔室或少于五个腔室的承载头提升抛光的均匀性和一致性。为了更均匀一致的对基板进行抛光作业，业界一致追求对承载头中用于对基板作业的隔膜划分更多腔室，例如六个可调压的腔室。
5.另外，在增加腔室个数的同时还要尽量减小“边缘效应”(晶圆边缘抛光难于调控，由于转速高于晶圆内侧等原因导致过抛)，即通过对最边缘的两个或三个腔室进行结构优化从而增强该区域的调控有效性、稳定性、精确性等。
6.总之，业界希望提供一种化学机械承载头以解决抛光均匀性、一致性、边缘效应、加载有效性、加载可靠性、加载精确度等问题，特别是解决基板边缘部分过抛和/或欠抛等问题，然而，这些问题之间通常又存在彼此影响导致承载头的设计难以权衡。


技术实现要素：

7.本实用新型实施例提供了一种用于化学机械抛光的柔性膜、承载头及抛光设备，旨在至少一定程度上解决现有技术中存在的技术问题之一。
8.根据本实用新型的一个方面，本实用新型提供了一种用于化学机械抛光的柔性膜，包括：用于接收基板的圆形的底板部；圆环状的边缘侧壁，该边缘侧壁具有沿所述底板部的周缘向上竖直延伸形成的直立部、设置于所述直立部上侧的弯折部、从所述弯折部上端向所述底板部的内侧水平延伸形成的第一水平延伸部，所述边缘侧壁底部与所述底板部形成一体；以及与所述边缘侧壁同心相邻设置的圆环状的竖直的内侧壁，所述内侧壁在其顶端具有弯向所述底板部的内侧水平延伸的第二水平延伸部，所述内侧壁在其底部与所述底板部形成一体；所述弯折部包括从直立部朝上向内折弯延伸的第一弯折部和自所述第一弯折部朝上向外折弯延伸的第二弯折部，所述第一弯折部与水平面的夹角小于所述第二弯折部与水平面的夹角。
9.作为优选实施例，第一弯折部与水平面的夹角较第二弯折部与水平面的夹角小1～10
°
。
10.作为优选实施例，所述第一弯折部与水平面的夹角较第二弯折部与水平面的夹角小3～8
°
。
11.作为优选实施例，所述弯折部向外延伸不超过所述直立部的圆周外表面。
12.作为优选实施例，所述第一弯折部与水平面的夹角为1～25
°
。
13.作为优选实施例，所述弯折部向内弯折的水平投影不超过所述第一水平延伸部的内沿。
14.作为优选实施例，还包括从所述边缘侧壁的内表面朝径向内侧延伸的间隔板，所述间隔板的内沿较所述第二水平延伸部的内沿远离所述底板部的中心位置。
15.作为优选实施例，所述间隔板的内沿与所述第二水平延伸部的内沿之间的水平距离为2～10mm。
16.根据本实用新型的另一个方面，本实用新型提供了一种用于化学机械抛光的承载头，其包括上面所述的用于化学机械抛光的柔性膜。
17.根据本实用新型的再一个方面，本实用新型提供了一种抛光设备，其包括上面所述的用于化学机械抛光的承载头。
18.本实用新型的有益效果包括：通过对边缘腔室进行结构优化从而增强该区域的调控有效性、稳定性、精确性等并提供一种化学机械抛光柔性膜、承载头和抛光设备以解决抛光均匀性、一致性、边缘效应、加载有效性、加载可靠性、加载经确定等问题，特别是在一定程度上解决了基板边缘部分过抛和/或欠抛等问题；此外，在不影响所述承载头及化学机械抛光设备作业功能及可靠性的前提下改善及提升抛光过程中膜厚测量的准确性从而提升抛光制程控制及抛光结果的准确性等。
附图说明
19.通过结合以下附图所作的详细描述，本实用新型的优点将变得更清楚和更容易理解，这些附图只是示意性的，并不限制本实用新型的保护范围，其中：
20.图1是根据本实用新型所述用于化学机械抛光的承载头300的结构示意图；
21.图2是根据本实用新型所述柔性膜14的结构示意图；
22.图3是图2中的柔性膜14边缘部分的局部放大图；
23.图4是本实用新型柔性膜14加载时弯折部143的形变示意图；
24.图5示出了不同夹角差值对应的晶圆边缘部分的材料去除速率轮廓线；
25.图6是本实用新型所述柔性膜14边缘部分另一个实施例的示意图；
26.图7是本实用新型所述抛光设备1000的结构示意图；
27.图8是现有技术与本实用新型对应的材料去除速率轮廓线。
具体实施方式
28.下面结合具体实施例及其附图，对本实用新型所述技术方案进行详细说明。在此记载的实施例为本实用新型的特定的具体实施方式，用于说明本实用新型的构思；这些说明均是解释性和示例性的，不应理解为对本实用新型实施方式及本实用新型保护范围的限
