光学层叠体和显示装置的制作方法

1.本发明涉及光学层叠体和显示装置。


背景技术：

2.作为液晶显示装置、有机电致发光(el)显示装置等各种显示装置，已知有在其视认侧的最表面具备包含起偏器层的光学层叠体。
3.在韩国公开专利第10－2019－0071119号公报(专利文献1)中公开了一种通过物理性张力使因折叠而产生的表面皱褶恢复而能够改善视认性的折叠显示装置。
4.专利文献1：韩国公开专利第10－2019－0071119号公报。


技术实现要素：

5.在能够弯曲的显示装置中，如果反复进行弯曲，则有时在配置于前面的光学层叠体中沿着弯曲轴残留有皱褶。如果视认到该皱褶，则显示装置的屏幕的视认性降低。
6.本发明的目的在于提供一种能够抑制视认到皱褶的光学层叠体和包含该光学层叠体的显示装置。
7.本发明提供以下所示的光学层叠体和显示装置。
8.〔1〕一种光学层叠体，包含线性偏振片和配置于所述线性偏振片的视认侧的防反射体，
9.所述光学层叠体使视认侧表面为内侧，能够沿着弯曲轴弯曲，
10.从视认侧表面入射的光的反射率为2.0％以下。
11.〔2〕根据〔1〕所述的光学层叠体，其中，从视认侧表面入射的光的反射率为0.8％以下。
12.〔3〕根据〔1〕或〔2〕所述的光学层叠体，其中，所述防反射体包含前面板，所述前面板具备厚度为5μm～60μm的玻璃制的板状体。
13.〔4〕根据〔1〕～〔3〕中任一项所述的光学层叠体，其中，使视认侧表面为内侧，能够沿着弯曲轴弯曲，
14.在所述防反射体为内侧，且以弯曲半径成为1.5mm的方式将光学层叠体折弯的状态下，在温度60度、湿度90％rh的环境下放置6小时后，在弯曲轴存在深度300μm以上的皱褶。
15.〔5〕根据〔1〕～〔4〕中任一项所述的光学层叠体，其中，进一步包含配置于所述线性偏振片的与所述防反射体侧相反侧的相位差体。
16.〔6〕根据〔1〕～〔5〕中任一项所述的光学层叠体，其中，进一步包含配置于所述防反射体的与视认侧相反侧的触摸传感器面板。
17.〔7〕一种显示装置，包含〔1〕～〔6〕中任一项所述的光学层叠体。
18.根据本发明，可提供一种能够抑制视认到皱褶的光学层叠体和包含该光学层叠体的显示装置。
附图说明
19.图1是第1实施方式的光学层叠体的示意截面图。
20.图2是第2实施方式的光学层叠体的示意截面图。
21.图3是第3实施方式的光学层叠体的示意截面图。
22.图4是对弯曲性试验的方法进行说明的示意图。是对实施例1的光学层叠体的制造方法进行说明的示意截面图。
23.图5是表示利用三维测定机测定的数据的一个例子的图。
24.符号说明
25.101、102、103光学层叠体，110、111防反射膜，120前面板，130线性偏振片，140相位差体，150触摸传感器面板，201、202、203防反射体，500样品，501、502玻璃板，503、504粘合剂层。
具体实施方式
26.以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明，但本发明并不限于以下的实施方式。在以下的全部附图中，为了容易理解各构成要素，适当地调整比例尺而示出，附图所示的各构成要素的比例尺与实际的构成要素的比例尺未必一致。
27.本发明的光学层叠体包含线性偏振片和配置于所述线性偏振片的视认侧的防反射体，使视认侧表面为内侧，能够沿着弯曲轴弯曲，从视认侧表面入射的光的反射率为2.0％以下。
28.在本说明书中，下述的术语的意味或定义如下。
[0029]“光学层叠体”是指应用于显示装置等光学装置的层叠体，并且是由2个以上的层构成的层叠体。构成光学层叠体的2个以上的层各自独立地可以为板、片、膜、包含涂敷层形成用的涂布液的工序而形成的涂覆层等。作为显示装置，可举出液晶显示装置、有机el显示装置等图像显示装置。
[0030]
本发明的光学层叠体使视认侧表面朝向外侧而配置于显示装置所具有的显示元件(液晶单元、有机el显示元件、无机el显示元件、等离子体显示元件、电场放射型显示元件等)的视认侧。
[0031]“能够沿着弯曲轴弯曲”是指将光学层叠体的面内的一个方向作为弯曲轴，使光学层叠体的视认侧表面为内侧，沿着弯曲轴以内表面的弯曲半径成为1.5mm的方式弯曲时，能够在不产生裂纹的情况下弯曲。
[0032]
光学层叠体在将光学层叠体的视认侧表面作为内侧并沿着弯曲轴以内表面的弯曲半径成为1.5mm的方式反复进行弯曲时，优选该弯曲次数即使为1万次也不产生裂纹。
[0033]
光学层叠体在将光学层叠体的视认侧表面作为内侧并沿着弯曲轴以内表面的弯曲半径成为1.5mm的方式弯曲的状态下，在温度60℃、湿度90％rh的环境下放置的情况下，优选即使在放置6小时的情况下也不产生裂纹。
[0034]
光学层叠体即使在未因弯曲而产生裂纹的情况下，也存在因弯曲而产生沿着弯曲轴的皱褶的情况。该皱褶可以存在于光学层叠体的表层，也可以存在于其内部的层。如果视认到该皱褶，则显示装置的屏幕的视认性会降低。本发明人得出如下见解：在光学层叠体中，根据弯曲次数或弯曲时间等弯曲条件，皱褶的深度产生不同，皱褶的深度越深，皱褶越
容易被视认。得出如下见解：在使用依照后述的实施例中记载的方法形成且所测定的皱褶的深度例如为300μm以上的光学层叠体的情况下，显示装置的屏幕的视认性容易因弯曲而降低。本发明人等反复进行深入研究，以至发明了即使在产生皱褶的情况下，进而即使在使用皱褶的深度为300μm以上的光学层叠体的情况下，也能够抑制视认到皱褶的光学层叠体。皱褶的深度例如优选为1000μm以下，更优选为700μm以下。应予说明，关于皱褶的形成条件(温度、湿度、弯曲半径等)和皱褶的深度的测定方法，依照后述的实施例中记载的方法。
