一种tan
‑
稀土复合涂层及其制备方法
技术领域
1.本发明涉及医用涂层领域，具体涉及一种tan
‑
稀土复合涂层及其制备方法。
背景技术：
2.钽是具有良好生物相容性和骨诱导性的金属，自1940年，钽首次被应用于骨科医疗，迄今为止，未发现钽金属作为人体植入物产生了不良反应。除钽丝、钽片、多孔钽填充材料以外，近年来钽作为涂层材料沉积于骨科植入体表面受到了广泛关注。医疗实践证明，钽涂层具有优异的化学稳定性、生物相容性和骨诱导能力。
3.然而，钽是一种软质金属，纯钽涂层不是最佳的改性植入体材料，对此，学者们发现氧化钽、碳化钽或氮化钽可以很好的解决这个问题，因而他们具有坚硬和耐磨的优良特性，其中氮化钽的性能尤为突出。但是，在复杂的人体液态环境中，医用植入体的耐腐蚀性能始终面临着严峻的考验，发掘耐腐蚀性能优异的医用材料是一项长期而艰巨的工作。
技术实现要素：
4.针对现有技术存在的问题，本发明旨在提供一种tan
‑
稀土复合涂层及其制备方法，该复合涂层可以进一步优化现有tan涂层的耐腐蚀性能。
5.一种tan
‑
稀土复合涂层的制备方法，包括以下步骤：
6.a.选用不锈钢作为衬底；
7.b.先后对衬底进行抛光、除油、清洗和烘干处理；
8.c.选用纯度为99.9％的高纯ta靶材作为溅射源，在氩气和氮气条件下制备tan涂层，溅射过程的本底真空度低于1*10
‑4pa，氩气流量60
‑
80sccm，氮气流量35
‑
50sccm，工作压力1.0
‑
3.0pa，靶基距约6
‑
8cm，基板偏压
‑
60至
‑
80v，溅射温度180
‑
220℃，溅射时间2
‑
2.5h；
9.d.对tan涂层进行真空退火处理，退火温度400
‑
450℃，退火时间2
‑
3h，升温速率15
‑
20℃/min；
10.e.将退火后的tan涂层放置于金属蒸汽真空弧电源离子注入设备中，调整离子注入设备腔室的真空度低于4
×
10
‑4pa，并选用稀土镧离子进行离子注入，离子电压为80
‑
100kev。
11.进一步地，所述衬底的尺寸为8mm*8mm*3mm。
12.进一步地，所述不锈钢为316l不锈钢。
13.进一步地，所述抛光选用梯度砂纸进行。
14.进一步地，所述除油选用15％的碳酸钠溶液。
15.进一步地，所述清洗选用去离子水并以超声波辅助。
16.进一步地，所述烘干在惰性气体下进行。
17.进一步地，所述镧离子注入量为3.6
×
10
13
‑
9.6
×
10
13
ions/cm2。
18.本发明还提供了一种tan
‑
稀土复合涂层，所述复合涂层由上述方法制备而得。
19.为了提高现有的tan涂层的耐腐蚀性能，本发明创造性的通过离子注入法向tan涂
层中掺入稀土元素镧，离子注入处理后，在tan涂层的表层或近表层区域形成了耐腐蚀性能优异的tan
‑
稀土复合涂层。进一步研究后发现，稀土元素的注入量应控制在合理的范围，因为过多的稀土元素不仅对耐腐蚀性能的提高没有裨益，反而会降低tan涂层的生物相容性。
具体实施方式
20.下面通过具体实施例来验证本发明的技术效果，但是本发明的实施方式不局限于此。
21.实施例1
22.一种tan
‑
稀土复合涂层的制备方法，包括以下步骤：
23.a.选用尺寸为8mm*8mm*3mm的316l不锈钢作为衬底；
24.b.先后对衬底进行抛光、除油、清洗和烘干处理，其中抛光选用梯度砂纸进行，除油选用15％的碳酸钠溶液，清洗选用去离子水并以超声波辅助；烘干在惰性气体下进行；
25.c.选用纯度为99.9％的高纯ta靶材作为溅射源，在氩气和氮气条件下制备tan涂层，溅射过程的本底真空度低于1*10
‑4pa，氩气流量60sccm，氮气流量35sccm，工作压力1.0pa，靶基距8cm，基板偏压
‑
60v，溅射温度180℃，溅射时间2h；
26.d.对tan涂层进行真空退火处理，退火温度400℃，退火时间2h，升温速率20℃/min；
27.e.将退火后的tan涂层放置于金属蒸汽真空弧电源离子注入设备中，调整离子注入设备腔室的真空度为4