制。除在此记载的实施例外，本领域技术人员还能够基于本技术权利要求书及其说明书所公开的内容采用显而易见的其它技术方案，这些技术方案包括采用对在此记载的实施例的做出任何显而易见的替换和修改的技术方案。
29.本说明书的附图为示意图，辅助说明本实用新型的构思，示意性地表示各部分的形状及其相互关系。应当理解的是，为了便于清楚地表现出本实用新型实施例的各部件的结构，各附图之间并未按照相同的比例绘制，相同的参考标记用于表示附图中相同的部分。
30.化学机械抛光设备简称抛光设备，其一般包括抛光盘、抛光垫、供液装置、修整装置、检测装置、控制装置等，其构成方案作为现有技术已在现有技术中予以充分体现，本实用新型中不再赘述，但应当理解的是，根据本实用新型的化学机械抛光设备亦包括抛光盘、抛光垫、供液装置、修整装置、检测装置、控制装置等作业的必要零部件及构件。下面主要介绍根据本实用新型的化学机械抛光设备中的核心件承载头的构造和功能，下面的所描述的承载头可以应用在根据本实用新型的化学机械抛光设备中。需要指出的是，如未做特别说明，本实施方式中所述的向内、径向向内是指沿底板部141的半径方向向内，所述的向外、径向向外是指沿底板部141的半径方向向外；并且下述任何关于承载头和柔性膜的技术特征都是可以组合和/或单独形成的，只要这些特征和/或特征的组合能够改善化学机械抛光的作业性能和制程结果；此外，本实用新型中的术语如果与国家或国际标准或在先或在后申请不一致的地方，应根据该零件、部件、构件或组件等的实际作用等同的进行解释和理解，而不应作为限制本实用新型保护范围的依据。在本实用新型中，“化学机械抛光(chemical mechanical polishing，cmp)”也称为“化学机械平坦化(chemical mechanical planarization，cmp)”，晶圆(wafer)也称基板(substrate)，材料去除速率(material remove rate，mrr)，其含义和实际作用等同。
31.如图1所示，本实用新型提供了一种化学机械抛光头300，为了描述方便，下文将化学机械抛光头简称为承载头。该承载头300包括平衡架11、连轴盘12、承载盘13、柔性膜14、环状的环状压盘15、保持环16、第一夹环18、第二夹环19、第三夹环20、环状的弹性膜21等，其中，连轴盘12连接于外部驱动轴以带动整个承载头300移动和/或旋转。具体而言，第二夹环19和第三夹环20分别将弹性模21的外缘和内缘夹紧结合至承载盘13和连轴盘12使得承载盘13可随连轴盘12一体旋转。
32.具有中轴部、底盘部、周壁部和翼缘部的平衡架11与连轴盘12同轴设置，其中轴部可滑动地插入至连轴盘12的中心轴孔中并可在其中沿竖直方向移动，平衡架11的翼缘部借助垫圈17、第一夹环18以及未示出的螺栓结合至承载盘13的中心阶梯孔，使得承载盘13可随平衡架11一起旋转和/或沿竖直方向移动。
33.柔性膜14被环状压盘15夹紧结合至承载盘13的下部并且可以与承载盘13一起移动和/或转动；柔性膜14、环状压盘15与承载盘13配合形成c1、c2、c3、c4、c5、c6、c7这七个可以分别调控的可调压腔室。尽管没有示意出，但可以理解的是，承载头300内设置有多个可与外部气路耦合连接的气体通道，这些气体通道贯穿连轴盘12、承载盘13、环状压盘15分别连通至这些可调压腔室，从而通过向这些腔室内通入气体或从这些腔室内抽出气体来调节其压力；特别的，可以通过连轴盘12中的沿竖直方向与平衡架11的中轴部平行延伸的通孔来调节可调压腔室c8的压力，以调节承载盘13及柔性膜14沿竖直方向相对于连轴盘12的位移。
34.根据本实用新型的柔性膜14的结构示意图，如图2所示，该柔性膜14包括圆形的底板部141和圆环状的边缘侧壁，所述边缘侧壁包括沿底板部141竖直向上延伸的直立部142、连接于直立部142顶端的弯折部143和从所述弯折部143上端向内侧水平延伸形成的第一水平延伸部145，所述边缘侧壁底部与所述底板部141形成一体。
