一种消畸变的点阵投射装置的制作方法

技术特征：
1.一种消畸变的点阵投射装置，包括阵列光源、逆扫描透镜和衍射光学元件，其特征在于：所述阵列光源发出的第一光束经逆扫描透镜出射为第二光束，所述第二光束经衍射光学元件复制为出射的第三光束；所述第二光束的视场角α和第三光束的视场角γ存在约束关系：α>0.8γ。2.如权利要求1所述的消畸变的点阵投射装置，其特征在于，所述的阵列光源包括若干子光源，每个子光源发射一束子光束，所有出射的子光束组成所述的第一光束。3.如权利要求1所述的消畸变的点阵投射装置，其特征在于，所述的阵列光源为vcsel阵列光源。4.如权利要求1所述的消畸变的点阵投射装置，其特征在于，所述的逆扫描透镜为单透镜或多个透镜组成的透镜组。5.如权利要求1所述的消畸变的点阵投射装置，其特征在于，所述衍射光学元件的视场角β<5
°
。6.如权利要求1所述的消畸变的点阵投射装置，其特征在于，所述的衍射光学元件的表面微结构按照随机相位分布。7.如权利要求1所述的消畸变的点阵投射装置，其特征在于，所述的阵列光源由多个单体的激光发射器排列组成。8.如权利要求1所述的消畸变的点阵投射装置，其特征在于，所述的阵列光源由多个独立控制的子阵列光源组成。

技术总结
本申请公开一种消畸变的点阵投射装置，包括阵列光源、逆扫描透镜和衍射光学元件，所述阵列光源发出的第一光束经逆扫描透镜出射为第二光束，所述第二光束经衍射光学元件复制为出射的第三光束；所述第二光束102的视场角α和第三光束103的视场角γ存在约束关系：α>0.8γ。本申请可以消除投射器所投射的点阵图案畸变，以便更好的应用在D


技术研发人员：陈驰 李安 鲁亚东 黄若普
受保护的技术使用者：深圳市安思疆科技有限公司
技术研发日：2020.03.31
技术公布日：2021/10/21