显示装置的制作方法

1.本发明涉及显示装置及其制造方法，更详细而言，涉及包括光学辅助层的显示装置及其制造方法。


背景技术：

2.正在开发出用于在如电视机、移动电话、平板电脑、导航仪、游戏机等这样的多媒体装置中提供图像信息的各种电子装置。尤其是，在包括液晶显示元件、有机电致发光显示元件等的电子装置等中，为了改善显示品质导入了量子点等。
3.另外，为了使这种电子装置表现出良好的效率的同时表现出得到改善的反射率特性，正在研究反射率改善方法。


技术实现要素：

4.本发明的目的在于，提供一种包括可以改善反射率的光学辅助层的显示装置。
5.另外，本发明的目的在于，提供一种包括可以改善反射率的光学辅助层的显示装置的制造方法。
6.一实施例提供一种显示装置，包括：基板；滤色器层，配置在所述基板的下侧；色控制层，配置在所述滤色器层的下侧；光学辅助层，配置在所述基板与所述滤色器层之间，并且包括基底部和被定义在所述基底部且朝向所述基板的方向凹陷的多个凹陷部，所述光学辅助层的平均折射率在所述基板的平均折射率以上且在所述滤色器层的平均折射率以下。
7.可以是，各所述凹陷部分别包括：外廓部；以及芯部，由所述外廓部定义且被所述滤色器层填充。
8.可以是，各所述芯部分别包括所述滤色器层所包括的颜料和染料中的至少一种。
9.可以是，各所述凹陷部是半球形状，并且各所述凹陷部的平均直径在200nm以上且在500nm以下。
10.可以是，各所述凹陷部分别由来于中空型二氧化硅粒子、包括中空的高分子和致孔剂(porogen)中的至少一种。
11.可以是，所述滤色器层包括：第一滤色器部，使第一光透过；第二滤色器部，使与所述第一光不同的第二光透过；第三滤色器部，使与所述第一光及所述第二光不同的第三光透过；以及遮光部，配置在所述第一滤色器部与所述第二滤色器部之间以及所述第二滤色器部与所述第三滤色器部之间，各所述凹陷部分别包括与所述第一滤色器部、所述第二滤色器部、所述第三滤色器部和所述遮光部中的至少一个相同的物质。
12.可以是，所述光学辅助层包括多个子光学辅助层，各个所述子光学辅助层包括所述基底部和所述凹陷部。
13.可以是，所述基底部包括丙烯酸树脂、环氧树脂和cardo树脂中的至少一种。
14.可以是，所述基底部的平均折射率与所述基板的平均折射率的差异在0以上且在0.2以下。
15.可以是，所述基板的平均折射率在1.4以上且在1.5以下，并且所述基底部的平均折射率在1.4以上且在1.6以下。
16.可以是，所述光学辅助层的厚度在500nm以上且在2000nm以下。
17.一实施例提供一种显示装置的制造方法，包括：在基板上提供包括基底树脂和分散在所述基底树脂中的多个纳米粒子的树脂层的步骤；形成包括对所述树脂层进行蚀刻去除多个所述纳米粒子的一部分而形成的多个凹陷部的预备光学辅助层的步骤；在所述预备光学辅助层上提供滤色器层材料来形成滤色器层的步骤；以及在所述滤色器层上形成包括多个量子点的色控制层的步骤，形成所述滤色器层的步骤包括在所述凹陷部填充所述滤色器层材料来形成光学辅助层的步骤。
18.可以是，所述光学辅助层的平均折射率在所述基板的平均折射率以上且在所述滤色器层的平均折射率以下。
19.可以是，各所述纳米粒子是中空型二氧化硅粒子、包括中空的高分子和致孔剂中的至少一种。
20.可以是，各所述纳米粒子是致孔剂，在所述基底树脂和所述致孔剂的总重量中，包括在50重量％以上且在90重量％以下的所述致孔剂。
21.可以是，各所述纳米粒子分别是球的形状，各所述纳米粒子的平均直径在200nm以上且在500nm以下。
22.可以是，所述预备光学辅助层包括多个预备子光学辅助层，各所述预备子光学辅助层分别包括所述基底树脂和所述凹陷部。
23.可以是，所述基底树脂包括丙烯酸树脂、环氧树脂和cardo树脂中的至少一种。
24.可以是，所述基底树脂的折射率与所述基板的折射率的差异在0以上且在0.2以下。
25.可以是，所述基板的折射率在1.4以上且在1.5以下，并且所述基底树脂的折射率在1.4以上且在1.6以下。
26.(发明效果)
27.一实施例的显示装置可以包括光学辅助层而表现出得到改善的反射率。
28.一实施例的显示装置的制造方法可以包括形成光学辅助层的步骤，从而提供表现出得到改善的反射率的显示装置。
附图说明
29.图1是表示一实施例的显示装置的立体图。
30.图2是示意性表示与图1的i
‑
i'对应的部分的剖视图。
31.图3是放大表示与图2的aa区域对应的部分的剖视图。