[0035]
＜光学层叠体＞
[0036]
〔1〕光学层叠体的形状和层构成的概要
[0037]
本发明的光学层叠体(以下，也简称为“光学层叠体”)是包含线性偏振片和配置于线性偏振片的视认侧的防反射体。
[0038]
在光学层叠体中，线性偏振片包含起偏器层，也可以包含设置于起偏器层的单面或两面的保护层。
[0039]
防反射体只要是包含具有使从光学层叠体的视认侧表面入射的光的反射率降低的作用的反射膜的部件就没有限定。防反射体可以包含两个以上的防反射膜，也可以包含前面板。
[0040]
光学层叠体可以进一步包含配置于线性偏振片的视认侧的前面板。前面板由1层以上构成，可以包含用于贴合层彼此的贴合层、树脂膜层。
[0041]
光学层叠体可以进一步包含相位差体。相位差体例如配置于线性偏振片的与视认侧相反侧(显示元件侧)。相位差体只要具有对透射光赋予相位差的功能就没有限定，包含1层以上的相位差层。相位差体可以包含相位差层以及介由贴合层或不介由贴合层层叠的树脂膜层。
[0042]
光学层叠体可以进一步包含触摸传感器面板。触摸传感器面板可以配置于线性偏振片的视认侧，也可以配置于显示元件侧。
[0043]
光学层叠体除上述的构成要素以外，还可以包含其它构成要素。作为其它构成要素，可举出树脂膜层、贴合层等。
[0044]
光学层叠体的从视认侧表面入射的光的反射率为2.0％以下，优选为1.5％以下，更优选为1.0％以下，进一步优选为0.8％以下。另外，光学层叠体的从视认侧表面入射的光的反射率例如为0.05％以上。在光学层叠体中，从视认侧表面入射的光的反射率可以根据防反射体的构成、配置位置、个数等进行调整。在光学层叠体中，从视认侧表面入射的光的反射率为依照后述的实施例中记载的方法测定的值，测定反射率的光的波长为550nm。在光学层叠体中，通过从视认侧表面入射的光的反射率为1.0％以下，能够抑制视认到沿着弯曲轴产生的皱褶。
[0045]
〔2〕光学层叠体的层构成的例
[0046]
图1表示本发明的第1实施方式的光学层叠体的示意截面图。图1所示的光学层叠体101依次具备防反射体201、线性偏振片130、相位差体140和触摸传感器面板150。防反射体201为防反射膜110与前面板120的层叠体。光学层叠体101可以进一步具有用于贴合两个层的贴合层。在光学层叠体101中，视认侧表面由防反射体201的视认侧表面构成。防反射体201可以为在其视认侧表面包含防污层的构成。防反射体的防污层例如可以依照日本特开平8－186401号公报中记载的方法而形成。在光学层叠体101中，触摸传感器面板150可以层
叠于线性偏振片130与防反射体201之间。
[0047]
图2表示本发明的第2实施方式的光学层叠体的示意截面图。图2所示的光学层叠体102具备与图1所示的第1实施方式的光学层叠体101所具备的防反射体201不同的构成的防反射体202。防反射体202除设置于前面板120的视认侧表面的防反射膜110以外，在前面板120的显示元件侧表面还设置有防反射膜111这一点看与防反射体201不同。
[0048]
图3表示本发明的第3实施方式的光学层叠体的示意截面图。图3所示的光学层叠体103具备与图1所示的第1实施方式的光学层叠体101所具备的防反射体201不同的构成的防反射体203。防反射体203在仅由防反射膜110构成，不具有前面板120这一点与防反射体201不同。
[0049]
光学层叠体101、102、103的厚度根据光学层叠体所要求的功能和光学层叠体的用途等而不同，因此，没有特别限定，例如为50μm～4000μm，优选为100μm～2000μm，更优选为150μm～1000μm。
[0050]
光学层叠体101、102、103的俯视形状例如可以为方形形状，优选为具有长边和短边的方形形状，更优选为长方形。在光学层叠体100的面方向的形状为长方形的情况下，长边的长度例如可以为10mm～1400mm，优选为50mm～600mm。短边的长度例如为5mm～800mm，优选为30mm～500mm，更优选为50mm～300mm。构成光学层叠体的各层可以对角部进行圆角加工(r加工)，或者可以对端部进行切口加工或开孔加工。
[0051]
光学层叠体101、102、103例如可以用于显示装置等。显示装置没有特别限定，例如可举出有机电致发光(有机el)显示装置、无机电致发光(无机el)显示装置、液晶显示装置、电致发光显示装置等。
[0052]
[防反射体]
[0053]
防反射体只要包含使显示装置中从视认侧表面入射的光的反射率降低的防反射膜，材料和厚度护眼没有限定，另外，可以为单层结构，也可以为多层结构。构成防反射体的各层(包含防反射膜)各自独立地可以为板、片、膜、包含涂敷层形成用的涂布液的工序而形成的涂覆层等。防反射体可以包含将两个层贴合的贴合层。防反射体的厚度例如为10μm～2000μm。
[0054]
[防反射膜]
[0055]
防反射膜只要使显示装置中从视认侧表面入射的光的反射率降低，材料和厚度就没有限定，另外，可以为单层结构，也可以为多层结构。防反射膜可以直接形成在前面板或线性偏振片的表面上，或者可以介由贴合层贴合在前面板或线性偏振片的表面上。另外，防反射膜可以兼具作为前面板的作用。作为防反射膜，可以使用公知的防反射膜或市售的防反射膜，例如可例示以下防反射膜。
[0056]
