一种266纳米高功率激光增透膜的制作方法

技术特征：
1.一种266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：膜层结构为：a/cl/bh/al/sub/al/bh/cl/a，其中，sub代表玻璃基底；a代表空气；h代表高折射率膜层；l代表低折射率膜层；a﹑b﹑c分别为各膜层的四分之一参考波长光学厚度的系数理论值，a为1.6
±
0.2，b为0.53
±
0.2，c为1.13
±
0.2。2.如权利要求1所述的266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：高折射率膜层所用材料为hfo2或al2o3。3.如权利要求1或2所述的266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：低折射率膜层所用材料为sio2或mgf2。4.如权利要求1或2所述的266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：基底所用材料为熔石英、蓝宝石或氟化钙。5.如权利要求1或2所述的266纳米高功率激光增透膜，其特征在于：膜层的物理厚度为：al为75.44
±
7.5nm，bh为20
±
2nm，cl为52.36
±
5.2nm。

技术总结
本实用新型公开了一种266纳米高功率激光增透膜，一种266纳米高功率激光增透膜，膜层结构为：A/cL/bH/aL/SUB/aL/bH/cL/A，其中，SUB代表玻璃基底；A代表空气；H代表高折射率膜层；L代表低折射率膜层；a﹑b﹑c分别为各膜层的四分之一参考波长光学厚度的系数，a为1.6


技术研发人员：王泽栋 李全民 李林峰 王国力
受保护的技术使用者：南京波长光电科技股份有限公司
技术研发日：2021.02.02
技术公布日：2021/9/17