32.图4是放大表示与图2的aa区域对应的部分的剖视图。
33.图5是放大表示与图2的aa区域对应的部分的剖视图。
34.图6是示意性表示一实施例的显示装置的制造方法的顺序图。
35.图7是示意性表示一实施例的显示装置的制造方法的图。
36.图8是示意性表示一实施例的显示装置的制造方法的图。
37.符号说明：
38.bs2、bs：基板；oal：光学辅助层；bp：基底部；op：凹陷部；uop：外廓部；cop：芯部；cf：滤色器层；cl：色控制层。
具体实施方式
39.本发明可以具有各种变更以及各种形态，在图中例示特定实施例，并在此进行详细说明。但是，这并不是要将本发明限定于特定的公开形态，应理解为包括包含于本发明的思想以及技术范围内的所有变更、等同物以及代替物。
40.在本说明书中，在提及某一构成要素(或者区域、层、部分等)位于其他构成要素上、与其连接或者结合的情况下，意味着可以直接配置/连接/结合在其他构成要素上，或者在其间还可以配置有第三构成要素。
41.相同的符号指代相同的构成要素。另外，在各附图中，各构成要素的厚度、比率以及尺寸为了技术内容的有效说明而有所夸张。
[0042]“和/或”包括所有可以定义相关的构成的一个以上的组合。
[0043]
第一、第二等用语可以用于说明各种构成要素，但所述的构成要素不应限于所述的用语。所述的用语仅用作使一个构成要素区别于其他构成要素的目的。例如，在不超出本发明的权利范围的情况下，第一构成要素可以被命名为第二构成要素，类似地，第二构成要素也可以被命名为第一构成要素。单数的表现在文中没有明确相反意思时包括多个的表现。
[0044]
另外，“在下方”、“在下侧”、“在上方”、“在上侧”等用语为了说明图示的各构成的连接关系而使用。所述的用语是相对的概念，以图示的方向为基准进行说明。
[0045]
只要没有不同的定义，在本说明书中使用的所有用语(包括技术用语以及科学用语)具有与本领域技术人员通常理解的意思相同的意思。另外，如在通常使用的字典中定义的用语这样的用语应被解释为具有与相关技术脉络上的含义一致的含义，并且除非在本技术中明确定义，否则不应解释为理想化或过于形式化的含义。
[0046]“包括”或者“具有”等用语应理解为是指代说明书上记载的特征、数字、步骤、操作、构成要素、部件或者它们的组合的存在，并不是事先排除一个或者其以上的其他特征、数字、步骤、操作、构成要素、部件或者它们的组合的存在或附加可能性。
[0047]
以下，参照附图，说明本发明的一实施例涉及的显示装置以及显示装置的制造方法。
[0048]
图1表示一实施例涉及的显示装置dd。图2表示与图1的i
‑
i'线对应的部分，是一实施例涉及的显示装置dd的剖视图。图3是表示与图2的aa区域对应的部分的剖视图。图4和图5表示与图2的aa区域对应的部分，分别是表示本发明的其他实施例的图。
[0049]
在图1中作为显示装置dd例示了便携式电子设备。但是，显示装置dd可以使用于如电视机、监控器或外部广告板这样的大型电子装置中，也可以使用于如个人计算机、笔记本计算机、个人数字终端机、汽车导航单元、游戏机、智能电话、平板和相机这样的中小型电子装置等中。另外，这些只是作为实施例而提供的，只要不超出本发明的概念，也可以在其他电子设备中采用。
[0050]
参照图1，显示装置dd可以通过显示面is显示图像im。显示面is包括显示图像im的显示区域da以及与显示区域da相邻的非显示区域nda。非显示区域nda是不显示图像的区
域。
[0051]
显示区域da可以是四边形形状。非显示区域nda可以包围显示区域da。但是，并不限于此，显示区域da的形状和非显示区域nda的形状可以相对地进行设计。另外，也可以是在显示装置dd的整个面不存在非显示区域nda。
[0052]
一实施例涉及的显示装置dd可以包括基板bs2、配置在基板bs2的下侧的滤色器层cf、配置在滤色器层cf的下侧的色控制层cl以及配置在基板bs2与滤色器层cf之间的光学辅助层oal。
[0053]
光学辅助层oal可以包括基底部bp和定义在基底部bp的多个凹陷部op。在基底部bp中并非是形成基底部bp的物质而是由形成滤色器层cf的物质所填充的部分可以被定义为凹陷部op。滤色器层cf可以包括颜料或染料来形成，由此被定义在基底部bp的各凹陷部op可以包括形成滤色器层cf的颜料或染料。
[0054]
多个凹陷部op分别可以具有朝向基板bs2的方向凹陷的形状，各个凹陷部op的凹陷的面可以与基板bs2相邻。