(a)由凹凸的周期控制在可见光的波长以下的凹凸图案构成的使用所谓蛾眼结构的原理的防反射膜(日本特开2010－122599号公报、日本特表2001－517319号公报、日本特开2004－205990号公报、日本特开2004－287238号公报、日本特开2001－27505号公报、日本特开2002－286906号公报、国际公开第2006/059686号等中记载的防反射膜)。作为市售品，例如可以使用mosmite(注册商标，三菱化学株式会社制)。
[0057]
(b)由发挥光学功能的微细凹凸图案构成的防反射膜(日本特开2004－59822号公报、日本特公平5－46064号公报、日本特公平6－85103号公报等中记载的防反射膜)。
[0058]
(c)由光的波长以下的间距的无数微细凹凸所构成的凹凸图案构成的防反射膜(日本特开2001－264520号公报、日本特开平9－80205号公报等中记载的防反射膜)。
[0059]
(d)以单层或多层具有折射率经调整的层的防反射膜(日本特开2000－187102号公报、日本特开平6－186401号公报、日本特开2004－345333号公报等中记载的防反射膜)。作为市售品，例如可以使用mtar、mtagar(美馆公司制)。
[0060]
防反射膜的厚度例如为10μm～100μm。
[0061]
[前面板]
[0062]
前面板只要是能够透射光的板状体，材料和厚度就没有限定，另外，可以为单层结构，也可以为多层结构，可例示玻璃制的板状体(例如玻璃板、玻璃膜等)、树脂制的板状体(例如树脂板、树脂片、树脂膜等)。前面板可以为构成图像显示装置的视认侧的最表面的层。在前面板具有树脂制的板状体的情况下，如果进行弯曲，则容易产生皱褶，因此，容易得到本发明的效果。在前面板为玻璃制的板状体的情况下，即使因弯曲而产生皱褶，也存在皱褶的宽度(相当于图5的山与山之间的距离)变大的趋势，因此，能够进一步抑制视认到皱褶。
[0063]
作为玻璃板，优选使用显示器用强化玻璃。玻璃板的厚度例如为5μm～1000μm，可以为500μm以下。通过使用玻璃板，能够构成具有优异的机械强度和表面硬度的光学部件。
[0064]
从防反射体的弯曲性和透光性的观点考虑，玻璃板优选为90μm以下，更优选为80μm以下，进一步优选为70μm以下，特别优选为60μm以下，更特别优选为50μm以下。从层叠体的耐冲击性的观点考虑，玻璃板的厚度优选为10μm以上。
[0065]
玻璃板优选使用强度和透光性优异的化学强化玻璃。通过使用化学强化玻璃，能够在保持挠性(柔性)的同时提高防反射体的耐冲击性。化学强化玻璃可以通过玻璃的化学离子交换处理而得到。通过化学离子交换处理，将玻璃表面的钠离子、锂离子部分地置换为离子半径更大的钾离子，从而能够提高玻璃表面的强度。通过形成薄的压缩应力层，表面强度提高。作为化学强化玻璃中使用的玻璃，例如可举出铝硅酸盐玻璃、钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃、铅玻璃、碱钡玻璃和铝硼硅酸盐玻璃等。
[0066]
化学离子交换处理可以通过将上述玻璃浸渍于加热到熔点以上的离子置换溶液或将膏状的离子置换溶液直接涂布于玻璃来进行。作为离子置换溶液，可举出基于硝酸钾、碳酸钾、碳酸氢钾、磷酸钾、硫酸钾和氢氧化钾的离子置换溶液。其中，硝酸钾(330℃)与玻璃的熔点(通常500℃～600℃)相比熔点低，操作容易，因而优选。
[0067]
可以在化学离子交换处理之前进行蚀刻处理，进行玻璃的薄膜化。蚀刻处理也可以使用氢氟酸或者将其与氟化铵水溶液和有机酸、例如甲酸、乙酸、丙酸等混合而得的溶液作为化学处理溶液来进行。可以使用它们并通过喷射、浸渍等进行蚀刻。蚀刻处理可以使用含有氟的非活性气体、例含有至少1种cf4、c3f8、c2f6、xef2等的he气体或ar气体作为蚀刻气体来进行。具体而言，可以将利用he气体或ar气体稀释了的含有氟的非活性气体在大气压下进行等离子体化，使氟从碳氟化合物游离，从而进行蚀刻。
[0068]
作为树脂膜，只要是能够透射光的树脂膜就没有限定。例如可举出由三乙酰纤维素、乙酰纤维素丁酸酯、乙烯－乙酸乙烯酯共聚物、丙酰纤维素、丁酰纤维素、乙酰丙酰纤维素、聚酯、聚苯乙烯、聚酰胺、聚醚酰亚胺、聚(甲基)丙烯酸、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩乙醛、聚醚酮、聚
醚醚酮、聚醚砜、聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚酰胺酰亚胺等高分子形成的膜。这些高分子可以单独或者混合使用2种以上。在将层叠体用于柔性显示器的情况下，优选使用以能够构成为具有优异的挠性、减晓皱褶的深度、具有高强度和高透明性的由聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺等高分子形成的树脂膜。应予说明，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸”是指可以为丙烯酸或甲基丙烯中的任一者。(甲基)丙烯酸酯等“(甲基)”也是同样的含义。
[0069]
在前面板为树脂膜的情况下，树脂膜可以为在基材膜的至少一个面设置硬涂层而进一步提高了硬度的膜。硬涂层可以形成于基材膜的一个面，也可以形成于两个面。在后述的图像显示装置为触摸面板方式的图像显示装置的情况下，前面板的表面成为触摸面，也因此，优选使用具有硬涂层的树脂膜。通过设置硬涂层，能够制成使硬度和耐刮擦性提高的树脂膜。硬涂层例如是紫外线固化型树脂的固化层。作为紫外线固化型树脂，例如可举出(甲基)丙烯酸系树脂、有机硅系树脂、聚酯系树脂、氨基甲酸酯系树脂、酰胺系树脂、环氧类树脂等。硬涂层可以含有添加剂以提高硬度。添加剂没有限定，可举出无机系微粒、有机系微粒或它们的混合物。树脂膜的厚度例如为30μm～2000μm。
