一种具有高折射率的光学玻璃制备工艺的制作方法

技术特征：
1.一种具有高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：包括如下步骤：s1.混合配料：按照配置配方将光学玻璃生产原料投入混料设备进行混料；s2.熔炼：预先将熔炼设备(1)内温度提升至1400
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1600℃进行保温，再将混合完成的配料投入熔炼设备(1)内进行熔炼；s3.搅拌消泡：在熔炼过程中，使用搅拌机构(2)对熔液进行搅拌，并通过侧吹式消泡搅拌杆(201)的间歇作用，消除光学玻璃熔液内产生的气泡；s4.成型：熔炼完成后，将光学玻璃熔液输送至成型设备内，进行冷却成型；s5.热处理：对成型后的光学玻璃进行淬火、退火处理；s6.保温退火：再将热处理后的光学玻璃在温度为80
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100℃保温3h后，自然空冷退火；s7.质检：对制备完成后的光学玻璃进行质量检测，判断其是否符合标准要求；s8.包装入库：对质检合格的光学玻璃进行分装入库。2.根据权利要求1所述的一种具有高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：所述熔炼设备(1)内安装有搅拌机构(2)，所述搅拌机构(2)下端延伸至熔炼设备(1)内部，并固定连接有多个侧吹式消泡搅拌杆(201)，所述侧吹式消泡搅拌杆(201)内固定连接有多个消泡支管(3)，所述消泡支管(3)外端延伸至侧吹式消泡搅拌杆(201)外侧，并固定连接有浮球气板(4)，所述浮球气板(4)上连接有多个半透性浮球组件(5)。3.根据权利要求2所述的一种具有高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：所述搅拌机构(2)上开设有吸气通道，所述侧吹式消泡搅拌杆(201)内开设有与吸气通道相接通的疏气通道(202)，且消泡支管(3)与疏气通道(202)相接通。4.根据权利要求2所述的一种具有高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：所述半透性浮球组件(5)包括有收缩式透气半球套(501)，所述浮球气板(4)上开设有多个吹气通孔，所述浮球气板(4)外端固定连接有多个与吹气通孔相配合的收缩式透气半球套(501)，所述吹气通孔内固定连接有与收缩式透气半球套(501)相配合的透气硬性半球套(502)，所述收缩式透气半球套(501)和透气硬性半球套(502)之间设置有轻质气浮球(503)。5.根据权利要求2所述的一种具有高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：所述消泡支管(3)内部远离浮球气板(4)一端固定连接有透气隔板(6)，所述消泡支管(3)内部靠近浮球气板(4)一端滑动连接有电磁活塞(7)，所述透气隔板(6)靠近电磁活塞(7)一端固定连接有与电磁活塞(7)相配合的可调电磁线圈(8)。6.根据权利要求5所述的一种具有高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：所述电磁活塞(7)上开设有多个弧形磁性槽(701)，所述弧形磁性槽(701)中部固定连接有限位转杆(702)，所述限位转杆(702)上转动连接有与弧形磁性槽(701)相配合的柔性封闭弧形塞(9)。7.根据权利要求6所述的一种具有高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：所述柔性封闭弧形塞(9)侧壁固定连接有一圈磁性伸缩弧形条(901)，且磁性伸缩弧形条(901)与弧形磁性槽(701)相配合。8.根据权利要求6所述的一种具有高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：所述透气隔板(6)靠近电磁活塞(7)一端固定连接有多个导向限位滑套(10)，且多个导向限位滑套(10)围绕在可调电磁线圈(8)外侧，所述电磁活塞(7)靠近透气隔板(6)一端固定连接有导向限位滑杆(11)，且导向限位滑杆(11)与导向限位滑套(10)形成伸缩杆结构。
9.根据权利要求8所述的一种具有高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：所述导向限位滑套(10)靠近电磁活塞(7)一端固定连接有一对通气支杆(12)，且通气支杆(12)与相对应的柔性封闭弧形塞(9)相配合。10.根据权利要求5所述的一种具有高折射率的光学玻璃制备工艺，其特征在于：所述透气隔板(6)靠近电磁活塞(7)一端固定连接有套着在可调电磁线圈(8)外侧的线圈护套(801)，所述可调电磁线圈(8)靠近电磁活塞(7)一端固定连接有磁力传导块(802)。

技术总结
本发明公开了一种具有高折射率的光学玻璃制备工艺，属于光学玻璃领域，一种具有高折射率的光学玻璃制备工艺，混合配料：按照配置配方将光学玻璃生产原料投入混料设备进行混料；熔炼；搅拌消泡；成型；热处理；保温退火；质检；包装入库，可以通过在搅拌熔炼时增加侧吹式消泡搅拌杆，以辅助光学玻璃熔液内气泡的排除，减少微小气泡的存在，进而有效提高光学玻璃的制备质量，有效使成型后的光学玻璃能够加工成较薄的厚度，进而提高光学玻璃的折射率，并且通过增设机械结构的方式对提高气泡释放的效率，进而有效降低光学玻璃的制备难度，减低对工艺人员的技术要求，利于光学玻璃的批量生产，进而提高光学玻璃制备的经济效益。进而提高光学玻璃制备的经济效益。进而提高光学玻璃制备的经济效益。


技术研发人员：梅军
受保护的技术使用者：沭阳飞天光电仪器有限公司
技术研发日：2021.07.30
技术公布日：2021/10/8