一种高集成度复用器的结构的制作方法

技术特征：
1.一种高集成度复用器的结构，其特征在于：包括至少一层波分复用器单元；每层波分复用器单元包括壳体、尾套以及波分复用器组件；壳体内设置一根横梁，该横梁将壳体内划分为两个腔室；壳体与横梁平行的两个侧壁上分别设置有n个尾套；每个所述腔室内，且在靠近横梁的位置并排设置有n个第一凹槽；位于同一腔室的n个第一凹槽和n个尾套一一对应；每个第一凹槽内均装有波分复用器组件，组件的光纤通过与该第一凹槽对应的尾套引出壳体外部。2.根据权利要求1所述的高集成度复用器的结构，其特征在于：所述波分复用器单元为两层，且通过螺钉连接。3.根据权利要求1所述的高集成度复用器的结构，其特征在于：所述波分复用器单元至少为一层，最上层波分复用器组件的壳体通过一个盖板密封。4.根据权利要求1
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3任一项权利要求所述的高集成度复用器的结构，其特征在于：所述侧壁上设有用于安装尾套的第二凹槽；所述尾套包括依次连接输入段、嵌入段以及锥状输出段；所述输入段的横截面积大于嵌入段的横截面积，嵌入段横截面积小于锥状输出段的大径端横截面积；所述嵌入段与所述第二凹槽相配合。5.一种高集成度复用器的结构，其特征在于：包括至少一层波分复用器单元；每层波分复用器单元包括壳体、尾套以及波分复用器组件；壳体内设置一根横梁，该横梁将壳体内划分为第一腔室和第二腔室；所述第一腔室与横梁平行设置的侧壁上并排开设有n个第三凹槽；所述横梁上开设有与n个第三凹槽一一对应的n个第四凹槽；第二腔室在靠近横梁的位置处并排设有n个第五凹槽和n个第一凹槽，且n个第五凹槽和n个第一凹槽间隔排布，n个第五凹槽与n个第四凹槽一一对应；所述第二腔室与横梁平行设置的侧壁上设有n个尾套；n个第三凹槽和n个第一凹槽内均装有波分复用器组件；位于第三凹槽内波分复用器组件的光纤依次通过第四凹槽、第一凹槽、尾套后引出壳体外部；位于第一凹槽内波分复用器组件的光纤直接通过尾套引出壳体外部。6.根据权利要求5所述的高集成度复用器的结构，其特征在于：所述波分复用器单元为两层，且通过螺钉连接。7.根据权利要求5所述的高集成度复用器的结构，其特征在于：所述波分复用器单元至少为两层，最上层波分复用器组件的壳体通过一个盖板密封。8.根据权利要求5
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7任一项权利要求所述的高集成度复用器的结构，其特征在于：所述第二腔室与横梁平行设置的侧壁上设有用于安装尾套的第二凹槽；所述尾套包括依次连接输入段、嵌入段以及锥状输出段；所述输入段的横截面积大于嵌入段的横截面积，嵌入段横截面积小于锥状输出段的大径端横截面积；所述嵌入段与所述第二凹槽相配合。9.一种高集成度复用器的结构，其特征在于：包括至少一层波分复用器单元；每层波分复用器单元包括壳体、尾套以及波分复用器组件；壳体的一个侧壁上并排设置有n个尾套；
壳体内且靠近另一个侧壁的位置并排设置有n个第一凹槽，且n个第一凹槽和n个尾套一一对应；每个第一凹槽内均装有波分复用器组件，组件的光纤通过与该第一凹槽对应的尾套引出壳体外部。10.根据权利要求9所述的高集成度复用器的结构，其特征在于：所述波分复用器单元为两层，且通过螺钉连接。11.根据权利要求9所述的高集成度复用器的结构，其特征在于：所述波分复用器单元至少为一层，最上层波分复用器组件的壳体通过一个盖板密封。12.根据权利要求9
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11任一项权利要求所述的高集成度复用器的结构，其特征在于：所述侧壁上设有用于安装尾套的第二凹槽；所述尾套包括依次连接输入段、嵌入段以及锥状输出段；所述输入段的横截面积大于嵌入段的横截面积，嵌入段横截面积小于锥状输出段的大径端横截面积；所述嵌入段与所述第二凹槽相配合。

技术总结
本实用新型公开了一种高集成度复用器的结构，其包括至少一层波分复用器单元；每层波分复用器单元包括壳体、尾套以及波分复用器组件；壳体内设置一根横梁，该横梁将壳体内划分为两个腔室；壳体与横梁平行的两个侧壁上分别设置有N个尾套；每个所述腔室内，且在靠近横梁的位置并排设置有N个第一凹槽；位于同一腔室的N个第一凹槽和N个尾套一一对应；每个第一凹槽内均装有波分复用器组件，组件的光纤通过与该第一凹槽对应的尾套引出壳体外部。采用本实用新型的复用器机构不仅能有效助力OBO方案突破设备端口密度的瓶颈，大幅度提高了设备的集成度，同时大幅度降低系统功耗，有效解决当前设备严重的散热问题，降低运维成本。降低运维成本。降低运维成本。


技术研发人员：徐之光 林跃方
受保护的技术使用者：珠海奇芯光电科技有限公司
技术研发日：2021.01.22
技术公布日：2021/10/8