[0070]
前面板不能仅具有保护显示装置的前面的功能，还可以具有作为触摸传感器的功能、蓝光截止功能、视场角调整功能等。
[0071]
[线性偏振片]
[0072]
线性偏振片包含起偏器层，可以在起偏器层的单面或两面进一步具有保护层。线性偏振片具有在使无偏振光的光入射时，使具有与吸收轴正交的振动面的线性偏振光透过的性质。线性偏振片可以为包含聚乙烯醇(以下有时也简称为“pva”)系树脂膜作为起偏器层的线性偏振片，也可以为使二色性色素和聚合性化合物取向，并使聚合性液晶化合物重合而成的固化膜。涂覆含有二色性色素和聚合性化合物的组合物并使其固化而成的起偏器层与由包含拉伸工序的pva系树脂膜构成的起偏器层相比，弯曲方向没有限制，因而优选。
[0073]
线性偏振片可以仅包含起偏器层，也可以仅包含起偏器层和保护层，还可以除起偏器层和保护层以外还进一步包含基材、树脂膜和取向膜中的任1种以上。
[0074]
(起偏器层)
[0075]
作为起偏器层，例如可举出对聚乙烯醇(以下有时也简称为“pva”)系膜、部分缩醛化pva系膜、乙烯
·
乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等亲水性高分子膜实施利用碘、二色性染料等双色性物质的染色处理和拉伸处理而得的起偏器层。从光学特性优异的方面出发，优选使用利用碘对pva系树脂膜进行染色并进行单轴拉伸而得到的起偏器层。
[0076]
聚乙烯醇系树脂可以通过对聚乙酸乙烯系树脂进行皂化而制造。聚乙酸乙烯系树脂除作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，也可以为乙酸乙烯酯与能够和乙酸乙烯酯共聚的其它单体的共聚物。作为能够和乙酸乙烯酯共聚的其它单体，例如可举出不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类、具有铵基的丙烯酰胺类等。
[0077]
聚乙烯醇系树脂的皂化度通常为85～100摩尔％左右，优选为98摩尔％以上。聚乙烯醇系树脂可以被改性，还可以使用例如由醛类改性的聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛等。聚乙烯醇系树脂的平均聚合度通常为1000～10000左右，优选为1500～5000左右。聚乙烯醇系树脂的平均聚合度可以依据jis k 6726(1994)求出。平均聚合度小于1000时，难以得到优选的偏光性能，超过10000时，有时膜加工性差。
[0078]
作为其它包含pva系树脂膜的线性偏振片的制造方法，可举出包括工序的制造方法：首先准备基材膜，在基材膜上涂布聚乙烯醇系树脂等树脂的溶液，进行除去溶剂的干燥等，在基材膜上形成树脂层。应予说明，在基材膜的形成有树脂层的面可以预先形成底漆层。作为基材膜，可以使用pet等树脂膜、可用于后述的保护层的树脂膜。作为底漆层的材料，可举出将线性偏振片中使用的亲水性树脂交联而成的树脂等。
[0079]
接着，根据需要调整树脂层的水分等溶剂量，然后将基材膜和树脂层进行单轴拉伸，接下来，利用碘等二色性色素对树脂层进行染色，使二色性色素在树脂层吸附取向。接下来，根据需要利用硼酸水溶液对二色性色素已吸附取向的树脂层进行处理，进行洗掉硼酸水溶液的清洗工序。由此，制造吸附取向有二色性色素的树脂层，即线性偏振片的膜。各工序可以采用公知的方法。
[0080]
基材膜和树脂层的单轴拉伸可以在染色前进行，也可以在染色中进行，还可以在染色后的硼酸处理中进行，还可以在这些多个阶段中分别进行单轴拉伸。基材膜和树脂层可以在md方向(膜搬运方向)进行单轴拉伸，此时，可以在周速的不同辊间进行单轴拉伸，也可以使用热辊进行单轴拉伸。另外，基材膜和树脂层可以在td方向(与膜搬运方向垂直的方向)进行单轴拉伸，此时，可以使用所谓拉幅机法。另外，基材膜和树脂层的拉伸可以为在大气中进行拉伸的干式拉伸，也可以为在利用溶剂使树脂层溶胀的状态下进行拉伸的湿式拉伸。为了表现出线性偏振片的性能，拉伸倍率为4倍以上，优选为5倍以上，特别优选为5.5倍以上。拉伸倍率的上限没有特别，从抑制断裂等的观点考虑，优选8倍以下。
[0081]
包含上述pva系树脂膜的起偏器层的厚度例如为2μm～40μm。起偏器层的厚度可以为5μm以上，可以为20μm以下、15μm以下，进而10μm以下。
[0082]
作为使二色性色素和聚合性化合物取向，并使聚合性液晶化合物聚合而成的固化膜即线性偏振片的制造方法，可举出在基材膜上介由取向膜涂布包含聚合性液晶化合物和二色性色素的起偏器层形成用组合物而形成线性偏振片的方法，或者在形成有保护层的基材膜上涂布包含聚合性液晶化合物和二色性色素的起偏器层形成用组合物，将聚合性液晶化合物在保持液晶状态进行聚合并使其固化而形成线性偏振片的方法。以这样的方式得到的线性偏振片处于层叠在基材膜的保护层上的状态，可以作为带有基材膜的线性偏振片使用。作为基材膜，可以使用树脂膜、例如聚对苯二甲酸乙二醇酯膜等。
[0083]
作为二色性色素，可以使用具有分子的长轴方向的吸光度与短轴方向的吸光度不同的性质的色素，例如优选为在300～700nm的范围具有吸收极大波长(λmax)的色素。作为这样的二色性色素，例如可举出吖啶色素、嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素、蒽醌色素等，其中，优选为偶氮色素。作为偶氮色素，可举出单偶氮色素、双偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素、芪偶氮色素，更优选双偶氮色素、三偶氮色素。