[0055]
根据一实施例，光学辅助层oal的平均折射率可以在基板bs2的平均折射率以上且在滤色器层cf的平均折射率以下。包括于光学辅助层oal的一区域的折射率可以是与基板bs2的平均折射率相近似的值。光学辅助层oal的一区域可以是包括于光学辅助层oal的预定的区域。即，光学辅助层oal的一区域可以是包括于光学辅助层oal的一部分区域。
[0056]
包括于光学辅助层oal的一区域的折射率可以是与滤色器层cf的平均折射率相近似的值。由此，光学辅助层oal的平均折射率可以是位于基板bs2的平均折射率的值与滤色器层cf的平均折射率的值之间的值。对于光学辅助层oal，将在对图3至图5的说明中进行详细叙述。
[0057]
图2表示与图1的i
‑
i'线对应的部分，是一实施例涉及的显示装置dd的剖视图。
[0058]
显示装置dd可以包括基底基板bs1、配置在基底基板bs1上的电路层dp
‑
cl、配置在电路层dp
‑
cl上的发光元件层led以及配置在发光元件层led上的封装层tfe。
[0059]
基底基板bs1可以是聚合物基板、塑料基板、玻璃基板或石英基板等。基底基板bs1可以是透明的绝缘基板。基底基板bs1可以是刚性的基板。基底基板bs1可以是柔性的基板。
[0060]
发光元件层led分别可以包括第一发光元件led
‑
1、第二发光元件led
‑
2和第三发光元件led
‑
3。第一发光元件led
‑
1、第二发光元件led
‑
2和第三发光元件led
‑
3分别可以包括依次层叠的第一电极el1
‑
1、el1
‑
2、el1
‑
3、空穴传输区域htr、发光层eml、电子传输区域etr以及第二电极el2。发光层eml可以生成蓝色光。发光元件层led可以发出蓝色光，发光层eml可以生成410nm至480nm的波长区域的光。另一方面，虽然未图示，但是各个发光元件可以包括多个发光层。可以依次层叠来提供多个发光层，包括多个发光层的发光元件可以发出白色光。包括多个发光层的发光元件可以是串联式(tandem)结构的发光元件。
[0061]
在发光元件层led可以定义像素定义膜pdl。例如，像素定义膜pdl可以包括聚丙烯酸酯(polyacrylate)系树脂或聚酰亚胺(polyimide)系树脂而形成。与此不同地，像素定义膜pdl可以由无机物形成。例如，像素定义膜pdl可以包括氮化硅(silicon nitride)、氧化硅(silicon oxide)、氮氧化硅(silicon oxynitride)等而形成。在发光元件层led，可以通过像素定义膜pdl来划分各发光元件led
‑
1、led
‑
2、led
‑
3。
[0062]
封装层tfe可以配置在发光元件层led上而密封发光元件层led。封装层tfe可以起
到保护发光元件层led免受水分/氧的影响的作用，并且可以起到保护发光元件层led免受如灰尘粒子这样的异物的影响的作用。在图2中示出了封装层tfe包括一个有机层ol和一个无机层il的情况，但是实施例并不限于此，封装层可以具有交替地反复层叠有机层和无机层的结构。
[0063]
在封装层tfe上可以配置前述的色控制层cl、滤色器层cf、光学辅助层oal和基板bs2。在封装层tfe与色控制层cl之间可以配置外涂层oc。外涂层oc可以是平坦化层或缓冲层。
[0064]
色控制层cl可以包括多个量子点qd
‑
g、qd
‑
r和散射粒子(未图示)。散射粒子可以是包括tio2或二氧化硅的纳米粒子等。散射粒子可以使从发光元件层led提供的光或从各量子点qd
‑
g、qd
‑
r发出的光散射。各量子点qd
‑
g、qd
‑
r可以改变从发光元件层led发出的光的波长。
[0065]
各量子点qd
‑
g、qd
‑
r可以是能够从ii
‑
vi族化合物、iii
‑
vi族化合物、iii
‑
v族化合物、iv
‑
vi族化合物、iv族元素、iv族化合物、i
‑
iii
‑
vi族化合物以及它们的组合中选择的半导体纳米结晶。
[0066]
ii
‑
vi族化合物可以从由二元化合物、三元化合物和四元化合物构成的组中选择，其中，二元化合物从由cdse、cdte、cds、zns、znse、znte、zno、hgs、hgse、hgte、mgse、mgs以及它们的混合物构成的组中选择，三元化合物从由cdses、cdsete、cdste、znses、znsete、znste、hgses、hgsete、hgste、cdzns、cdznse、cdznte、cdhgs、cdhgse、cdhgte、hgzns、hgznse、hgznte、mgznse、mgzns以及它们的混合物构成的组中选择，并且四元化合物从由hgzntes、cdznses、cdznsete、cdznste、cdhgses、cdhgsete、cdhgste、hgznses、hgznsete、hgznste以及它们的混合物构成的组中选择。
