一种残膜回收机防缠绕挑膜装置的制 一种秧草收获机用电力驱动行走机构

用于3D曲面屏的UV光定型柔性保护膜及制备工艺的制作方法

2021-08-31 17:44:00 来源:中国专利 TAG:保护膜 曲面 柔性 制备 定型

技术特征:

1.一种用于3d曲面屏的uv光定型柔性保护膜,其特征在于:自上而下依次包括:pet基膜层(100)、改性低粘压敏胶层(200)、硬化pet基材层(300)、uv光固定型胶层(500)、柔性弹性体层(600)、改性高粘压敏胶层(700)和离型膜层(800);

所述改性低粘压敏胶层(200)与所述硬化pet基材层(300)黏合连接,所述硬化pet基材层(300)背离所述改性低粘压敏胶层(200)的一侧与所述uv光固定型胶层(500)粘接;所述uv光固化定型层(500)背离所述硬化pet基材层(300)的一侧与所述柔性弹性体层(600)粘接,所述柔性弹性体层(600)背离所述uv光定型胶层(500)一侧通过所述改性高粘压敏胶层(700)与所述离型膜层(800)黏合连接,其中,所述柔性弹性体层为pu柔性弹性体。

2.如权利要求1所述的用于3d曲面屏的uv光定型柔性保护膜,其特征在于:所述pet基膜层(100)为光学级pet薄膜,其厚度为25-100um。

3.如权利要求1所述的用于3d曲面屏的uv光定型柔性保护膜,其特征在于:所述改性低粘压敏胶层(200)厚度为5-15um,所述改性低粘压敏胶层(200)为自低粘pu胶制程保护膜、低粘硅胶制程保护膜或低粘亚克力制程保护膜中的一种。

4.如权利要求1所述的用于3d曲面屏的uv光定型柔性保护膜,其特征在于:所述硬化pet基材层(300)包括硬化pet基膜和涂层,所述硬化pet基材层(300)厚度为12-100um,其中硬化pet基膜厚度为12-100um,涂层厚度为0.1-10um。

5.如权利要求4所述的用于3d曲面屏的uv光定型柔性保护膜,其特征在于:所述硬化pet基膜包括改性丙烯酸酯硬化层,所述改性丙烯酸酯硬化层包括聚氨酯改性丙烯酸树脂层、环氧改性丙烯酸树脂层、有机硅改性丙烯酸树脂层、有机氟改性丙烯酸树脂层中至少一种。

6.如权利要求1所述的用于3d曲面屏的uv光定型柔性保护膜,其特征在于:所述uv光定型胶层(500)厚度为25-100um,所述uv光定型胶层(500)为热光固双固化绝缘涂料溶液,所述热光双固绝缘涂料溶液组成包括:丙烯酸酯类低聚物10-50%、环氧树脂聚合物1-10%、聚氨酯聚合物1-20%、活性稀释剂30-80%、光引发剂0.1-5%、光反应剂0.5-5%、热引发剂0.1-5%、热固化剂0.5-5%、功能助剂a0.1-5%。

7.如权利要求1所述的用于3d曲面屏的uv光定型柔性保护膜,其特征在于:柔性弹性体层(600)厚度为10-100um,所述弹性体层(600)材质为改性聚氨酯、改性有机硅、环氧树脂、聚丙烯酸酯等弹性体中的一种,所述弹性体层(600)为涂液凝固形成,其涂液中添加有功能性助剂b,与uv光定型胶层(600)中包括的功能助剂a在uv光照环境中可发生交联反应。

8.如权利要求1所述的用于3d曲面屏的uv光定型柔性保护膜,其特征在于:所述高粘压敏胶层(700)厚度为10-50um,所述高粘压敏胶层(700)中的压敏胶为改性有机硅、改性聚丙烯酸酯、改性聚氨酯中的一种。

9.如权利要求1所述的用于3d曲面屏的uv光定型柔性保护膜,其特征在于:所述离型膜层(800)厚度为25-100um,所述离型膜层制成为:

1)通过在pet基膜层一面涂覆超薄涂层后,再将改性低粘压敏胶层粘合;

2)凝固成型后使之与改性低粘压敏胶层剥离。

10.一种保护膜的制备工艺,其特征在于,所述制备工艺包括以下步骤:

步骤一:涂布硬化pet基膜,形成硬化pet基膜层(300),将其贴合低粘改性压敏胶膜层(200);

步骤二:离型膜上涂布柔软弹性体,收卷时贴覆低粘带胶保护膜;

步骤三:高粘改性压敏胶涂布,撕掉步骤二柔性弹性体膜的离型膜,涂覆高粘改性压敏胶层(700),贴合离型膜层(800)收卷;

步骤四:uv光定型层涂布,硬化pet非硬化面涂布uv定型胶,过热烘箱热固化,收卷时贴合步骤三撕掉底粘带胶保护膜的一面;

步骤五:整支分要规格卷材料,冲切标准方块膜,贴合,uv光照定型。


技术总结
本发明涉及一种用于3D曲面屏的UV光定型柔性保护膜及制备工艺,自上而下依次包括:PET基膜层(100)、改性低粘压敏胶层(200)、硬化PET基材层(300)、UV光固定型胶层(500)、柔性弹性体层(600)、改性高粘压敏胶层(700)和离型膜层(800)。本发明中保护膜叠层结构不同于现有市场产品,在功能层与胶粘层间增加柔性弹性体层,柔性弹性体层能够很好的对屏幕起到保护作用,提高防摔落、防爆及裂屏功能。

技术研发人员:余正波;程松波
受保护的技术使用者:深圳市方胜光学材料科技有限公司
技术研发日:2021.06.25
技术公布日:2021.08.31
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

发表评论 共有条评论
用户名: 密码:
验证码: 匿名发表

相关文章

  • 日榜
  • 周榜
  • 月榜