[0084]
起偏器层形成用组合物可以包含溶剂、光聚合引发剂等聚合引发剂、光敏剂、阻聚剂等。关于起偏器层形成用组合物中所含的聚合性液晶化合物、二色性色素、溶剂、聚合引发剂、光敏剂、阻聚剂等，可以使用公知的聚合性液晶化合物、二色性色素、溶剂、聚合引发剂、光敏剂、阻聚剂，例如可以使用日本特开2017－102479号公报、日本特开2017－83843号公报中例示的聚合性液晶化合物、二色性色素、溶剂、聚合引发剂、光敏剂、阻聚剂。另外，聚合性液晶化合物可以使用作为用于得到作为后述的相位差层的固化物层的聚合性液晶化合物而例示的化合物。关于使用起偏器层形成用组合物形成线性偏振片的方法，也可以采
用上述公报中例示的方法。
[0085]
通过上述方法制作的线性偏振片可以将基材膜剥离而使用，或者与基材膜一起作为线性偏振片使用。根据上述方法，能够剥离基材膜，因此，能够进行线性偏振片的进一步的薄膜化。
[0086]
涂布包含二色性色素和聚合性化合物的组合物并使其固化而成的起偏器层的厚度通常为10μm以下，优选为0.5μm～8μm，更优选为1μm～5μm。
[0087]
(保护层)
[0088]
保护层具有保护起偏器层的表面的功能。保护层可以为有机物层或无机物层。有机物层可以使用保护层形成用组合物、例如(甲基)丙烯酸系树脂组合物、环氧系树脂组合物、聚酰亚胺系树脂组合物等形成。保护层形成用组合物可以为活性能量射线固化型，也可以为热固化型。无机物层例如可以由硅氧化物等形成。在保护层为有机物层的情况下，保护层可以被称为硬涂层或外涂层。
[0089]
在保护层为有机物层的情况下，例如可以通过将活性能量射线固化型的保护层形成用组合物涂布在基材膜上，照射活性能量使其固化而制作保护层。基材膜可应用上述的基材膜的说明。基材膜通常进行剥离而除去。作为涂布保护层形成用组合物的方法，例如可举出旋涂法等。在保护层为无机物层的情况下，例如可以通过溅射法、蒸镀法等而形成保护层。在保护层为有机物层或无机物层的情况下，保护层的厚度例如可以为0.1μm～10μm，优选为0.5μm～5μm。
[0090]
作为保护层，例如也可以使用透明性、机械强度、热稳定性、水分阻断性、各向同性、拉伸性等优异的树脂膜。作为这样的树脂的具体例，可举出三乙酰纤维素等纤维素树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯树脂；聚醚砜树脂；聚砜树脂；聚碳酸酯树脂；尼龙、芳香族聚酰胺等聚酰胺树脂；聚酰亚胺树脂；聚乙烯、聚丙烯、乙烯
·
丙烯共聚物等聚烯烃树脂；具有环系和降冰片烯结构的环状聚烯烃树脂(也称为降冰片烯系树脂)；(甲基)丙烯酸树脂；聚芳酯树脂；聚苯乙烯树脂；聚乙烯醇树脂以及它们的混合物。在线性偏振层的两面层叠有保护层的情况下，两个保护层可以为相同种类，也可以为不同种类。树脂膜的厚度例如可以为3μm～50μm，优选为5μm～30μm。
[0091]
[相位差体]
[0092]
光学层叠体可以通过具备线性偏振片和相位差体而具有作为圆偏振片的功能。此时，相位差体可以包含第1相位差层和第2相位差层。以下，有时也将具备线性偏振片和相位差体的构成称为圆偏振片。
[0093]
第1相位差层和第2相位差层可以利用贴合层进行贴合而层叠。第1相位差层和第2相位差层可以具有保护其表面的外涂层和支承第1相位差层和第2相位差层的基材膜等。作为第1相位差层和第2相位差层，例如可举出给予λ/4的相位差的相位差层(λ/4层)、给予λ/2的相位差的相位差层(λ/2层)和正c层等。相位差体优选包含λ/4层，进一步优选包含λ/4层与λ/2层或正c层中的至少任一者。
[0094]
相位差体从线性偏振片侧依次层叠有第1相位差层和第2相位差层。在相位差体包含λ/2层的情况下，第1相位差层为λ/2层，第2相位差层为λ/4层。在相位差体包含正c层的情况下，第1相位差层为正c层，且第2相位差层为λ/4层，或者第1相位差层为λ/4层和第2相位差层为正c层。相位差体的厚度例如为0.1μm～10μm，优选为0.5μm～8μm，更优选为1μm～6μ
m。
[0095]
第1相位差层和第2相位差层可以由上述的树脂膜形成，也可以由聚合性液晶化合物固化而成的层形成。第1相位差层和第2相位差层可以进一步包含取向膜和基材膜。
[0096]
在由将聚合性液晶化合物固化而成的层形成第1相位差层和第2相位差层的情况下，可以通过将包含聚合性液晶化合物的组合物涂布于基材膜并使其固化而形成。可以在基材膜与涂布层之间形成取向膜。基材膜的材料和厚度可以与上述树脂膜的材料和厚度相同。第1相位差层和第2相位差层由将聚合性液晶化合物固化而成的层形成时，可以以具有取向膜和基材膜的形态装入光学层叠体。
[0097]
以线性偏振片的吸收轴(起偏器层的吸收轴)与相位差体的迟相轴成为规定的角度的方式配置线性偏振片和相位差体的偏振片可作为具有防反射功能的、即圆偏振片发挥作用。在相位差体包含λ/4层的情况下，起偏器层的吸收轴与λ/4层的迟相轴所成的角度可以为45
°±
10
°
。第1相位差层和第2相位差层可以具有正波长分散性，也可以具有逆波长分散性。λ/4层优选具有逆波长分散性。线性偏振片与相位差体可以利用贴合层进行贴合。
[0098]
[贴合层]
[0099]