35.所述第一水平延伸部145的自由端具有沿着竖直方朝向内侧下凸起延伸的密封部145a，为了增强直立部142的刚度使得其可以更有效地沿竖直方朝向内侧下传递作用力，竖直部142的外侧表面形成有用于设置柔性膜外支撑环的圆环状的凹槽，该凹槽沿径向朝向内侧延伸且其厚度不超过直立部142的厚度的一半，使得柔性膜外支撑环可以稳定卡合在凹槽中，柔性膜外支撑环和凹槽向上延伸至接近弯折部143下端的位置并且向下延伸至距底板部141的上表面0.5mm至4mm的位置，特别的，柔性膜外支撑环卡合在凹槽中后其沿径向方向延伸至不超过直立部142的径向外表面2mm以避免在柔性膜外支撑环下部附近区域形成抛光液结晶。
36.进一步的，在直立部142与底板部141的接合根部内侧形成有沿径朝向内侧外延伸的环状凹槽，其作用包括增强边缘侧壁的直立部142根部的自由度防止产生应力集中和局部皱曲，从而在一定程度上缓解基板边缘区的去除率调控调节效果；为了进一步加强直立部142的刚性以便其上部腔室的压力可以更多地向下传递至其正下方的区域，鉴于不便设置厚度过大的柔性膜外支撑环，可在直立部142内表面设置柔性膜内支撑环。
37.图2所示的实施例中，柔性膜14还包括与所述边缘侧壁同心相邻设置的内侧壁144，内侧壁144在其顶端具有弯向内侧水平延伸的第二水平延伸部147，内侧壁144在其底部与所述底板部141形成一体。
38.柔性膜14还包括从所述边缘侧壁的内表面朝径向内侧延伸的间隔板146，间隔板146的外端面较第一水平延伸部145的内沿更加接近底板部141的中心位置，以增加柔性膜14的整体柔性。本实用新型中，内沿是指筋板朝向柔性膜14的内侧延伸靠近柔性膜中心位置的部分。
39.图3是图2中的柔性膜14边缘部分的局部放大图，底板部141与直立部142交接处的内侧设置有凹槽部141a。即底板部141边缘部分的厚度由内向外逐渐变小，以调控基板边缘局部区域的抛光去除速率。弯折部143包括从直立部142上端朝上向内折弯延伸的第一弯折部143a和自第一弯折部143a朝上向外折弯延伸的第二弯折部143b，第一弯折部143a与水平面的夹角θ不等于第二弯折部143b与水平面的夹角β。如此设置，弯折部143与底板部141边缘的凹槽部141a配合作用，有利于提高弯折部143的柔性，使得腔室c1中的内部压力调控更加自如。
40.作为本实用新型的一个实施例，第一弯折部143a与水平面的夹角θ小于所述第二弯折部143b与水平面的夹角β。第一水平延伸部145与承载盘13连接，弯折部143与第一水平延伸部145连接，弯折部143的夹角设置，有利于提升弯折部143加压变形的均匀性，使得柔性膜14边缘部分的抛光压力调控更加精准，以调节对应基板边缘部分的材料去除速率，提高基板的全局抛光的均匀性。
41.进一步地，弯折部143向内弯折的水平投影不超过第一水平延伸部145的内沿，即第一弯折部143a与第二弯折部143b的向内折弯的交界处的水平位置不超过第一水平延伸部145的内沿。柔性膜14加压时，弯折部143大致水平向外移动，以便保证加压时折弯部143
变形的平稳性。
42.作为本实用新型的另一个实施例，第一弯折部143a与水平面的夹角θ较第二弯折部143b与水平面的夹角β小1～10
°
。优选地，第一弯折部143a与水平面的夹角θ较第二弯折部143b与水平面的夹角β小3～8
°
，以防止腔室c1过度鼓胀而发生外翻的情况。若是柔性膜14的弯折部143发生外翻，则外翻的弯折部143与保持环接触而干扰抛光压力的加载，甚至影响柔性膜14的使用寿命。图4示出了柔性膜14加压时对应的弯折部143形变情况，若弯折部143的结构设置不当，则会发生虚线表示的外翻情况。因此，需要严格控制第一弯折部143a和第二弯折部143b的倾斜度，使得柔性膜14的弯折部143向外侧鼓胀而不发生外翻。图4中使用中心线示出了弯折部143向外侧鼓胀的一种情况，在该实施例中，第一弯折部143a和第二弯折部143b形成的弯折部143略微向外侧鼓胀。腔室c1膨胀时，弯折部143大致沿水平方向移动，以减少腔室c1加压对直立部142的影响，提高压力加载的准确性。
43.图3示出的弯折部143的结构也有利于提升柔性膜14边缘部分加载的准确性。夹角θ与夹角β的夹角差值为1～10
°
，优选地，夹角差值为3～8
°
。
44.图5示出了不同夹角差值对应的晶圆边缘部分的材料去除速率轮廓线。当夹角差值大于5
°
时，晶圆边缘部分的材料去除速率轮廓线在145mm左右位置出现谷值；当夹角差值为5