[0067]
iii
‑
vi族化合物可以包括如in2s3、in2se3等的二元化合物、如ingas3、ingase3等的三元化合物、或者它们的任意的组合。
[0068]
i
‑
iii
‑
vi族化合物可以选自从由agins2、cuins2、aggas2、cugas2以及它们的混合物构成的组中选择的三元化合物、或者agingas2、cuingas2等的四元化合物。
[0069]
iii
‑
v族化合物可以从由二元化合物、三元化合物和四元化合物构成的组中选择，其中，二元化合物从由gan、gap、gaas、gasb、aln、alp、alas、alsb、inn、inp、inas、insb以及它们的混合物构成的组中选择，三元化合物从由ganp、ganas、gansb、gapas、gapsb、alnp、alnas、alnsb、alpas、alpsb、ingap、inalp、innp、innas、innsb、inpas、inpsb以及它们的混合物构成的组中选择，并且四元化合物从由gaalnp、gaalnas、gaalnsb、gaalpas、gaalpsb、gainnp、gainnas、gainnsb、gainpas、gainpsb、inalnp、inalnas、inalnsb、inalpas、inalpsb以及它们的混合物构成的组中选择。另一方面，iii
‑
v族化合物还可以包括ii族金属。例如，作为iii
‑
ii
‑
v族化合物可以选择inznp等。
[0070]
iv
‑
vi族化合物可以从由二元化合物、三元化合物和四元化合物构成的组中选择，其中，二元化合物从由sns、snse、snte、pbs、pbse、pbte以及它们的混合物构成的组中选择，三元化合物从由snses、snsete、snste、pbses、pbsete、pbste、snpbs、snpbse、snpbte以及它们的混合物构成的组中选择，并且四元化合物从由snpbsse、snpbsete、snpbste以及它们的混合物构成的组中选择。作为iv族元素，可以从由si、ge以及它们的混合物构成的组中选择。作为iv族化合物，可以是从由sic、sige以及它们的混合物构成的组中选择的二元化合
物。
[0071]
此时，二元化合物、三元化合物或四元化合物可以以均匀的浓度存在于粒子内、或者分成浓度分布部分不同的状态来存在于同一粒子内。此外，也可以具有一个量子点包围其他量子点的芯体
‑
壳体结构。芯体与壳体的界面可以具有存在于壳体的元素的浓度越是朝向中心越低的浓度梯度(gradient)。
[0072]
作为各量子点qd
‑
g、qd
‑
r的芯体的例，可以列举金属或非金属的氧化物、半导体化合物或者它们的组合等。
[0073]
例如，金属或非金属的氧化物可以例示sio2、al2o3、tio2、zno、mno、mn2o3、mn3o4、cuo、feo、fe2o3、fe3o4、coo、co3o4、nio等二元化合物、或者mgal2o4、cofe2o4、nife2o4、comn2o4等三元化合物，但是本发明并不限于此。
[0074]
作为半导体化合物，可以例示cds、cdse、cdte、zns、znse、znte、znses、zntes、gaas、gap、gasb、hgs、hgse、hgte、inas、inp、ingap、insb、alas、alp、alsb等，但是本发明并不限于此。
[0075]
在色控制层cl与滤色器层cf之间可以配置功能层enl。功能层enl可以配置在色控制层cl与滤色器层cf之间，从而使从色控制层cl朝向滤色器层cf的方向射出的光的一部分再次入射至色控制层cl。通过这种光的再次循环，可以提高显示装置dd的光效率。
[0076]
滤色器层cf可以包括第一滤色器部cf
‑
1至第三滤色器部cf
‑
3以及遮光部bm。第一滤色器部cf
‑
1至第三滤色器部cf
‑
3可以配置成在平面上被间隔开，并且在各滤色器部cf
‑
1、cf
‑
2、cf
‑
3之间可以配置遮光部bm。
[0077]
第一滤色器部cf
‑