×
10
‑4pa，并选用稀土镧离子进行离子注入，离子电压为80kev，镧离子注入量为3.6
×
10
13
ions/cm2。
28.实施例2
29.一种tan
‑
稀土复合涂层的制备方法，包括以下步骤：
30.a.选用尺寸为8mm*8mm*3mm的316l不锈钢作为衬底；
31.b.先后对衬底进行抛光、除油、清洗和烘干处理，其中抛光选用梯度砂纸进行，除油选用15％的碳酸钠溶液，清洗选用去离子水并以超声波辅助；烘干在惰性气体下进行；
32.c.选用纯度为99.9％的高纯ta靶材作为溅射源，在氩气和氮气条件下制备tan涂层，溅射过程的本底真空度低于1*10
‑4pa，氩气流量60sccm，氮气流量35sccm，工作压力1.0pa，靶基距8cm，基板偏压
‑
60v，溅射温度180℃，溅射时间2h；
33.d.对tan涂层进行真空退火处理，退火温度400℃，退火时间2h，升温速率20℃/min；
34.e.将退火后的tan涂层放置于金属蒸汽真空弧电源离子注入设备中，调整离子注入设备腔室的真空度为4
×
10
‑4pa，并选用稀土镧离子进行离子注入，离子电压为80kev，镧离子注入量为6.8
×
10
13
ions/cm2。
35.实施例3
36.一种tan
‑
稀土复合涂层的制备方法，包括以下步骤：
37.a.选用尺寸为8mm*8mm*3mm的316l不锈钢作为衬底；
38.b.先后对衬底进行抛光、除油、清洗和烘干处理，其中抛光选用梯度砂纸进行，除油选用15％的碳酸钠溶液，清洗选用去离子水并以超声波辅助；烘干在惰性气体下进行；
39.c.选用纯度为99.9％的高纯ta靶材作为溅射源，在氩气和氮气条件下制备tan涂
层，溅射过程的本底真空度低于1*10
‑4pa，氩气流量60sccm，氮气流量35sccm，工作压力1.0pa，靶基距8cm，基板偏压
‑
60v，溅射温度180℃，溅射时间2h；
40.d.对tan涂层进行真空退火处理，退火温度400℃，退火时间2h，升温速率20℃/min；
41.e.将退火后的tan涂层放置于金属蒸汽真空弧电源离子注入设备中，调整离子注入设备腔室的真空度为4
×
10
‑4pa，并选用稀土镧离子进行离子注入，离子电压为80kev，镧离子注入量为8.1
×
10
13
ions/cm2。
42.实施例4
43.一种tan
‑
稀土复合涂层的制备方法，包括以下步骤：
44.a.选用尺寸为8mm*8mm*3mm的316l不锈钢作为衬底；
45.b.先后对衬底进行抛光、除油、清洗和烘干处理，其中抛光选用梯度砂纸进行，除油选用15％的碳酸钠溶液，清洗选用去离子水并以超声波辅助；烘干在惰性气体下进行；
46.c.选用纯度为99.9％的高纯ta靶材作为溅射源，在氩气和氮气条件下制备tan涂层，溅射过程的本底真空度低于1*10
‑4pa，氩气流量60sccm，氮气流量35sccm，工作压力1.0pa，靶基距8cm，基板偏压
‑
60v，溅射温度180℃，溅射时间2h；
47.d.对tan涂层进行真空退火处理，退火温度400℃，退火时间2h，升温速率20℃/min；
48.e.将退火后的tan涂层放置于金属蒸汽真空弧电源离子注入设备中，调整离子注入设备腔室的真空度为4
×
10
‑4pa，并选用稀土镧离子进行离子注入，离子电压为80kev，镧离子注入量为9.6
×
10
13
ions/cm2。
49.对比例1
50.一种tan
‑
稀土复合涂层的制备方法，包括以下步骤：
51.a.选用尺寸为8mm*8mm*3mm的316l不锈钢作为衬底；
52.b.先后对衬底进行抛光、除油、清洗和烘干处理，其中抛光选用梯度砂纸进行，除油选用15％的碳酸钠溶液，清洗选用去离子水并以超声波辅助；烘干在惰性气体下进行；
53.c.选用纯度为99.9％的高纯ta靶材作为溅射源，在氩气和氮气条件下制备tan涂层，溅射过程的本底真空度低于1*10
