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利用废气热能增温操作气体的反应炉的制作方法

2021-10-09 11:24:00 来源:中国专利 TAG:反应炉 废气 热能 应用于 半导体

技术特征:
1.一种利用废气热能增温操作气体的反应炉,其适用于气相沉积反应的技术,其特征在于,该反应炉包括:一反应腔,其内设有一晶圆承载装置;一废气汇集环,环设于该反应腔的侧壁,以收集该反应腔中完成气相沉积反应后的高温废气;一操作气体供给单元,提供操作气体;以及一气体输送管,连通该操作气体供给单元以及该晶圆承载装置,该气体输送管接收该操作气体供给单元提供的该操作气体,并将其输送至该晶圆承载装置,该气体输送管沿着该废气汇集环设置,令该操作气体能够吸收该废气汇集环中该高温废气的热能。2.如权利要求1所述的利用废气热能增温操作气体的反应炉,其特征在于:该气体输送管沿着该废气汇集环的内侧壁设置。3.如权利要求1所述的利用废气热能增温操作气体的反应炉,其特征在于:该气体输送管镶设于该废气汇集环侧壁内。4.如权利要求1所述的利用废气热能增温操作气体的反应炉,其特征在于:该气体输送管沿着该废气汇集环的外侧壁设置。5.如权利要求1所述的利用废气热能增温操作气体的反应炉,其特征在于:该晶圆承载装置用于承载至少一晶圆,该晶圆承载装置包括:至少一碟盘,具有一上方开放的晶圆槽,以供该晶圆以反应面朝下的方式置入,该晶圆槽下方设有一反应口以供该反应面裸露;一下大盘,具有至少一个上方开放的碟盘槽,以供该碟盘置入,该碟盘槽下方设有一底口以供该反应面裸露;及一上大盘,遮盖于该下大盘的上方并将该碟盘槽上方封闭。6.如权利要求5所述的利用废气热能增温操作气体的反应炉,其特征在于:该碟盘槽设有一环槽沟,该碟盘设有一嵌入于该环槽沟的对接部,该环槽沟内设有一环状气浮通道;该环状气浮通道以切线方向衔接一入气引道,该入气引道连通该气体输送管,以引入该操作气体施力于该对接部,使该碟盘悬浮及旋转;该环槽沟衔接于一第一泄出口,以供该操作气体排出。7.如权利要求6所述的利用废气热能增温操作气体的反应炉,其特征在于:该上大盘设有一第二泄出口,该第二泄出口与该第一泄出口衔接。8.如权利要求1所述的利用废气热能增温操作气体的反应炉,其特征在于:该废气收集环包括一壳体,该壳体上设有一入气口以及一排气口,该入气口连通该反应腔,该排气口连通一废气回收单元。9.如权利要求1所述的利用废气热能增温操作气体的反应炉,其特征在于:还包括一反应气体喷射装置,设置穿设于该反应腔内,以提供反应气体在该反应腔中进行气相沉积反应。

技术总结
本实用新型为一种利用废气热能增温操作气体的反应炉,适用于气相沉积反应的技术,反应炉包括一反应腔内设有一晶圆承载装置,及一废气汇集环提供环设于反应腔的侧壁。一气体输送管沿着废气汇集环设置,气体输送管连通操作气体供给单元及晶圆承载装置,以输送操作气体供给单元提供的操作气体至晶圆承载装置,以驱动晶圆承载装置转动晶圆。由于气体输送管沿着废气汇集环设置,使操作气体能吸收废气汇集环中高温废气的热能,以产生与反应炉反应温差较小的操作气体,从而降低操作气体对于反应炉温度的影响,维持制作晶圆的品质。维持制作晶圆的品质。维持制作晶圆的品质。


技术研发人员:吴铭钦 刘峰
受保护的技术使用者:苏州雨竹机电有限公司
技术研发日:2020.12.21
技术公布日:2021/10/8
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