1可以与第一色控制部cl
‑
1对应地配置，并且可以使第一光透过。第二滤色器部cf
‑
2可以与第二色控制部cl
‑
2对应地配置，并且可以使与第一光不同的第二光透过。第三滤色器部cf
‑
3可以与第三色控制部cl
‑
3对应地配置，并且可以使与第一光及第二光不同的第三光透过。例如，第一光可以是绿色光，第二光可以是蓝色光，并且第三光可以是红色光。第一滤色器部cf
‑
1可以使绿色光透过，并且阻断蓝色光和红色光。第二滤色器部cf
‑
2可以使蓝色光透过，并且阻断绿色光和红色光。第三滤色器部cf
‑
3可以使红色光透过，并且阻断绿色光和蓝色光。
[0078]
遮光部bm可以包括第一遮光图案bm1和第二遮光图案bm2。遮光部bm可以包括含有黑色颜料或染料的有机遮光物质或无机遮光物质而形成。遮光部bm可以包括含有蓝色颜料或染料的有机遮光物质或无机遮光物质而形成。例如，第一遮光图案bm1可以由包括黑色颜料或染料的遮光物质形成，第二遮光图案bm2可以由包括蓝色颜料或染料的遮光物质形成。第二遮光图案bm2可以包括与配置在第二遮光图案bm2的下侧的第二滤色器部cf
‑
2相同的物质。但是，实施例并不限于此，也可以省略第二遮光图案bm2。
[0079]
基板bs2可以是聚合物基板、塑料基板、玻璃基板或石英基板等。基板bs2可以是透明的绝缘基板。基板bs2可以是刚性的基板。基板bs2可以是柔性的基板。
[0080]
在基板bs2上可以配置保护膜pf。保护膜pf可以起到保护显示装置dd的显示面is并且缓和因基板bs2与空气之间的折射率的差异引起的反射现象的功能。
[0081]
根据一实施例，在滤色器层cf与基板bs2之间可以配置光学辅助层oal。
[0082]
光学辅助层oal可以包括基底部bp以及定义在基底部bp的多个凹陷部op。各凹陷部op可以具有朝向基板bs2的方向凹陷的形状。各个凹陷部op的曲面可以与基板bs2相邻。
各个凹陷部op可以包括外廓部uop和芯部cop。各凹陷部op的外廓部uop可以与基板bs2相邻。
[0083]
各凹陷部op的外廓部uop可以包括高分子物质。例如，外廓部uop可以包括聚苯乙烯(polystyrene)。但是，这是例示，实施例并不限于此。
[0084]
可以由外廓部uop定义各凹陷部op的芯部cop，芯部cop可以被形成滤色器层cf的物质填充。芯部cop可以被与滤色器层cf所包括的物质相同的物质填充。芯部cop可以被与滤色器层cf所包括的颜料和染料中的至少一种相同的物质填充。芯部cop可以被与滤色器层cf所包括的第一滤色器部cf
‑
1、第二滤色器部cf
‑
2、第三滤色器部cf
‑
3和遮光部bm中的至少一个相同的物质填充。芯部cop可以被与和芯部cop相邻配置的第一滤色器部cf
‑
1至第三滤色器部cf
‑
3以及遮光部bm中的至少一个相同的物质填充。
[0085]
图3至图5的芯部cop可以包括与和芯部cop相邻配置的第一滤色器部cf
‑
1相同的物质。芯部cop可以包括与形成第一滤色器部cf
‑
1的颜料或染料相同的物质。例如，在第一滤色器部cf
‑
1使绿色光透过的情况下，芯部cop可以包括绿色颜料或染料。但是，实施例并不限于此，芯部cop也可以被与第二滤色器部cf
‑
2、第三滤色器部cf
‑
3和遮光部bm中的至少一个相同的物质填充。
[0086]
在图3至图5中示出了各凹陷部op是由圆的曲面和平坦面构成的半球形状的情况，但是这是例示，各凹陷部可以是形成球的球面的边缘位置中只有一部分被去除的形状。即，各凹陷部可以是从球的球面中去除了比整个球面的一半少的部分的形状。
[0087]
在图3中，示出了各凹陷部op的平均直径r0与第一方向轴dr1延伸的方向并排的情况。根据一实施例，各凹陷部op的平均直径r0可以在200nm以上且在500nm以下。各凹陷部op的平均直径r0可以在200nm以上且在400nm以下。各个凹陷部op的直径可以彼此不同。非球形的各凹陷部op的直径可以假设成具有相同体积的球的形状来测量。在本说明书中，平均直径r0可以是相对于多个纳米粒子表示出的各个纳米粒子所具有的直径的算数平均值。或者，可以是相对于具有非球形的其他形状的一个纳米粒子表示出的直径的平均值。
[0088]
