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一种低温深孔偏压溅射设备的制作方法

2021-10-09 12:09:00 来源:中国专利 TAG:半导体 偏压 应用于 低温 制程

技术特征:
1.一种低温深孔偏压溅射设备,其包括靶材、腔体和置于腔体内的载片台,其特征在于,所述靶材和腔体之间增设固定有腔体适配器,所述腔体适配器上连接有适配器进水管和适配器出水管,所述载片台上固定有用于放置晶圆的冷却盘,所述腔体适配器内放置有上遮罩和下遮罩,所述上遮罩的顶部固定在腔体适配器上,所述上遮罩的下部的壁上沿着圆周方向均匀地开设有多个通孔,所述下遮罩的壁上沿着圆周方向均匀地开设有与通孔相对应的长条调节孔,所述上遮罩的下部套在下遮罩内,并通过螺栓穿设对应的长条调节孔和通孔以固定上遮罩和下遮罩,所述下遮罩的底部固定有底板,所述底板上开设有中心孔,所述底板上沿着圆周方向均匀地开设有多个安装孔,每一所述安装孔的边沿周缘上均放置有绝缘陶瓷柱,所述绝缘陶瓷柱套设在固定柱内,所述固定柱固定于底板上,每一所述固定柱均对应有一个保护罩,所述保护罩罩设对应的固定柱,t型吊杆的顶端置于绝缘陶瓷柱的顶部,所述t型吊杆的底端与压环固定连接,所述压环置于冷却盘的上方,所述压环上沿着圆周方向均匀地设置有多个用于夹压晶圆的可调节压杆。2.如权利要求1所述的低温深孔偏压溅射设备,其特征在于,所述压环包括压环主体,所述压环主体的表面与t型吊杆的底端固定连接,所述压环主体的内径内嵌设有变径环,所述压环主体上沿着圆周方向开设有多个压杆调节槽,每一压杆调节槽的长度方向为由压环主体的边沿向内径方向,每一压杆调节槽内嵌入可调节压杆,所述可调节压杆包括基座,所述基座上固定有长条滑块,所述长条滑块滑配于对应压杆调节槽内,所述基座的前端固定有遮盖,所述遮盖上固定有压点,所述压点朝向晶圆用于压设晶圆,每一基座和长条滑块上竖向开设有固定螺孔,通过固定螺丝依次穿设基座和长条滑块上的固定螺孔并锁紧压杆与对应的压杆调节槽。3.如权利要求2所述的低温深孔偏压溅射设备,其特征在于,所述压环主体上沿着圆周方向均匀地开设有三个压杆调节槽。4.如权利要求1所述的低温深孔偏压溅射设备,其特征在于,所述冷却盘包括冷却盘主体,所述冷却盘主体上沿着圆周方向开设有与腔体内的顶针一一匹配的晶圆顶针孔以供顶针穿设,所述冷却盘主体的中央位置处开设有背气的通气孔,所述冷却盘主体表面开设有气道,所述冷却盘主体上沿着圆周方向开设有多个固定孔,所述固定孔用螺栓将冷却盘主体固定在载片台上,所述冷却盘主体的表面用于承载晶圆。5.如权利要求4所述的低温深孔偏压溅射设备,其特征在于,所述冷却盘主体上沿着圆周方向开设有三个均匀分布的晶圆顶针孔。6.如权利要求1所述的低温深孔偏压溅射设备,其特征在于,所述保护罩的内腔高度大于t型吊杆的高度。7.如权利要求1所述的低温深孔偏压溅射设备,其特征在于,所述上遮罩的下部的壁上沿着圆周方向均匀地开设有三个通孔。8.如权利要求1所述的低温深孔偏压溅射设备,其特征在于,所述底板上沿着圆周方向均匀地开设有三个安装孔。9.如权利要求1所述的低温深孔偏压溅射设备,其特征在于,所述t型吊杆的底端与压环相螺接。

技术总结
本实用新型低温深孔偏压溅射设备,靶材和腔体之间增设固定腔体适配器,载片台上固定用于放置晶圆的冷却盘,腔体适配器内放置上下遮罩,上遮罩的顶部固定在腔体适配器上,上遮罩下部的壁上沿着圆周方向开设有多个通孔,下遮罩的壁上沿着圆周方向开设有与通孔相对应的长条调节孔,上遮罩的下部套在下遮罩内,通过螺栓穿设对应的长条调节孔和通孔以固定上下遮罩,下遮罩的底部固定底板,底板上开设中心孔,底板上沿着圆周方向开设多个安装孔,每一安装孔的边沿周缘上均放置绝缘陶瓷柱,绝缘陶瓷柱套在固定柱内,固定柱固定于底板上,T型吊杆顶端置于绝缘陶瓷柱顶部,T型吊杆底端与压环固定连接,压环上沿着圆周方向设置有多个可调节压杆。调节压杆。调节压杆。


技术研发人员:张强 夏久龙
受保护的技术使用者:上海悦匠实业有限公司
技术研发日:2021.02.19
技术公布日:2021/10/8
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