‑4pa，氩气流量60sccm，氮气流量35sccm，工作压力1.0pa，靶基距8cm，基板偏压
‑
60v，溅射温度180℃，溅射时间2h；
54.d.对tan涂层进行真空退火处理，退火温度400℃，退火时间2h，升温速率20℃/min；
55.e.将退火后的tan涂层放置于金属蒸汽真空弧电源离子注入设备中，调整离子注入设备腔室的真空度为4
×
10
‑4pa，并选用稀土镧离子进行离子注入，离子电压为80kev，镧离子注入量为1.5
×
10
13
ions/cm2。
56.对比例2
57.一种tan
‑
稀土复合涂层的制备方法，包括以下步骤：
58.a.选用尺寸为8mm*8mm*3mm的316l不锈钢作为衬底；
59.b.先后对衬底进行抛光、除油、清洗和烘干处理，其中抛光选用梯度砂纸进行，除油选用15％的碳酸钠溶液，清洗选用去离子水并以超声波辅助；烘干在惰性气体下进行；
60.c.选用纯度为99.9％的高纯ta靶材作为溅射源，在氩气和氮气条件下制备tan涂
层，溅射过程的本底真空度低于1*10
‑4pa，氩气流量60sccm，氮气流量35sccm，工作压力1.0pa，靶基距8cm，基板偏压
‑
60v，溅射温度180℃，溅射时间2h；
61.d.对tan涂层进行真空退火处理，退火温度400℃，退火时间2h，升温速率20℃/min；
62.e.将退火后的tan涂层放置于金属蒸汽真空弧电源离子注入设备中，调整离子注入设备腔室的真空度为4
×
10
‑4pa，并选用稀土镧离子进行离子注入，离子电压为80kev，镧离子注入量为2.5
×
10
14
ions/cm2。
63.以下，我们对实施例1
‑
4以及对比例1
‑
2的实验样品进行电化学腐蚀实验以评定其耐腐蚀性能，并以未进行离子注入处理的tan涂层作为空白对照组。
64.另外，通过溶血试验评价各样品的生物相容性，其原理在于：将样品与血液直接接触，测定红细胞膜破裂后释放的血红蛋白量，以检测各样品体外溶血程度。血红蛋白的吸收波长为545nm，可用分光光度计检测其浓度。具体操作步骤如下：
65.(1)从健康家兔心脏采血100ml，加入2％草酸钾5ml，制成新鲜抗凝血。取抗凝血40ml，加入0.9％氯化钠注射液50ml进行稀释。
66.(2)取3支硅化试管，一支试管装入试验样品和氯化钠注射液10ml，一支试管空白作为阴性对照组加入氯化钠生理盐水10ml，另外一支试管空白作为阳性对照组分别加入10ml蒸馏水。
67.(3)所有试管在37℃水浴中恒温30min，分别加入5ml抗凝兔血，并在37℃条件下保温60min。
68.(4)取试管上层清液，在545nm波长处测定吸光度。每一样品进行三次平行试验并取平均值。
69.溶血率的计算公式如下：
70.溶血率(％)＝(试样平均吸光度
‑
阴性组吸光度)/(阳性组吸光度
‑
阴性组吸光度)
×
100
71.各样品的测试数据如表1所示。
72.表1各样品的腐蚀实验数据及生物相容性数据
73.编号自腐蚀电流密度(μa/cm2)溶血率/％实施例10.2383.5实施例20.2114.6实施例30.1391.2实施例40.0734.7对比例10.4153.3对比例20.0769.7空白对照组0.4293.1
74.从表1可以看出，通过离子注入稀土元素la可以提高tan涂层的耐腐蚀性能，并且，耐腐蚀性能随着稀土注入量的增加而得到相应的提高，但是当稀土含量达到某一值后，继续提高稀土注入量，则对耐腐蚀性能的影响不大。另一方面，稀土注入量较低时，tan涂层的生物相容性呈现出不规律的变化，但整体上与空白对照组相当，而当稀土注入量过多时(如对比例2)，则表现出生物相容性急剧下降的态势。
75.以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变型，这些改进和变型也应视为本发明的保护范围。
‑
稀土复合涂层及其制备方法
技术领域
1.本发明涉及医用涂层领域，具体涉及一种tan
‑