在光学层叠体中，为了将两个层贴合，可以包含介设于两个层间的贴合层。在光学层叠体中，贴合层为粘合剂层或粘接剂层。作为粘合剂层，是指由粘合剂构成的层或对该层实施某些处理而成的层。粘合剂也被称为压敏式粘接剂。
[0100]
粘接剂是指粘合剂(压敏式粘接剂)以外的粘合剂，与粘合剂明确区别。粘接剂层是指由粘接剂构成的层或对该层实施某些处理而成的层。在本说明书中，“贴合层”是“粘合剂层”与“粘接剂层”的通称，是指可以为“粘合剂层”，也可以为“粘接剂层”。
[0101]
(粘合剂层)
[0102]
粘合剂层可以由以(甲基)丙烯酸系、橡胶系、氨基甲酸酯系、酯系、有机硅系、聚乙烯基醚系这样的树脂作为主成分的粘合剂组合物构成。其中，优选以透明性、耐候性、耐热性等优异的(甲基)丙烯酸系树脂作为基础聚合物的粘合剂组合物。粘合剂组合物可以为活性能量射线固化型、热固化型。
[0103]
在本说明书中，“(甲基)丙烯酸”表示选自丙烯酸和甲基丙烯酸中的至少1种。其它标注“(甲基)”的术语也同样。
[0104]
作为粘合剂组合物中使用的(甲基)丙烯酸系树脂(基础聚合物)，例如优选使用以(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸2－乙基己酯这样的(甲基)丙烯酸酯中的1种或2种以上作为单体的聚合物或共聚物。优选使极性单体与基体聚合物共聚。作为极性单体，例如可举出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2－羟基丙酯、(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸n,n－二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯这样的具有羧基、羟基、酰胺基、氨基、环氧基等的单体。
[0105]
粘合剂组合物可以仅包含上述基础聚合物，通常进一步含有交联剂。作为交联剂，可例示2价以上的金属离子，且在与羧基之间形成羧酸金属盐的交联剂；聚胺化合物，且在与羧基之间形成酰胺键的交联剂；聚环氧化合物、多元醇，且在与羧基之间形成酯键的交联剂；聚异氰酸酯化合物，且在与羧基之间形成酰胺键的交联剂。其中，优选聚异氰酸酯化合物。
[0106]
活性能量射线固化型粘合剂组合物是具有受到紫外线、电子束这样的活性能量射
线的照射而固化的性质，并具有在活性能量射线照射前也具有粘合性，能够密合于膜等被粘物，通过活性能量射线的照射而固化，从而能够调整密合力的性质的粘合剂组合物。活性能量射线固化型粘合剂组合物优选为紫外线固化型。活性能量射线固化型粘合剂组合物除基础聚合物、交联剂以外，还进一步含有活性能量射线聚合性化合物。有时也进一步根据需要含有光聚合引发剂、光敏剂等。
[0107]
粘合剂组合物可以包含用于赋予光散射性的微粒、珠(树脂珠、玻璃珠等)、玻璃纤维、基础聚合物以外的树脂、粘合性赋予剂、填充剂(金属粉、其它无机粉末等)、抗氧化剂、紫外线吸收剂、染料、颜料、着色剂、消泡剂、防腐蚀剂、光聚合引发剂等添加剂。
[0108]
粘合剂层可以通过将上述粘合剂组合物的有机溶剂稀释液涂布在基材上并使其干燥而形成。在使用活性能量射线固化型粘合剂组合物的情况下，可以通过对所形成的粘合剂层照射活性能量射线而制成具有期望的固化度的固化物。
[0109]
粘合剂层的厚度优选为4μm以上，更优选为5μm以上，进一步优选为10μm以上。从提高弯曲性的观点考虑，粘合剂层的厚度优选为100μm以下，更优选为50μm以下。粘合剂层的厚度而言为最大厚度。
[0110]
(粘接剂层)
[0111]
作为粘接剂，例如可以组合水系粘接剂、活性能量射线固化型粘接剂等中的1种或2种以上而形成。作为水系粘接剂，例如可举出聚乙烯醇系树脂水溶液、水系二液型氨基甲酸酯系乳液粘接剂等。活性能量射线固化型粘接剂是通过照射紫外线等活性能量射线而固化的粘接剂，例如可举出包含聚合性化合物和光聚合性引发剂的粘接剂、包含光反应性树脂的粘接剂、包含粘结剂树脂和光反应性交联剂的粘接剂等。作为上述聚合性化合物，可举出光固化性环氧系单体、光固化性丙烯酸系单体、光固化性氨基甲酸酯系单体等光聚合性单体以及来自这些单体的低聚物等。作为上述光聚合引发剂，可举出包含照射紫外线等活性能量射线而产生中性自由基、阴离子自由基、阳离子自由基之类的活性种的物质的化合物。
[0112]
粘接剂层的厚度优选为0.01μm以上，更优选为0.05μm以上，进一步优选为0.1μm以上。从提高弯曲性的观点考虑，粘接剂层的厚度优选为10μm以下，更优选为5μm以下。粘接剂层的厚度为最大厚度。
[0113]
[触摸传感器面板]
[0114]
作为触摸传感器面板，如果是能够检测所触摸的位置的传感器，则检测方式没有限定，可例示电阻膜方式、静电电容耦合方式、光传感器方式、超声波方式、电磁感应耦合方式、声表面波方式等触摸传感器面板。从低成本的方面出发，优选使用电阻膜方式、静电电容耦合方式的触摸传感器面板。
[0115]
电阻膜方式的触摸传感器面板的一个例子由相互对置配置的一对基板、夹持在这一对基板之间的绝缘性隔离物、作为电阻膜设置于各基板的内侧的前面的透明导电膜和触摸位置检测电路构成。在设置有电阻膜方式的触摸传感器面板的图像显示装置中，如果前面板的表面被触摸，则对置的电阻膜短路，电阻膜中流过电流。触摸位置检测电路检测此时的电压的变化，检测被触摸的位置。
[0116]
静电电容耦合方式的触摸传感器面板的一个例子由基板、设置于基板的整个面的位置检测用透明电极和触摸位置检测电路构成。在设置有静电电容耦合方式的触摸传感器
