去除Zr基非晶合金中基体氧化物杂质的真空熔炼工艺的制作方法

技术特征：
1.一种去除zr基非晶合金中基体氧化物杂质的真空熔炼工艺，其特征在于，包括以下步骤，步骤一：将zr基非晶合金在炉内进行真空熔炼；步骤二：在炉内冲入惰性气体；步骤三：将钙线喂入至熔体中；步骤四：搅拌熔体，使钙与基体氧化物杂质进行氧化还原反应，形成cao；步骤五：静置一定时间，待cao上浮后去除。2.根据权利要求1所述的去除zr基非晶合金中基体氧化物杂质的真空熔炼工艺，其特征在于，所述步骤一中将zr基非晶合金加入坩埚，并将坩埚置于真空感应炉内，随后加热至950
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1300℃进行熔炼，待熔清后，取样检测熔体的实际含氧量。3.根据权利要求2所述的去除zr基非晶合金中基体氧化物杂质的真空熔炼工艺，其特征在于，所述步骤二中向炉内冲入氩气，以将真空压力值增加至200
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500pa。4.根据权利要求3所述的去除zr基非晶合金中基体氧化物杂质的真空熔炼工艺，其特征在于，所述真空感应炉的炉盖上设有喂丝机构，通过喂丝机构将钙线密封喂入所述坩埚内。5.根据权利要求3所述的去除zr基非晶合金中基体氧化物杂质的真空熔炼工艺，其特征在于，所述步骤三中钙线的喂入量满足以下公式：w1＝40*(w2*(o1‑
o2))/(16*δ)其中，w1表示钙线的喂入量；w2表示熔炼zr基非晶合金的总量；o1表示实际含氧量；o2表示目标含氧量；δ表示纯钙线的收得率。6.根据权利要求5所述的去除zr基非晶合金中基体氧化物杂质的真空熔炼工艺，其特征在于，所述钙线的直径为5
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50mm。7.根据权利要求6所述的去除zr基非晶合金中基体氧化物杂质的真空熔炼工艺，其特征在于，所述钙线的喂入速度为0.05
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1m/s。8.根据权利要求7所述的去除zr基非晶合金中基体氧化物杂质的真空熔炼工艺，其特征在于，所述钙线的喂入总时间为20
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60s。9.根据权利要求1所述的去除zr基非晶合金中基体氧化物杂质的真空熔炼工艺，其特征在于，所述步骤四中将真空感应炉的功率提升5％
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20％，以进行电磁感应搅拌。10.根据权利要求1所述的去除zr基非晶合金中基体氧化物杂质的真空熔炼工艺，其特征在于，所述步骤五中静置的时间为5
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20分钟。

技术总结
本发明公开了一种去除Zr基非晶合金中基体氧化物杂质的真空熔炼工艺，包括以下步骤，步骤一：将Zr基非晶合金在炉内进行真空熔炼；步骤二：在炉内冲入惰性气体；步骤三：将钙线喂入至熔体中；步骤四：搅拌熔体，使钙与基体氧化物杂质进行氧化还原反应，形成CaO；步骤五：静置一定时间，待CaO上浮后去除。本发明操作简便，利用钙元素对Zr基非晶合金中的基体氧化物杂质进行还原，形成氧化物CaO，利用CaO密度小，容易上浮的特点，通过静置一定时间，使CaO上浮后，完成CaO与Zr基非晶合金熔体的分层，最终去除了Zr基非晶合金中的基体氧化物杂质，提高了Zr基非晶合金的纯净度。Zr基非晶合金的纯净度。


技术研发人员：周青峰 申曦 戴明阳 李龙麟 侯玉婷
受保护的技术使用者：常州世竟液态金属有限公司
技术研发日：2021.06.07
技术公布日：2021/10/8