‑
10
°
时，对应的晶圆边缘部分的材料去除速率轮廓线的谷值高于其他两个位置对应的谷值，即晶圆145mm左右位置的材料去除速率更加接近晶圆中心位置的材料去除速率；且在145mm至150mm之间的位置，材料的去除速率对应的极值降低，这有利于抛光的均匀性。
45.进一步地，第一弯折部143a与水平面的夹角θ为1～25
°
，优选地，第一弯折部143a与水平面的夹角θ为3～15
°
，如此设置能够避免第一弯折部143a与间隔板146抵接而影响柔性膜14的正常加载。第二弯折部143b与水平面的夹角β为5～45
°
，以避免柔性膜14加载时第一水平延伸部145与承载盘13的底面抵接而承载头抛光压力的施加。
46.图1所示的实施例中，第一水平延伸部145的上表面的一部分被承载盘13抵压，这有利于调节腔室c1加压时的膨胀程度。具体地，该部分结构能够与弯折部143的结构配合，提升柔性膜14的压力调节的准确性。优选地，第一水平延伸部145的上表面的1/3
‑
2/3由承载盘13压住。
47.作为本实用新型的一个实施例，第一弯折部143a与第二弯折部143b形成的夹角需要大于30
°
，如此也能够避免弯折部143的外翻，以保证柔性膜14的整体使用性能。
48.作为本实施例的另一个方面，弯折部143的壁厚要小于底板部141的厚度，优选地，弯折部143的壁厚为底板部141厚度的60％～85％，以提升弯折部143的弹性变形的灵活性。
49.图2所示的实施例中，弯折部143向外延伸不超过直立部142的圆周外表面，以保证腔室c1的载荷完全施加在柔性膜14的底板部141的内。即柔性膜14边缘部分的载荷完整作用于基板的边缘区域而不至于产生无效的载荷。优选地，弯折部143可以朝向柔性膜14的内侧偏移设置，如弯折部143与直立部142的圆周外表面的间距可以为0.5mm～3mm，以调节基板边缘某个位置的抛光压力，调整该位置的材料去除速率。
50.图3中，间隔板146包括间隔板第一水平部146a、间隔板上皱部146b、间隔板下褟部146c和间隔板第二水平部146d，其自所述边缘侧壁的内表面朝径向内侧延伸而成，间隔板上皱部146b的高度大于间隔板下褟部146c的高度。优选地，间隔板上皱部146b朝向上侧拱起的高度是间隔板下褟部146c向下弯曲高度的1.5～3倍，使得间隔板第二水平部146d位于
间隔板第一水平部146a的上侧，提高腔室c1内部载荷的可控性。
51.为了改善间隔板146的根部的受力情况从而改善直立部142向下传递压力的准确性和可靠性等，优选在间隔板146的与直立部142结合的根部区域的上表面形成有局部增厚的结构，该局部增厚结构的截面形成为向内侧下方倾斜的斜面，这样至少更有利于腔室c1的压力在向径向外侧传递的过程中更多地传递到直立部142的正下方而尽量少的转换成径向力。优选的，所述斜面与水平面的夹角为30～60
°
，并且进一步优选的所述斜面与水平面之间的夹角为45
°
，该局部加厚结构垂直于斜面的厚度应不小于1.5mm。
52.本实用新型中，腔室c1与c2的压力很大程度上会相互抵消导致腔室c2正下方柔性膜部分的下压作用力大于直立部142正下方柔性膜的下压作用力，尽管腔室c1的一部分作用力会通过斜面向下斜下方传递并作用于直立部142并进一步作用于其正下方的柔性膜，但这样的力的分量仍然无法解决自立部142下方可能出现的压力不足的情况，为此需要充分利用间隔板146在腔室c1加压过程中伸长时作用于间隔板146根部的向外压力传递至直立部142并使其分量作用于直立部142的正下方，因此间隔板146的内沿与第一水平延伸部145的内沿之间的间距l1尤为关键，由图3示出的这个间距l1决定了腔室c1和/或c2在加压过程中传递至直立部142正下方的作用力的大小，具体而言，这个间距l1的大小与传递至直立部142正下方的作用力的大小大体上成正比，但是考虑到需要放置间隔板146过于向下弯曲与内侧壁等其他结构之间产生干涉，间隔板146的水平投影长度亦应受到限制，一般而言l1的长度应大于2mm，优选大于4mm；或者，这样的水平延伸长度差的作用也可以等效地理解为，腔室c1与c2加压的过程中间隔板146与第一水平延伸部145之间的拉力差/压力差可以等效地看做传递至直立部142的正下方的柔性膜的部分，而这样的拉力差/压力差产生的主要原因在于间隔板146与第一水平延伸部145的沿径向方向水平延伸的距离差。