稀土复合涂层及其制备方法。
背景技术：
2.钽是具有良好生物相容性和骨诱导性的金属，自1940年，钽首次被应用于骨科医疗，迄今为止，未发现钽金属作为人体植入物产生了不良反应。除钽丝、钽片、多孔钽填充材料以外，近年来钽作为涂层材料沉积于骨科植入体表面受到了广泛关注。医疗实践证明，钽涂层具有优异的化学稳定性、生物相容性和骨诱导能力。
3.然而，钽是一种软质金属，纯钽涂层不是最佳的改性植入体材料，对此，学者们发现氧化钽、碳化钽或氮化钽可以很好的解决这个问题，因而他们具有坚硬和耐磨的优良特性，其中氮化钽的性能尤为突出。但是，在复杂的人体液态环境中，医用植入体的耐腐蚀性能始终面临着严峻的考验，发掘耐腐蚀性能优异的医用材料是一项长期而艰巨的工作。
技术实现要素：
4.针对现有技术存在的问题，本发明旨在提供一种tan
‑
稀土复合涂层及其制备方法，该复合涂层可以进一步优化现有tan涂层的耐腐蚀性能。
5.一种tan
‑
稀土复合涂层的制备方法，包括以下步骤：
6.a.选用不锈钢作为衬底；
7.b.先后对衬底进行抛光、除油、清洗和烘干处理；
8.c.选用纯度为99.9％的高纯ta靶材作为溅射源，在氩气和氮气条件下制备tan涂层，溅射过程的本底真空度低于1*10
‑4pa，氩气流量60
‑
80sccm，氮气流量35
‑
50sccm，工作压力1.0
‑
3.0pa，靶基距约6
‑
8cm，基板偏压
‑
60至
‑
80v，溅射温度180
‑
220℃，溅射时间2
‑
2.5h；
9.d.对tan涂层进行真空退火处理，退火温度400
‑
450℃，退火时间2
‑
3h，升温速率15
‑
20℃/min；
10.e.将退火后的tan涂层放置于金属蒸汽真空弧电源离子注入设备中，调整离子注入设备腔室的真空度低于4
×
10
‑4pa，并选用稀土镧离子进行离子注入，离子电压为80
‑
100kev。
11.进一步地，所述衬底的尺寸为8mm*8mm*3mm。
12.进一步地，所述不锈钢为316l不锈钢。
13.进一步地，所述抛光选用梯度砂纸进行。
14.进一步地，所述除油选用15％的碳酸钠溶液。
15.进一步地，所述清洗选用去离子水并以超声波辅助。
16.进一步地，所述烘干在惰性气体下进行。
17.进一步地，所述镧离子注入量为3.6
×
10
13
‑
9.6
×
10
13
ions/cm2。
18.本发明还提供了一种tan
‑
稀土复合涂层，所述复合涂层由上述方法制备而得。
19.为了提高现有的tan涂层的耐腐蚀性能，本发明创造性的通过离子注入法向tan涂
层中掺入稀土元素镧，离子注入处理后，在tan涂层的表层或近表层区域形成了耐腐蚀性能优异的tan
‑
稀土复合涂层。进一步研究后发现，稀土元素的注入量应控制在合理的范围，因为过多的稀土元素不仅对耐腐蚀性能的提高没有裨益，反而会降低tan涂层的生物相容性。
具体实施方式
20.下面通过具体实施例来验证本发明的技术效果，但是本发明的实施方式不局限于此。
21.实施例1
22.一种tan
‑
稀土复合涂层的制备方法，包括以下步骤：
23.a.选用尺寸为8mm*8mm*3mm的316l不锈钢作为衬底；
24.b.先后对衬底进行抛光、除油、清洗和烘干处理，其中抛光选用梯度砂纸进行，除油选用15％的碳酸钠溶液，清洗选用去离子水并以超声波辅助；烘干在惰性气体下进行；
25.c.选用纯度为99.9％的高纯ta靶材作为溅射源，在氩气和氮气条件下制备tan涂层，溅射过程的本底真空度低于1*10
‑4pa，氩气流量60sccm，氮气流量35sccm，工作压力1.0pa，靶基距8cm，基板偏压
‑
60v，溅射温度180℃，溅射时间2h；
26.d.对tan涂层进行真空退火处理，退火温度400℃，退火时间2h，升温速率20℃/min；
27.e.将退火后的tan涂层放置于金属蒸汽真空弧电源离子注入设备中，调整离子注入设备腔室的真空度为4
×
10
‑4pa，并选用稀土镧离子进行离子注入，离子电压为80kev，镧离子注入量为3.6
