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一种水下清刷设备的制作方法

2021-09-04 08:33:00 来源:中国专利 TAG:水下 设备 清洗 环境

技术特征:
1.一种水下清刷设备,其特征在于,包括:支撑框架,所述支撑框架呈方形体结构;第一浮力块和第二浮力块,所述第一浮力块和所述第二浮力块分别固定在所述支撑框架内部的两侧;水下高压泵,所述水下高压泵固定在所述支撑框架上,并且位于所述第一浮力块和所述第二浮力块之间;过滤网栏,所述过滤网栏围设在所述支撑框架的外围,并且包裹住所述水下高压泵;第一旋转臂,所述第一旋转臂铰接在所述支撑框架的前侧,并且所述第一旋转臂与所述支撑框架之间设置有第一液压缸;空化射流盘,所述空化射流盘通过第二旋转臂铰接在所述第一旋转臂延伸端部;并且所述空化射流盘与所述第一旋转臂之间设置有第二液压缸。2.根据权利要求1所述的一种水下清刷设备,其特征在于,所述空化射流盘包括盘体、旋转喷嘴、外套罩和浮力环;所述盘体安装在所述第二旋转臂延伸端部;所述旋转喷嘴安装在所述盘体上且与所述水下高压泵连通;所述外套罩套设在所述盘体外围;所述浮力环包裹套设在所述外套罩的外围。3.根据权利要求2所述的一种水下清刷设备,其特征在于,所述空化射流盘还包括多个万向轮,多个所述万向轮分别安装在所述盘体的外围并且贯穿所述外套罩和所述浮力环。4.根据权利要求3所述的一种水下清刷设备,其特征在于,所述空化射流盘还包括多个摄像头和多个照明灯,多个所述摄像头和多个所述照明灯分别并排安装在所述浮力环的顶部且均贯穿所述浮力环。

技术总结
本发明公开了一种水下清刷设备,包括支撑框架、第一浮力块、第二浮力块、水下高压泵、过滤网栏、第一旋转臂和空化射流盘;支撑框架呈方形体结构;第一浮力块和第二浮力块分别固定在支撑框架内部的两侧;水下高压泵固定在支撑框架上,并且位于第一浮力块和第二浮力块之间;过滤网栏围设在支撑框架的外围,并且包裹住水下高压泵;第一旋转臂铰接在支撑框架的前侧,并且第一旋转臂与支撑框架之间设置有第一液压缸;空化射流盘通过第二旋转臂铰接在第一旋转臂延伸端部;并且空化射流盘与第一旋转臂之间设置有第二液压缸。本发明能够对水下结构表面附着物进行全面彻底的清洗。表面附着物进行全面彻底的清洗。表面附着物进行全面彻底的清洗。


技术研发人员:刘文智 刘汉强 秦明达 王顺礼 韩锦亮 于力明 周翰文 张志强 黄杰 刘丕业
受保护的技术使用者:智真海洋科技(威海)有限公司
技术研发日:2021.07.02
技术公布日:2021/9/3
再多了解一些

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