各个凹陷部op可以由来于中空型二氧化硅粒子、包括中空的高分子和致孔剂(porogen)中的至少一种。例如，各凹陷部op可以由来于中空型二氧化硅粒子。各个凹陷部op的外廓部uop可以由来于中空型二氧化硅粒子的壳体(shell)，并且各个凹陷部op的芯部cop可以由来于中空型二氧化硅粒子的芯体(core)。或者，各个凹陷部op的外廓部uop可以由来于包括中空的高分子，并且各个凹陷部op的芯部cop可以由来于被定义包括中空的高分子的外廓部的高分子包围的中空。
[0089]
光学辅助层oal的基底部bp可以包括丙烯酸(acrylate)树脂、环氧(epoxy)树脂和cardo树脂中的至少一种。基底部bp的平均折射率与基板bs2的平均折射率的差异可以在0以上且在0.2以下。基底部bp的平均折射率与基板bs2的平均折射率的差异可以在0.1以下。基底部bp的折射率和基板bs2的折射率可以相同。基板bs2的平均折射率可以在1.4以上且在1.5以下。基底部bp的平均折射率可以在1.4以上且在1.6以下。例如，基板bs2的折射率可以是1.45，基底部bp的折射率可以是1.55。基板bs2的折射率可以是1.45，基底部bp的折射率可以是1.58。基板bs2的折射率可以是1.45，基底部bp的折射率可以是1.53。但是，这是例示，实施例并不限于此。
[0090]
包括基底部bp和多个凹陷部op的光学辅助层oal的平均折射率可以在基板bs2的
平均折射率以上且在滤色器层cf的平均折射率以下。光学辅助层oal的平均折射率可以具有基板bs2的平均折射率与滤色器层cf的平均折射率之间的值。配置在基板bs2与滤色器层cf之间的光学辅助层oal的折射率可以在与基板bs2相近的区域表现出与基板bs2的折射率相近似的值，并且在与滤色器层cf相近的区域表现出与滤色器层cf的折射率相近似的值。如上所述，基底部bp的折射率可以具有与基板bs2的折射率相近似的值。由此，光学辅助层oal的平均折射率可以在基板bs2的平均折射率以上且在滤色器层cf的平均折射率以下。
[0091]
根据一实施例，光学辅助层oal的厚度t0可以在500nm以上且在2000nm以下。例如，光学辅助层oal的厚度t0可以是与各凹陷部op的平均直径r0的一半相近似的值。另一方面，在光学辅助层oal
‑
a、oal
‑
b包括多个子光学辅助层soal的情况下，光学辅助层oal
‑
a、oal
‑
b的厚度可以具有与各凹陷部op的平均直径r0相近似的值。但是，这是例示，实施例并不限于此。
[0092]
在图4和图5中，不同于图3，示出了光学辅助层oal
‑
a、oal
‑
b包括多个子光学辅助层soal的情况。一实施例的光学辅助层oal
‑
a、oal
‑
b可以包括多个子光学辅助层soal。各个子光学辅助层soal可以包括基底部bp以及在基底部bp定义的多个凹陷部op。各子光学辅助层soal所包括的基底部bp和凹陷部op可以由与形成光学辅助层oal所包括的基底部bp及凹陷部op的物质相同的材料形成。
[0093]
在图4的各子光学辅助层soal中，定义在基底部bp的多个凹陷部op的平均直径可以小于在图3的光学辅助层oal中定义在基底部bp的多个凹陷部op的平均直径。可以考虑各凹陷部op的平均直径r0来将光学辅助层oal、oal
‑
a、oal
‑
b形成为单层或多层。在各凹陷部op的平均直径相对小的情况下，光学辅助层oal
‑
a、oal
‑
b可以由包括多个子光学辅助层soal的多层形成。在各凹陷部op的平均直径相对大的情况下，光学辅助层oal可由单层形成。
[0094]
在图3和图4中示出了规则地相邻排列各凹陷部op的情况。在图3和图4中示出了与第一方向轴dr1延伸的方向并排配置各凹陷部op的情况。与此不同地，在图5中示出了隔着一定间隔，间隔开来配置各凹陷部op的情况。例如，定义在基底部bp的各凹陷部op可以被不规则地排列。即，在光学辅助层oal
‑
b的截面上，同一面积所包括的凹陷部op的数量可以不同。
[0095]
另一方面，在图3至图5的光学辅助层oal、oal
‑
a、oal
‑
b中，示出了定义在基底部bp的多个凹陷部op在第三方向轴dr3延伸的方向上与基板bs2隔着一定间隔被间隔开的情况。但是，实施例并不限于此，多个凹陷部可以不与基板间隔开，而是与基板相邻。
[0096]
一实施例的光学辅助层oal、oal
‑
a、oal
‑
b可以包括基底部bp以及定义在基底部bp的多个凹陷部op。光学辅助层oal、oal
‑
a、oal
‑
b的平均折射率可以在基板bs2的平均折射率以上且在滤色器层cf的平均折射率以下。配置在基板bs2与滤色器层cf之间的光学辅助层oal、oal
‑
a、oal
‑