面板的图像显示装置中，如果前面板的表面被触摸，则透明电极介由人体的静电电容在被触摸的点接地。触摸位置检测电路检测透明电极的接地，检测被触摸的位置。
[0117]
触摸传感器面板的厚度例如可以为5μm～2000μm，也可以为5μm～100μm。
[0118]
[光学层叠体的制造方法]
[0119]
光学层叠体可以通过介由粘合剂层、粘接剂层将层彼此贴合的工序、或者包含在一个层上直接形成其它层的构成等的方法来制造。在介由粘合剂层、粘接剂层将层彼此贴合的情况下，为了提高密合性，优选对贴合面的一侧或两侧实施例如电晕处理等表面活化处理。贴合可以使用公知的层压机、辊、电池接合机(
セル
接合機)等装置进行。
[0120]
[显示装置]
[0121]
本发明的显示装置包含上述本发明的光学层叠体。显示装置没有特别限定，例如可举出有机el显示装置、无机el显示装置、液晶显示装置、电致发光显示装置等图像显示装置。光学层叠体适于具有能够弯曲或折弯等的挠性的显示装置。
[0122]
在显示装置中，光学层叠体以防反射体位于比线性偏振片靠外侧(与显示元件侧相反侧，即视认侧)的朝向配置于显示装置所具有的显示元件的视认侧。
[0123]
本发明的显示装置可以作为智能手机、平板电脑等移动手机、电视、数码相框、电子招牌、测定仪器、仪表类、办公设备、医疗设备、计算机设备等使用。
[0124]
实施例
[0125]
以下，利用实施例对本发明进一步详细地进行说明。例中的“％”和“份”只要没有特别说明，则为质量％和质量份。
[0126]
[实施例1]
[0127]
(层叠体“前面板/圆偏振片/有机el面板的代替品”的制作)
[0128]
作为基材，准备三乙酰纤维素(tac)膜(厚度25μm)，在其上涂布取向膜形成用组合物。使涂膜干燥后，照射偏振光uv，形成取向膜。在取向膜上涂布包含聚合性液晶化合物和二色性色素的组合物。使聚合性液晶化合物取向、固化，形成起偏器层(厚度2μm)。在起偏器层上涂布外涂层形成用组合物。对涂膜照射紫外线，形成外涂层(厚度2μm)。
[0129]
准备将λ/4层(厚度2μm)和正c层(厚度3μm)利用粘接剂层(厚度2μm)贴合而成的相位差体。λ/4板和正c层分别由聚合性液晶化合物固化而成的层构成。粘接剂层是由紫外线固化型粘接剂形成的层。
[0130]
利用丙烯酸系粘接剂层(厚度5μm)将外涂层和λ/4层层叠。相位差体以起偏器层的吸收轴与λ/4层的迟相轴所成的角度成为45
°
的方式层叠。如此制作由基材、起偏器层、外涂层、丙烯酸系粘合剂层和相位差体构成的圆偏振片。
[0131]
准备在聚酰亚胺系树脂膜(厚度50μm)的一个面形成有硬涂层(10μm)的前面板。利用丙烯酸系粘合剂层(厚度25μm)圆偏振片的基材侧和前面板的聚酰亚胺系树脂膜侧层叠。
[0132]
利用丙烯酸系粘合剂层(厚度25μm)将2片聚酰亚胺系树脂膜(厚度38μm，厚度50μm)层叠，制作有机el面板的代替品。利用丙烯酸系粘合剂层(厚度25μm)将正c层和有机el面板的代替品层叠。如此制作由“前面板/粘合剂层/圆偏振片/粘合剂层/有机el面板的代替品”的层构成构成的层叠体。
[0133]
(防反射膜的制作)
[0134]
在三乙酰纤维素膜(tac膜)(厚度60μm)上涂布硬涂层形成用组合物(dn－0080，
dsm公司制)。在70℃将涂膜干燥1分钟。使用高压汞灯对涂膜照射700mj/cm2的紫外线使其固化。如此在tac膜上形成厚度5μm的硬涂层。以聚丙烯酸成为43质量％的方式混合硬涂层形成用组合物(dn－0080，dsm公司制)混合，制备多孔层形成用组合物。以成为110nm的厚度的方式将该多孔层形成用组合物涂覆在硬涂层上。将涂膜在70℃干燥1分钟。使用高压汞灯对涂膜照射700mj/cm2的紫外线使其固化。在50℃的水中浸渍10分钟，除去聚丙烯酸后，在80℃干燥5分钟。如此制作具有“多孔层/硬涂层/tac膜”的层构成的防反射膜。
[0135]
(防反射膜的贴合)
[0136]
介由丙烯酸系粘合剂层(厚度25μm)在由如上制作的层叠体“前面板/粘合剂层/圆偏振片/粘合剂层/有机el面板的代替品”的层构成构成的层叠体的前面板侧贴合如上制作的防反射膜，得到由“防反射膜/粘合剂层/前面板/粘合剂层/圆偏振片/粘合剂层/有机el面板的代替品”的层构成构成的实施例1的光学层叠体。在实施例1的光学层叠体中，“防反射膜/粘合剂层/前面板”的层构成部分相当于防反射体。
[0137]
[实施例2]
[0138]
(防反射膜的制作)
[0139]
在实施例1的防反射膜的制作中，使多孔层形成用组合物的聚丙烯酸的含量为39质量％，除此之外，与实施例1同样地制作实施例2的防反射膜。
[0140]
(防反射膜的贴合)
[0141]
介由丙烯酸系粘合剂层(厚度25μm)在与实施例1同样地制作的层叠体“前面板/粘合剂层/圆偏振片/粘合剂层/有机el面板的代替品”的前面板侧贴合如上制作的防反射膜，得到由“防反射膜/粘合剂层/前面板/粘合剂层/圆偏振片/粘合剂层/有机el面板的代替品”的层构成构成的实施例2的光学层叠体。在实施例2的光学层叠体中，“防反射膜/粘合剂层/前面板”的层构成部分相当于防反射体。
[0142]
[实施例3]
[0143]
(防反射膜的制作)
[0144]
在实施例1的防反射膜的制作中，使多孔层形成用组合物的聚丙烯酸的含量为35质量％，除此以外，与实施例1同样地制作实施例3的防反射膜。
[0145]
(防反射膜的贴合)
[0146]