×
10
13
ions/cm2。
28.实施例2
29.一种tan
‑
稀土复合涂层的制备方法，包括以下步骤：
30.a.选用尺寸为8mm*8mm*3mm的316l不锈钢作为衬底；
31.b.先后对衬底进行抛光、除油、清洗和烘干处理，其中抛光选用梯度砂纸进行，除油选用15％的碳酸钠溶液，清洗选用去离子水并以超声波辅助；烘干在惰性气体下进行；
32.c.选用纯度为99.9％的高纯ta靶材作为溅射源，在氩气和氮气条件下制备tan涂层，溅射过程的本底真空度低于1*10
‑4pa，氩气流量60sccm，氮气流量35sccm，工作压力1.0pa，靶基距8cm，基板偏压
‑
60v，溅射温度180℃，溅射时间2h；
33.d.对tan涂层进行真空退火处理，退火温度400℃，退火时间2h，升温速率20℃/min；
34.e.将退火后的tan涂层放置于金属蒸汽真空弧电源离子注入设备中，调整离子注入设备腔室的真空度为4
×
10
‑4pa，并选用稀土镧离子进行离子注入，离子电压为80kev，镧离子注入量为6.8
×
10
13
ions/cm2。
35.实施例3
36.一种tan
‑
稀土复合涂层的制备方法，包括以下步骤：
37.a.选用尺寸为8mm*8mm*3mm的316l不锈钢作为衬底；
38.b.先后对衬底进行抛光、除油、清洗和烘干处理，其中抛光选用梯度砂纸进行，除油选用15％的碳酸钠溶液，清洗选用去离子水并以超声波辅助；烘干在惰性气体下进行；
39.c.选用纯度为99.9％的高纯ta靶材作为溅射源，在氩气和氮气条件下制备tan涂
层，溅射过程的本底真空度低于1*10
‑4pa，氩气流量60sccm，氮气流量35sccm，工作压力1.0pa，靶基距8cm，基板偏压
‑
60v，溅射温度180℃，溅射时间2h；
40.d.对tan涂层进行真空退火处理，退火温度400℃，退火时间2h，升温速率20℃/min；
41.e.将退火后的tan涂层放置于金属蒸汽真空弧电源离子注入设备中，调整离子注入设备腔室的真空度为4
×
10
‑4pa，并选用稀土镧离子进行离子注入，离子电压为80kev，镧离子注入量为8.1
×
10
13
ions/cm2。
42.实施例4
43.一种tan
‑
稀土复合涂层的制备方法，包括以下步骤：
44.a.选用尺寸为8mm*8mm*3mm的316l不锈钢作为衬底；
45.b.先后对衬底进行抛光、除油、清洗和烘干处理，其中抛光选用梯度砂纸进行，除油选用15％的碳酸钠溶液，清洗选用去离子水并以超声波辅助；烘干在惰性气体下进行；
46.c.选用纯度为99.9％的高纯ta靶材作为溅射源，在氩气和氮气条件下制备tan涂层，溅射过程的本底真空度低于1*10
‑4pa，氩气流量60sccm，氮气流量35sccm，工作压力1.0pa，靶基距8cm，基板偏压
‑
60v，溅射温度180℃，溅射时间2h；
47.d.对tan涂层进行真空退火处理，退火温度400℃，退火时间2h，升温速率20℃/min；
48.e.将退火后的tan涂层放置于金属蒸汽真空弧电源离子注入设备中，调整离子注入设备腔室的真空度为4
×
10
‑4pa，并选用稀土镧离子进行离子注入，离子电压为80kev，镧离子注入量为9.6
×
10
13
ions/cm2。
49.对比例1
50.一种tan
‑
稀土复合涂层的制备方法，包括以下步骤：
51.a.选用尺寸为8mm*8mm*3mm的316l不锈钢作为衬底；
52.b.先后对衬底进行抛光、除油、清洗和烘干处理，其中抛光选用梯度砂纸进行，除油选用15％的碳酸钠溶液，清洗选用去离子水并以超声波辅助；烘干在惰性气体下进行；
53.c.选用纯度为99.9％的高纯ta靶材作为溅射源，在氩气和氮气条件下制备tan涂层，溅射过程的本底真空度低于1*10
‑4pa，氩气流量60sccm，氮气流量35sccm，工作压力1.0pa，靶基距8cm，基板偏压
‑