b可以减小因基板bs2的折射率与滤色器层cf的折射率的差异引起的显示装置dd的反射率。光学辅助层oal、oal
‑
a、oal
‑
b可以配置在基板bs2与相邻于基板bs2的滤色器层cf之间，从而缓和基板bs2与滤色器层cf之间的折射率的差异。光学辅助层oal、oal
‑
a、oal
‑
b的平均折射率可以在基板bs2的平均折射率以上且在滤色器层cf的平均折射率以下，并且光学辅助层oal、oal
‑
a、oal
‑
b可以缓和基板bs2与滤色器层cf之间的折射率的差异。由此，一实施例的包括光学辅助层oal、oal
‑
a、oal
‑
b的显示装置dd可以表现出由基板
bs2与滤色器层cf之间的镜面反射(specular component)引起的反射率得到改善的特性。
[0097]
以下，说明包括形成一实施例的光学辅助层oal的步骤的一实施例的显示装置dd的制造方法。对于在前说明过的构成要素，使用相同的符号，并省略对其的说明。
[0098]
图6是示意性表示一实施例的显示装置dd的制造方法的顺序图。图7和图8是分别示意性表示一实施例的显示装置dd的制造方法的步骤的图。
[0099]
一实施例的显示装置dd的制造方法可以包括：在基板bs上提供树脂层bop的步骤s100；形成预备光学辅助层oal
‑
p的步骤s200；形成光学辅助层oal和滤色器层cf的步骤s300；以及形成色控制层cl的步骤s400。
[0100]
在图7中示出了在基板bs上提供树脂层bop的步骤s100。基板bs可以与上述的基板bs2(图2)相同。在基板bs上提供的树脂层bop可以包括基底树脂bp
‑
p以及分散在基底树脂bp
‑
p中的多个纳米粒子op
‑
p。基底树脂bp
‑
p可以包括丙烯酸树脂、环氧树脂和cardo树脂中的至少一种。基底树脂bp
‑
p的折射率与基板bs的折射率的差异可以在0以上且在0.2以下。基底树脂bp
‑
p的折射率与基板bs的折射率的差异可以在0.1以下。基底树脂bp
‑
p的折射率和基板bs的折射率可以相同。基底树脂bp
‑
p的折射率可以大于基板bs的折射率。基底树脂bp
‑
p的折射率可以在1.4以上且在1.6以下。基板bs的折射率可以在1.4以上且在1.5以下。上述的基底部bp(图3等)可以由基底树脂bp
‑
p形成。
[0101]
根据一实施例，在形成预备光学辅助层oal
‑
p的步骤s200中，可以蚀刻树脂层bop来去除多个纳米粒子op
‑
p的一部分。各纳米粒子op
‑
p分别可以具有球形状。各纳米粒子op
‑
p的平均直径可以在200nm以上且在500nm以下。各纳米粒子op
‑
p的平均直径可以在200nm以上且在400nm以下。在图7和图8中示出了各纳米粒子op
‑
p的大小相同的情况，但是实施例并不限于此，各个纳米粒子op
‑
p的大小可以不同。即，各个纳米粒子op
‑
p的直径可以不同。另外，各个纳米粒子可以具有椭圆等形状而非球形。
[0102]
各纳米粒子op
‑
p可以是中空型二氧化硅粒子、包括中空的高分子和致孔剂中的至少一种。例如，各纳米粒子op
‑
p可以是致孔剂。在各纳米粒子op
‑
p为致孔剂的情况下，在基底树脂bp
‑
p和各纳米粒子op
‑
p的总重量中，可以包括50重量％以上且在90重量％以下的纳米粒子op
‑
p。即，在基底树脂bp
‑
p和致孔剂的总重量中，可以包括50重量％以上且在90重量％以下的致孔剂。
[0103]
另一方面，各纳米粒子op
‑
p可以分别具有包括芯体和包围芯体的壳体的芯体
‑
壳体结构。各个凹陷部op的外廓部uop(图3等)可以由来于各纳米粒子op
‑
p的壳体，各个凹陷部op的芯部cop(图3等)可以由来于各纳米粒子op
‑
p的芯体。凹陷部op可以蚀刻纳米粒子op
‑
p而形成。可以向树脂层bop提供蚀刻液，去除各纳米粒子op
‑
p所包括的壳体的一部分。向树脂层bop提供的蚀刻液并不限于某一实施例，只要是具有蚀刻的性质的溶液，就可以适用于本发明。树脂层bop的蚀刻工序可以是干式蚀刻工序或湿式蚀刻工序，并不限于某一工序。
[0104]
接着，可以向形成有多个凹陷部op的预备光学辅助层oal
‑
p提供形成滤色器层cf的物质cf
‑
r，从而形成光学辅助层oal。形成滤色器层cf的物质cf
‑
r可以与上述的第一滤色器部cf
‑
1至第三滤色器部cf
‑
3(图2)及遮光部bm(图2)中的至少一个所包括的物质相同。形成滤色器层cf的步骤可以包括向预备光学辅助层oal
