技术特征:
1.一种脑波诱导音制造方法,应用于一声音调整装置,该声音调整装置具有一处理器,且该声音调整装置与一扬声装置信号连接,该扬声装置包括一第一喇叭以及一第二喇叭,其特征在于,该方法包括下列步骤:
接收一第一声道输入声音信号及一第二声道输入声音信号;
调整该第一声道输入声音信号的音量增益成为一第一声道输出声音信号,其中该第一声道输出声音信号的音量增益变化为一第一波形;
调整该第二声道输入声音信号的音量增益成为一第二声道输出声音信号,其中该第二声道输出声音信号的音量增益变化为一第二波形,其中该第一波形的种类与该第二波形的种类相同;以及
输出该第一声道输出声音信号至该扬声装置并通过该第一喇叭播放,以及输出该第二声道输出声音信号至该扬声装置并通过该第二喇叭播放。
2.根据权利要求1所述的脑波诱导音制造方法,其特征在于,调整该第一声道输入声音信号的音量增益及该第二声道输入声音信号的音量增益的方法为:选择产生脑波诱导音的一频带进行音量的增益调整,其中该频带包括全频20hz至20000hz、低频20hz至160hz、中频160hz至2560hz、高频2560hz至20000hz。
3.根据权利要求1所述的脑波诱导音制造方法,其特征在于,该第一波形与该第二波形包括正弦波、三角波、方波、梯形波、及非对称波波形。
4.根据权利要求1所述的脑波诱导音制造方法,其特征在于,该第一波形与该第二波形间具有一相位差。
5.根据权利要求4所述的脑波诱导音制造方法,其特征在于,该相位差为0度至360度。
6.根据权利要求1所述的脑波诱导音制造方法,其特征在于,该第一波形的频率范围为0赫兹到10000赫兹之间,第二波形的频率范围为0赫兹到10000赫兹之间。
7.根据权利要求6所述的脑波诱导音制造方法,其特征在于,该第一声道输出声音信号的音量增益最大为m1,该第一声道输出声音信号的音量增益最小为m2,-200dbfs≤m1-m2≤0dbfs;该第二声道输出声音信号的音量增益最大为m1,该第二声道输出声音信号的音量增益最小为m2,-200dbfs≤m1-m2≤0dbfs。
8.一种声音调整装置,其信号连接一扬声装置,其特征在于,该扬声装置包括一第一喇叭以及一第二喇叭,该声音调整装置包括:
一信号接收端,用以接收一第一声道输入声音信号及第二声道输入声音信号;
一声音处理单元,与该信号接收端电性连接,该声音处理单元包括:
一声音调整模块,用以调整该第一声道输入声音信号的音量增益成为一第一声道输出声音信号,其中该第一声道输出声音信号的音量增益变化为一第一波形,该声音调整模块调整该第二声道输入声音信号的音量增益成为一第二声道输出声音信号,其中该第二声道输出声音信号的音量增益变化为一第二波形,其中该第一波形的种类与该第二波形的种类相同;以及
一信号输出端,电性连接该声音处理单元,用以输出该第一声道输出声音信号至该扬声装置并通过该第一喇叭播放,以及输出该第二声道输出声音信号至该扬声装置并通过该第二喇叭播放。
9.根据权利要求8所述的声音调整装置,其特征在于,调整该第一声道输入声音信号的音量增益及该第二声道输入声音信号的音量增益的方法为:选择产生脑波诱导音的一频带进行音量的增益调整,如选择全频20hz至20000hz、低频20hz至160hz、中频160hz至2560hz、高频2560hz至20000hz。
10.根据权利要求8所述的声音调整装置,其特征在于,该第一波形与该第二波形包括正弦波、三角波、方波、梯形波、非对称波波形。
11.根据权利要求8所述的声音调整装置,其特征在于,该第一波形与该第二波形间具有一相位差。
12.根据权利要求11所述的声音调整装置,其特征在于,该相位差为0度至360度。
13.根据权利要求8所述的声音调整装置,其特征在于,该第一波形的频率范围为0赫兹到10000赫兹之间,第二波形的频率范围为0赫兹到10000赫兹之间。
14.根据权利要求13所述的声音调整装置,其特征在于,该第一声道输出声音信号的音量增益最大为m1,该第一声道输出声音信号的音量增益最小为m2,-200dbfs≤m1-m2≤0dbfs;该第二声道输出声音信号的音量增益最大为m1,该第二声道输出声音信号的音量增益最小为m2,-200dbfs≤m1-m2≤0dbfs。
技术总结
本发明公开了一种脑波诱导音制造方法及声音调整装置,该方法应用于声音调整装置,该方法包括下列步骤:接收第一声道输入声音信号及第二声道输入声音信号;调整第一声道输入声音信号的音量增益成为第一声道输出声音信号,其中第一声道输出声音信号的音量增益变化为第一波形;调整第二声道输入声音信号的音量增益成为第二声道输出声音信号,第二声道输出声音信号的音量增益变化为第二波形,第一波形的种类与第二波形的种类相同;输出第一声道输出声音信号至扬声装置并通过第一喇叭播放,以及输出第二声道输出声音信号至扬声装置并通过第二喇叭播放。
技术研发人员:赵冠力;高国维;李宜庭;张维麟;蓝伟任;杨国屏
受保护的技术使用者:原相科技股份有限公司
技术研发日:2020.01.17
技术公布日:2021.08.06
本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。