60v，溅射温度180℃，溅射时间2h；
54.d.对tan涂层进行真空退火处理，退火温度400℃，退火时间2h，升温速率20℃/min；
55.e.将退火后的tan涂层放置于金属蒸汽真空弧电源离子注入设备中，调整离子注入设备腔室的真空度为4
×
10
‑4pa，并选用稀土镧离子进行离子注入，离子电压为80kev，镧离子注入量为1.5
×
10
13
ions/cm2。
56.对比例2
57.一种tan
‑
稀土复合涂层的制备方法，包括以下步骤：
58.a.选用尺寸为8mm*8mm*3mm的316l不锈钢作为衬底；
59.b.先后对衬底进行抛光、除油、清洗和烘干处理，其中抛光选用梯度砂纸进行，除油选用15％的碳酸钠溶液，清洗选用去离子水并以超声波辅助；烘干在惰性气体下进行；
60.c.选用纯度为99.9％的高纯ta靶材作为溅射源，在氩气和氮气条件下制备tan涂
层，溅射过程的本底真空度低于1*10
‑4pa，氩气流量60sccm，氮气流量35sccm，工作压力1.0pa，靶基距8cm，基板偏压
‑
60v，溅射温度180℃，溅射时间2h；
61.d.对tan涂层进行真空退火处理，退火温度400℃，退火时间2h，升温速率20℃/min；
62.e.将退火后的tan涂层放置于金属蒸汽真空弧电源离子注入设备中，调整离子注入设备腔室的真空度为4
×
10
‑4pa，并选用稀土镧离子进行离子注入，离子电压为80kev，镧离子注入量为2.5
×
10
14
ions/cm2。
63.以下，我们对实施例1
‑
4以及对比例1
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2的实验样品进行电化学腐蚀实验以评定其耐腐蚀性能，并以未进行离子注入处理的tan涂层作为空白对照组。
64.另外，通过溶血试验评价各样品的生物相容性，其原理在于：将样品与血液直接接触，测定红细胞膜破裂后释放的血红蛋白量，以检测各样品体外溶血程度。血红蛋白的吸收波长为545nm，可用分光光度计检测其浓度。具体操作步骤如下：
65.(1)从健康家兔心脏采血100ml，加入2％草酸钾5ml，制成新鲜抗凝血。取抗凝血40ml，加入0.9％氯化钠注射液50ml进行稀释。
66.(2)取3支硅化试管，一支试管装入试验样品和氯化钠注射液10ml，一支试管空白作为阴性对照组加入氯化钠生理盐水10ml，另外一支试管空白作为阳性对照组分别加入10ml蒸馏水。
67.(3)所有试管在37℃水浴中恒温30min，分别加入5ml抗凝兔血，并在37℃条件下保温60min。
68.(4)取试管上层清液，在545nm波长处测定吸光度。每一样品进行三次平行试验并取平均值。
69.溶血率的计算公式如下：
70.溶血率(％)＝(试样平均吸光度
‑
阴性组吸光度)/(阳性组吸光度
‑
阴性组吸光度)
×
100
71.各样品的测试数据如表1所示。
72.表1各样品的腐蚀实验数据及生物相容性数据
73.编号自腐蚀电流密度(μa/cm2)溶血率/％实施例10.2383.5实施例20.2114.6实施例30.1391.2实施例40.0734.7对比例10.4153.3对比例20.0769.7空白对照组0.4293.1
74.从表1可以看出，通过离子注入稀土元素la可以提高tan涂层的耐腐蚀性能，并且，耐腐蚀性能随着稀土注入量的增加而得到相应的提高，但是当稀土含量达到某一值后，继续提高稀土注入量，则对耐腐蚀性能的影响不大。另一方面，稀土注入量较低时，tan涂层的生物相容性呈现出不规律的变化，但整体上与空白对照组相当，而当稀土注入量过多时(如对比例2)，则表现出生物相容性急剧下降的态势。
75.以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变型，这些改进和变型也应视为本发明的保护范围。
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