介由丙烯酸系粘合剂层(厚度25μm)在与实施例1同样地制作的层叠体“前面板/粘合剂层/圆偏振片/粘合剂层/有机el面板的代替品”的前面板侧贴合如上制作的防反射膜，得到由“防反射膜/粘合剂层/前面板/粘合剂层/圆偏振片/粘合剂层/有机el面板的代替品”的层构成构成的实施例3的光学层叠体。在实施例3的光学层叠体中，“防反射膜/粘合剂层/前面板”的层构成部分相当于防反射体。
[0147]
[实施例4]
[0148]
(防反射膜的制作)
[0149]
在实施例1的防反射膜的制作中，使多孔层形成用组合物的聚丙烯酸的含量为30质量％，除此以外，与实施例1同样地制作实施例4的防反射膜。
[0150]
(防反射膜的贴合)
[0151]
介由丙烯酸系粘合剂层(厚度25μm)在与实施例1同样地制作的层叠体“前面板/粘合剂层/圆偏振片/粘合剂层/有机el面板的代替品”的前面板侧贴合如上制作的防反射膜，
得到由“防反射膜/粘合剂层/前面板/粘合剂层/圆偏振片/粘合剂层/有机el面板的代替品”的层构成构成的实施例4的光学层叠体。在实施例4的光学层叠体中，“防反射膜/粘合剂层/前面板”的层构成部分相当于防反射体。
[0152]
[实施例5]
[0153]
使用如下制作的厚度50μm的玻璃板(表1中表述为“薄板玻璃”)代替实施例1的聚酰亚胺系树脂膜(表1中表述为“pi膜”)的前面板，除此之外，与实施例1同样地得到由“防反射膜/粘合剂层/前面板/粘合剂层/圆偏振片/粘合剂层/有机el面板的代替品”的层构成构成的实施例5的光学层叠体。在实施例5的光学层叠体中，“防反射膜/粘合剂层/前面板”的层构成部分相当于防反射体。
[0154]
(薄板玻璃的制作)
[0155]
准备玻璃板(corning公司制，厚度400μm)，通过蚀刻使厚度为50μm。然后，进行玻璃板的化学强化处理，通过基于超声波研磨和使用端铣刀的切削研磨进行玻璃的倒角。如此制作厚度50μm的玻璃板。
[0156]
[实施例6]
[0157]
代替实施例3的前面板，使用与实施例5中使用的玻璃板相同厚度50μm的玻璃板，除此之外，与实施例3同样地得到由“防反射膜/粘合剂层/前面板/粘合剂层/圆偏振片/粘合剂层/有机el面板的代替品”的层构成构成的实施例6的光学层叠体。在实施例6的光学层叠体中，“防反射膜/粘合剂层/前面板”的层构成部分相当于防反射体。
[0158]
[比较例1]
[0159]
在与实施例1同样地制作的层叠体“前面板/粘合剂层/圆偏振片/粘合剂层/有机el面板的代替品”不贴合防反射膜，作为比较例1的光学层叠体。
[0160]
[比较例2]
[0161]
介由丙烯酸系粘合剂层(厚度25μm)在与实施例1同样地制作的层叠体“前面板/粘合剂层/圆偏振片/粘合剂层/有机el面板的代替品”的前面板侧贴合tac膜(厚度60μm)代替防反射膜，得到由“tac膜/粘合剂层/前面板/粘合剂层/圆偏振片/粘合剂层/有机el面板的代替品”的层构成构成的比较例2的光学层叠体。
[0162]
[试验]
[0163]
(从视认侧表面入射的光的反射率的测定)
[0164]
使用紫外可见光谱光度计(uv－2450，株式会社岛津制作所制)对实施例1～6和比较例1、2的光学层叠体测定从视认侧表面(与有机el面板的代替品侧相反侧的表面)入射的光的反射率。测定的波长为550nm。表1示出反射率的测定结果。
[0165]
(弯曲性试验)
[0166]
准备将实施例1～6和比较例1、2的光学层叠体切成宽度20mm
×
长度110mm的尺寸的样品。图4是示意性地表示本弯曲性试验的方法的图。如图4(a)所示，在样品500的显示侧表面，从样品500的中心线a向两侧各隔开40mm贴合粘合剂层503、504(厚度25μm)，以成为与按照样品500的中心线a在侧面接触的方式配置的两个玻璃板501、502的边界线一致的位置的方式介由粘合剂层503、504贴合(图4(a))。然后，以样品500的视认侧表面成为内侧的方式将样品500在与中央线a一致的弯曲轴折弯(图4(b))，使对置的面彼此的距离设为3.0mm(使用3.0mm厚的板，1.5r(图4中未图示))，由此制成“玻璃/粘合剂层/样品(夹持3.0mm厚的
板的
‘
u’字模样)/粘合剂层/玻璃”的状态。在该状态下，在温度60℃、湿度90％rh的烘箱内放置6小时后，使两个玻璃板501、502返回到原来的位置(图4(a))，得到供于弯曲性试验的样品500。然后，利用三维测定机(premium
‑
600c，ammon tech公司制)测定供于弯曲性试验的样品500的包含弯曲轴的区域的形状，算出皱褶的深度。
[0167]
图5是利用三维测定机测定的数据的一个例子。在该数据中，弯曲轴为a的位置。皱褶的深度为弯曲轴的高度位置与最大高度位置之差。表1示出所算出的皱褶的深度的值。
[0168]
进而，对于供于弯曲性试验的样品500，使视认侧表面朝上置于暗室内，点亮处于室内天花板的由2根直线状荧光管构成的荧光灯。目视观察映入视认侧表面而成的荧光管的图像，依照下述的评价基准评价该图像的歪曲的抑制程度。表1示出评价结果。
[0169]
aa：荧光管完全为直线状，没有视认到皱褶。
[0170]
a：荧光管大致是直线状，没有视认到皱褶。
[0171]
b：荧光管稍微歪曲，略微视认到皱褶。
[0172]
c：荧光管显著歪曲，视认到皱褶。
[0173]
[表1]
[0174] 实施例1实施例2实施例3实施例4实施例5实施例6比较例1比较例2前面板pi膜pi膜pi膜pi膜薄板玻璃薄板玻璃pi膜pi膜反射率(％)0.10.40.71.00.10.73.54.0褶皱的深度(μm)540560550540520530570550视认性aaabaaaacc