53.同时，间隔板146的内沿较第二水平延伸部147远离底板部141的中心位置，间隔板146的内沿与第二水平延伸部147的内沿之间的距离为l2，如图3所示。间隔板146的内沿与第二水平延伸部147的内沿之间的距离为2mm
‑
10mm，优选地，间隔板146的内沿与第二水平延伸部147的内沿之间的距离为3mm
‑
5mm。如此设置，一方面有利于灵活控制腔室c2的压力，另一方面也有利于柔性膜14对应连接部件的设计及安装。
54.图6是本实用新型所述柔性膜14边缘部分另一个实施例的示意图，该实施例中，内侧壁144垂直于底板部141设置，内侧壁144、第二水平延伸部147、间隔板146与环状压盘15形成腔室c2；腔室c1将压力传递至腔室c2以调控柔性膜14边缘部分的压力。
55.同时，本实用新型还公开了一种抛光设备，其结构示意图，如图7所示。抛光设备1000包括抛光盘100、抛光垫200、图1示出的承载头300、修整器400以及供液部500；抛光垫200设置于抛光盘100上表面并与其一起沿轴线ax旋转；可水平移动的承载头300设置于抛光垫200上方，其下表面接收有待抛光的基板；修整器400包括修整臂及修整头，其设置于抛光盘100的一侧，修整臂带动旋转的修整头摆动以修整抛光垫200的表面；供液部500设置于抛光垫200的上侧，以将抛光液散布于抛光垫200的表面。
56.抛光作业时，承载头300将基板的待抛光面抵压于抛光垫200的表面，承载头300做旋转运动以及沿抛光盘100的径向往复移动使得与抛光垫200接触的基板表面被逐渐抛除；同时抛光盘100旋转，供液部500向抛光垫200表面喷洒抛光液。在抛光液的化学作用下，通过承载头300与抛光盘100的相对运动使基板与抛光垫200摩擦以进行抛光。
57.由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的抛光液在基板与抛光垫200之间流动，抛光液在抛光垫200的传输和旋转离心力的作用下均匀分布，以在基板和抛光垫200之间形成一层液体薄膜，液体中的化学成分与基板产生化学反应，将不溶物质转化为易溶物质，然后通过磨粒的微机械摩擦将这些化学反应物从基板表面去除，溶入流动的液体中带走，即在化学成膜和机械去膜的交替过程中去除表面材料实现表面平坦化处理，从而达到全局平坦化的目的。
58.在化学机械抛光期间，修整器400用于对抛光垫200表面形貌进行修整和活化。使用修整器400可以移除残留在抛光垫表面的杂质颗粒，例如抛光液中的研磨颗粒以及从基板表面脱落的废料等，还可以将由于研磨导致的抛光垫200表面形变进行平整化，保证了在抛光期间抛光垫200表面形貌的一致性，进而使抛光去除速率保持稳定。
59.图8是现有技术的化学机械抛光设备与本实用新型对应化学机械抛光设备的基板的材料去除速率轮廓线，其中，实线为现有技术对应的材料去除轮廓线，由于在基板抛光时，基板边缘部分的线速度大于中心部分的线速度，且基板边缘部分更容易与抛光液结合，致使基板边缘部分的去除速率大于基板中心部分的去除速率(边缘效应)。图8中，使用虚线表示本实用新型所述的抛光设备对应的材料去除速率轮廓线，由于配置了图1示出的承载头300，承载头300配置了本实用新型所述的柔性膜14，柔性膜14的弯折部143对应的第一弯折部143a与水平面的夹角θ较第二弯折部143b与水平面的夹角β小8
°
，柔性膜的性能得到了提升，基板边缘部分的压力调控能力得到有效改进，大幅均衡了基板中间部分与边缘部分的去除速率，实现了基板的全局平坦化。
60.本说明书的附图为示意图，辅助说明本实用新型的构思，示意性地表示各部分的形状及其相互关系。应当理解的是，为了便于清楚地表现出本实用新型实施例的各部件的结构，各附图之间并未按照相同的比例绘制，相同的参考标记用于表示附图中相同的部分。在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
61.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。