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一种防打火靶材组件的制作方法

2021-10-09 12:01:00 来源:中国专利 TAG:组件 磁控溅射 打火

技术特征:
1.一种防打火靶材组件,其特征在于,所述防打火靶材组件包括层叠设置的靶材与背板;所述靶材与背板的结合部位设置有粗糙度为4

5μm的喷砂区;所述喷砂区包括第一喷砂区与第二喷砂区;所述第一喷砂区位于所述靶材的侧面;所述第二喷砂区位于所述背板的焊接面;所述喷砂区至背板的边缘依次设置有密封槽和排气槽;所述喷砂区、密封槽与排气槽呈并列排布。2.根据权利要求1所述的防打火靶材组件,其特征在于,所述第一喷砂区为靶材与背板的结合线至第一喷砂线之间的区域;所述第一喷砂线位于所述靶材的侧面,且与所述结合线之间的距离为8

12mm。3.根据权利要求1所述的防打火靶材组件,其特征在于,所述第二喷砂区为靶材与背板的结合线至第二喷砂线之间的区域;所述第二喷砂线与所述结合线之间的距离为10

15mm。4.根据权利要求3所述的防打火靶材组件,其特征在于,所述第二喷砂区内设置有厚度为12.3

12.5mm的下挖区。5.根据权利要求4所述的防打火靶材组件,其特征在于,所述下挖区内设置有厚度为13.3

13.5mm的下沉区。6.根据权利要求1所述的防打火靶材组件,其特征在于,所述密封槽的开口包括相对设置的内台阶与外台阶;所述内台阶靠近所述第二喷砂区;所述外台阶靠近所述排气槽。7.根据权利要求6所述的防打火靶材组件,其特征在于,所述内台阶与外台阶的高度差为0.2

0.4mm。8.根据权利要求6所述的防打火靶材组件,其特征在于,所述密封槽的深度为4.2

4.3mm。9.根据权利要求1所述的防打火靶材组件,其特征在于,所述排气槽的深度为3.5

4.0mm。

技术总结
本实用新型提供了一种防打火靶材组件,所述防打火靶材组件包括层叠设置的靶材与背板;所述靶材与背板的结合部位设置有喷砂区;所述喷砂区至背板的边缘依次设置有密封槽和排气槽;所述喷砂区、密封槽与排气槽呈并列排布。本实用新型提供的防打火靶材组件避免了靶材组件在磁控溅射过程中的打火现象,提升了镀膜质量的同时不额外增加操作繁琐度。量的同时不额外增加操作繁琐度。量的同时不额外增加操作繁琐度。


技术研发人员:姚力军 边逸军 潘杰 王学泽 章丽娜
受保护的技术使用者:宁波江丰电子材料股份有限公司
技术研发日:2020.10.23
技术公布日:2021/10/8
再多了解一些

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