一种残膜回收机防缠绕挑膜装置的制 一种秧草收获机用电力驱动行走机构

电子手表的制作方法

2020-04-10 22:22:00 来源:中国专利 TAG:专利申请 申请 激光 中国 元件

技术特征:

1.一种电子手表,包括:

外壳;以及

输入刻度盘,所述输入刻度盘能够围绕旋转轴线相对于所述外壳旋转,所述输入刻度盘限定:

轴向端部表面,所述轴向端部表面至少部分地由铝形成;

外围表面,所述外围表面至少部分地由铝形成;

弯曲表面,所述弯曲表面至少部分地由铝形成,并在所述轴向端部表面和外围表面之间延伸;以及

矩形凹槽径向阵列,所述矩形凹槽径向阵列沿所述弯曲表面布置,所述矩形凹槽径向阵列中的至少一个凹槽限定底部表面,所述底部表面沿与所述弯曲表面相对应的弯曲路径延伸。

2.根据权利要求1所述的电子手表,进一步包括:

显示器,所述显示器至少部分地被所述外壳包围;

透明外罩,所述透明外罩定位在所述显示器之上;以及

触摸感测系统,所述触摸感测系统被配置为检测施加至透明外罩的触摸。

3.根据权利要求1所述的电子手表,其中所述弯曲表面限定在所述轴向端部表面和所述外围表面之间延伸的凸形。

4.根据权利要求1所述的电子手表,其中所述弯曲表面限定在所述轴向端部表面和所述外围表面之间延伸的凹形。

5.根据权利要求1所述的电子手表,其中所述输入刻度盘至少部分地由陶瓷材料形成。

6.一种电子手表,包括:

外壳;以及

铝刻度盘,所述铝刻度盘能够相对于所述外壳旋转,并且限定:

无特征端部表面,所述无特征端部表面位于所述铝刻度盘的轴向端部处;

圆形外围表面,所述圆形外围表面围绕所述铝刻度盘的圆周延伸;

凸起弯曲表面,所述凸起弯曲表面从所述无特征端部表面延伸到所述圆形外围表面;以及

沿着至少所述凸起弯曲表面的凹槽径向阵列,所述凹槽径向阵列的凹槽限定底部表面,并且所述凹槽的一部分沿与所述凸起弯曲表面相对应的弯曲路径延伸。

7.根据权利要求6所述的电子手表,其中所述凹槽径向阵列的凹槽进一步限定从所述底部表面延伸的两个侧表面。

8.根据权利要求7所述的电子手表,其中所述两个侧表面从所述底部表面垂直地延伸。

9.根据权利要求7所述的电子手表,其中所述两个侧表面从所述底部表面以非垂直的角度延伸。

10.根据权利要求7所述的电子手表,其中所述铝刻度盘包括被倒角的边缘,所述两个侧表面中的任一个侧表面在所述被倒角的边缘处与所述凸起弯曲表面交会。

11.根据权利要求7所述的电子手表,其中所述铝刻度盘包括弯曲过渡区域,所述弯曲过渡区域将所述底部表面连接到所述两个侧表面中的任一个侧表面。

12.根据权利要求6所述的电子手表,其中所述外壳至少部分地由铝形成。

13.根据权利要求6所述的电子手表,进一步包括:

显示器,所述显示器定位在所述外壳内;

透明外罩,所述透明外罩定位在所述显示器之上,并限定所述电子手表的输入表面;以及

触摸感测系统,所述触摸感测系统被配置为检测施加至所述电子手表的输入表面的触摸。

14.根据权利要求13所述的电子手表,其中所述铝刻度盘被配置为修改显示在所述显示器上的图形内容。

15.一种电子手表,包括:

外壳;以及

铝输入刻度盘,所述铝输入刻度盘能够围绕旋转轴线相对于所述外壳旋转,所述铝输入刻度盘限定:

轴向端部表面,所述轴向端部表面具有第一非图案化区域;

外围表面,所述外围表面具有第二非图案化区域;

弯曲表面,所述弯曲表面在所述轴向端部表面和所述外围表面之间延伸;以及

沿着所述弯曲表面的凹槽径向阵列,所述凹槽径向阵列中的凹槽限定底部表面,所述底部表面沿与所述弯曲表面相对应的弯曲路径延伸,并且从所述第一非图案化区域延伸至所述第二非图案化区域。

16.根据权利要求15所述的电子手表,其中所述凹槽进一步限定两个侧表面,所述两个侧表面从所述底部表面垂直地延伸。

17.根据权利要求15所述的电子手表,其中所述弯曲表面是凹面。

18.根据权利要求15所述的电子手表,其中所述弯曲表面是凸面。

19.根据权利要求15所述的电子手表,其中所述弯曲路径和所述旋转轴线共面。

20.根据权利要求15所述的电子手表,进一步包括:

与所述外壳连接的显示器;

透明外罩,所述透明外罩位于所述显示器之上,并且限定所述电子手表的输入表面;以及

触摸感测系统,所述触摸感测系统被配置为检测施加至所述电子手表的所述输入表面的触摸,其中所述铝输入刻度盘被配置为修改显示在所述显示器上的图形内容。


技术总结
一种电子手表,包括:外壳;以及输入刻度盘,所述输入刻度盘能够围绕旋转轴线相对于所述外壳旋转,所述输入刻度盘限定:轴向端部表面,所述轴向端部表面至少部分地由铝形成;外围表面,所述外围表面至少部分地由铝形成;弯曲表面,所述弯曲表面至少部分地由铝形成,并在所述轴向端部表面和外围表面之间延伸;以及矩形凹槽径向阵列,所述矩形凹槽径向阵列沿所述弯曲表面布置,所述矩形凹槽径向阵列中的至少一个凹槽限定底部表面,所述底部表面沿与所述弯曲表面相对应的弯曲路径延伸。

技术研发人员:P·N·卢塞尔-克拉克;M·S·纳什奈尔;H·R·法拉哈尼
受保护的技术使用者:苹果公司
技术研发日:2014.06.06
技术公布日:2020.04.10
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

发表评论 共有条评论
用户名: 密码:
验证码: 匿名发表

相关文献

  • 日榜
  • 周榜
  • 月榜