‑
p提供形成滤色器层cf的物质cf
‑
r的步骤s300。形成光学辅助层oal和滤色器层cf的步骤s300可以以连续工序的方式被进行，形
成光学辅助层oal的步骤以及形成滤色器层cf的步骤可以包括相同的工序。
[0105]
显示装置dd的制造方法可以包括在滤色器层cf上形成色控制层cl的步骤s400。在滤色器层cf上可以提供包括多个量子点qd
‑
g、qd
‑
r(图2)的物质，从而形成色控制层cl。
[0106]
在图7和图8中示出了光学辅助层oal为单层的情况，但是如上所述，光学辅助层oal
‑
a、oal
‑
b(图4和图5)可以由包括多个子光学辅助层soal(图4和图5)的多层形成。即，预备光学辅助层oal
‑
p可以包括多个预备子光学辅助层。各预备子光学辅助层可以包括基底树脂以及多个凹陷部。
[0107]
一实施例的显示装置dd的制造方法可以包括形成光学辅助层oal的步骤。一实施例涉及的光学辅助层oal可以包括基底部bp以及定义在基底部bp的多个凹陷部op，并且光学辅助层oal可以配置在基板bs2与滤色器层cf之间。配置在基板bs2与滤色器层cf之间的光学辅助层oal可以对显示装置dd的反射率的改善做贡献。
[0108]
[实施例]
[0109]
以下，参照实施例和比较例的同时，具体说明本发明的一实施方式涉及的包括光学辅助层的显示装置。另外，以下所示的实施例是有助于本发明的理解的一个例示，并不由此限定本发明的范围。
[0110]
表1的“sci”表示总反射(specular component included)，“sce”表示漫反射(specular component excluded)。总反射可以用基于漫反射的反射率和基于镜面反射的反射率之和来表示。“sci
‑
sce”表示在总反射中去除了漫反射的镜面反射。
[0111]
漫反射sce表示分别对包括量子点和散射粒子的层、包括颜料(pigment)的层以及包括保护膜的层测量基于漫反射的反射率而得到的它们的总和。
[0112]
镜面反射是分别测量对在包括玻璃(glass)的基板与空气层之间的界面产生的反射、在包括玻璃的基板与滤色器层之间的界面产生的反射以及在滤色器部与遮光部之间的界面产生的反射的反射率而得到的它们的总和。
[0113]
【表1】
[0114]
区分比较例1实施例1sci1.3％1.0％sce0.75％0.75％sci
‑
sce0.55％0.25％
[0115]
在表1中，实施例1的显示装置是包括一实施例的光学辅助层的显示装置，比较例1的显示装置是不包括光学辅助层的显示装置。比较例1的值是在不包括光学辅助层的显示装置中表现出的反射率，实施例1的值是在包括光学辅助层的显示装置中表现出的反射率。
[0116]
在比较例1的显示装置和实施例1的显示装置中可以确认出基于漫反射的反射率具有相同的值。对于基于镜面反射的反射率而言，实施例1的显示装置具有比比较例1的显示装置小的值。参照表1，与比较例1的显示装置相比，可知在实施例1的显示装置中基于镜面反射的反射率减少了0.3％。随着在实施例1的显示装置中基于镜面反射的反射率减少，用基于镜面反射的反射率和基于漫反射的反射率之和表示的总反射率在实施例1中表现出减小的值。因此，包括一实施例的光学辅助层的显示装置可以减小基于镜面反射的反射率，并且可以表现出总反射率得到改善的特性。
[0117]
根据一实施例，光学辅助层可以包括基底部以及定义在基底部的多个凹陷部，并
且可以在基板与配置于基板的下侧的滤色器层之间提供光学辅助层。另外，光学辅助层的平均折射率可以在基板的平均折射率以上且在滤色器层的平均折射率以下，在基板与滤色器层之间配置光学辅助层的一实施例的显示装置可以改善基板与滤色器层之间的反射率。
[0118]
一实施例的显示装置的制造方法可以包括形成光学辅助层的步骤，光学辅助层可以通过向蚀刻多个纳米粒子形成的凹陷部填充滤色器层材料来形成。光学辅助层可以形成在基板上，并且在光学辅助层上可以形成滤色器层。因此，通过一实施例的显示装置的制造方法制造出的显示装置可以表现出基板与滤色器层之间的反射率得到改善的特性。
[0119]
以上，参照实施例说明了本发明的优选实施例，但是本领域熟练技术人员或在本领域具备通常知识的技术人员应当能够理解在不超出权利要求书所记载的本发明的思想以及技术领域的范围内可以以各种方式修正或变更本发明。
[0120]
因此，本发明的技术范围并不限于说明书的详细说明所记载的内容，应仅由权利要求书来确定。