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一种具有抗污高强度的多功能保护膜及其制备方法与流程

2021-10-24 12:35:00 来源:中国专利 TAG:多功能 电子设备 高强度 保护膜 制备方法

技术特征:
1.一种具有抗污高强度的多功能保护膜,其特征在于,包括:基材(2);印刷在所述基材其中一表面的涂层(1);可分离的pet离型底纸(3),设置在所述基材的另一表面。2.根据权利要求1所述的具有抗污高强度的多功能保护膜,其特征在于,所述基材(2)包括内部掺有银纳米粒子的pet膜、pi膜、pc膜、pp膜和pe膜中的一种或多种。3.根据权利要求2所述的具有抗污高强度的多功能保护膜及其制备方法,其特征在于,所述涂层(2)的厚度为2

10μm。4.一种如权利要求3所述的具有抗污高强度的多功能保护膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:将基材(2),包括内部掺杂有银纳米粒子的pet膜、pi膜、pc膜、pp膜和pe膜中的一种或多种,用等离子处理器在其表面用氮气、120kw功率做表面等离子冲击处理;步骤2:将处理好的基材(2)放在凹版印刷机上进行磨砂抗污uv硬化涂层处理;步骤3:将高粘环保水性胶水使用专业的刮刀式涂布设备均匀的涂布在具有离型功能的75μm透明pet离型底纸(3)的离型面,并通过高温烘干使其完全固化;步骤4:使用经过步骤3具有可分离的75μm透明pet离型底纸(3)的离型面粘附着在基材(2)的非涂层面,将制备品卷取。5.根据权利要求4所述的具有抗污高强度的多功能保护膜的制备方法,其特征在于,所述步骤1中经等离子处理的基材(2)表面能≥44。6.根据权利要求4所述的具有抗污高强度的多功能保护膜的制备方法,其特征在于,所述步骤2中涂层(1)成分主要为二氧化硅、氟化合物和改性丙烯酸共聚体。7.根据权利要求6所述的具有抗污高强度的多功能保护膜的制备方法,其特征在于,所述步骤2中涂层(1)印刷厚度控制在2

10μm。8.根据权利要求4所述的具有抗污高强度的多功能保护膜的制备方法,其特征在于,所述步骤3中高粘环保水性胶水的主要化学成份:c3h4o2。9.根据权利要求8所述的具有抗污高强度的多功能保护膜的制备方法,其特征在于,所述步骤3中高粘环保水性胶水的涂布厚度为10~80μm。10.根据权利要求8或9所述的具有抗污高强度的多功能保护膜的制备方法,其特征在于,所述步骤3中高温烘干的条件为:在110℃环境下静置3min。

技术总结
本发明公开了一种具有抗污高强度的多功能保护膜及其制备方法,属于电子设备屏幕技术领域。一种具有抗污高强度的多功能保护膜,包括基材;印刷在所述基材其中一表面的涂层;可分离的PET离型底纸,设置在所述基材的另一表面;本发明表面磨砂抗污UV硬化层,具有抗污、耐指纹能力,并且在基材中添加适量的银纳米粒子,在提升屏幕硬度和耐磨性能的同时,使成品保护膜的衍射率、透光率和雾度均保持在较佳的水平,从而可以在实际使用中提供较高的光洁度和亮泽,银纳米粒子的合理添加在屏幕的全息投影使用中有非常宽的双折射和透明度,并且对外加电场和光场具有很大的敏感性,从而提供更好的使用体验。的使用体验。的使用体验。


技术研发人员:周荣杰 黄伟
受保护的技术使用者:深圳昌茂粘胶新材料有限公司
技术研发日:2021.06.02
技术公布日:2021/10/23
再多了解一些

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