一种等离子工艺下料管调整装置的制作方法

1.本公开涉及石英玻璃制备领域，具体为一种等离子工艺下料管调整装置。


背景技术：

2.高频等离子沉积制备石英玻璃的工艺以等离子体为热源、石英粉经过下料管进入等离子火焰，在空中被等离子火焰加热融化，在等离子燃烧器内工作气体的带动下沉积在基础管上。随着沉积厚度增加，基础管的直径也逐渐变粗，需要适时调整下料管的位置和角度以便使沉积速率和效果保持最优，下料管的位置和角度偏差可影响产品品质及沉积效率，即使1mm范围则会较大影响产品质量。我们提出一种等离子工艺下料管调整装置，用于解决调整下料管位置和角度依靠工人肉眼观察、确定，精度控制存在一定误差的问题。


技术实现要素：

3.鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种提高下料管角度精度，减少下料管调整时间的等离子工艺下料管调整装置。
4.第一方面，本申请提供一种等离子工艺下料管调整装置，包括：
5.下料管，其具有下料口；
6.接料管，其具有接料口，所述接料口与所述下料口对应设置；
7.等离子头，沿第一方向设于所述下料口一侧，所述第一方向与所述下料管轴线垂直；
8.下料管调整装置，套设于所述等离子头上；
9.调整所述下料管调整装置使得所述下料管移动到设定位置。
10.根据本申请实施例提供的技术方案，所述下料管调整装置包括：
11.转接套，套设于所述等离子头上；
12.调整组件，设于所述转接套上；
13.调整所述转接套使得所述调整组件处于水平状态。
14.根据本申请实施例提供的技术方案，所述转接套与所述等离子头旋转连接。
15.根据本申请实施例提供的技术方案，所述调整组件包括：
16.水平标记件，设于所述转接套上；
17.位置限定件，设于所述转接套上，且其与所述水平标记件平行；
18.指示件，其沿第二方向设于所述位置限定件上；
19.旋转所述转接套使得所述水平标记件处于水平状态，调整所述下料管使其轴线与所述指示件平行，且位于所述位置限定件的设定位置。
20.根据本申请实施例提供的技术方案，所述第二方向垂直于所述位置限定件长度方向。
21.根据本申请实施例提供的技术方案，所述水平标记件为水平尺。
22.根据本申请实施例提供的技术方案，所述位置限定件为标尺。
23.综上所述，本技术方案具体地公开了一种等离子工艺下料管调整装置的具体结构。本申请设计有下料管，其具有输送材料的下料口；下料口对应设置有接收材料的接料口，接料口位于接料管上；接料口的一侧沿第一方向设有等离子头，第一方向与下料管轴线垂直；等离子头上套设有下料管调整装置。启动石英玻璃制造装置前，将下料管调整装置套设于等离子头上，调整下料管调整装置，使得下料管移动到设定位置，取下等离子头上的下料管调整装置，完成设备调整。
24.此方案可使石英玻璃制备过程中下料管位置的设定变得省时省力，以解决人工调整下料管位置带来的不确定和误差。
附图说明
25.通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
26.图1为一种等离子工艺下料管调整装置结构示意图。
27.图2为一种等离子工艺下料管调整装置侧面结构示意图。
28.图3为一种等离子工艺下料管调整装置侧面结构示意图。
29.图4为一种等离子工艺下料管调整装置侧面结构示意图。
30.图5为一种等离子工艺下料管调整装置实例示意图。
31.图中标号：1、下料管；2、接料管；3、等离子头；4、下料管调整装置；5、转接套；6、调整组件；7、水平标记件；8、位置限定件；9、指示件。
具体实施方式
32.下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。
33.需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
34.实施例一
35.请参考图5所示的本申请提供的一种等离子工艺下料管调整装置的第一种实施例的结构示意图，包括：
36.下料管1，其具有下料口；
37.接料管2，其具有接料口，接料口与下料口对应设置；
38.等离子头3，沿第一方向设于下料口一侧，第一方向与下料管1轴线垂直；
39.下料管调整装置4，套设于等离子头3上；
40.调整下料管调整装置4使得下料管1移动到设定位置。
41.在本实施例中，下料管1具有下料口，用于输送材料；
42.接料管2具有接料口，用于接收材料，接料口与下料口看对应设置。
43.等离子头3，沿第一方向设于下料口一侧，第一方向与下料管1轴线垂直，等离子头3用于发出等离子火焰，融化石英粉等材料；
44.下料管调整装置4，套设于等离子头3上，用于调整下料管1的位置。启动石英玻璃
制造装置前，将下料管调整装置套设于等离子头上，调整下料管调整装置，使得下料管移动到设定位置，取下等离子头上的下料管调整装置，完成设备调整。
45.如图1所示，具体的，下料管调整装置4包括：
46.转接套5，其套设于等离子头3上，方便下料管调整装置4拆卸使用；
47.调整组件6，其设于转接套5上，用于调整下料管1的位置；
48.通过调整转接套5使得所述调整组件6处于水平状态。
49.如图2所示，转接套5与等离子头3旋转连接。
50.如图3所示，具体的，调整组件6包括：
51.水平标记件7，其设于转接套5上，用于调整下料管调整装置4，使其处于水平状态；
52.位置限定件8，其设于转接套5上，且其与水平标记件7平行，用于确定下料管1的位置；
53.指示件9，其沿第二方向设于位置限定件8上，用于指示下料管1的方向；
54.旋转转接套5使得水平标记件7处于水平状态，调整下料管1使其轴线与指示件9平行，且位于位置限定件8的设定位置。
55.如图4所示，具体地，第二方向垂直于位置限定件8的长度方向。
56.如图4所示，水平标记件7的类型，可选地，例如为水平尺。
57.如图4所示，位置限定件8的类型，可选地，例如为标尺。
58.以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。


技术特征：
1.一种等离子工艺下料管调整装置，其特征在于，包括：下料管(1)，其具有下料口；接料管(2)，其具有接料口，所述接料口与所述下料口对应设置；等离子头(3)，沿第一方向设于所述下料口一侧，所述第一方向与所述下料管(1)轴线垂直；下料管调整装置(4)，套设于所述等离子头(3)上；调整所述下料管调整装置(4)使得所述下料管(1)移动到设定位置。2.如权利要求1所述的一种等离子工艺下料管调整装置，其特征在于，所述下料管调整装置(4)包括：转接套(5)，套设于所述等离子头(3)上；调整组件(6)，设于所述转接套(5)上；调整所述转接套(5)使得所述调整组件(6)处于水平状态。3.如权利要求2所述的一种等离子工艺下料管调整装置，其特征在于：所述转接套(5)与所述等离子头(3)旋转连接。4.如权利要求2所述的一种等离子工艺下料管调整装置，其特征在于，所述调整组件(6)包括：水平标记件(7)，设于所述转接套(5)上；位置限定件(8)，设于所述转接套(5)上，且其与所述水平标记件(7)平行；指示件(9)，其沿第二方向设于所述位置限定件(8)上；旋转所述转接套(5)使得所述水平标记件(7)处于水平状态，调整所述下料管(1)使其轴线与所述指示件(9)平行，且位于所述位置限定件(8)的设定位置。5.如权利要求4所述的一种等离子工艺下料管调整装置，其特征在于：所述第二方向垂直于所述位置限定件(8)长度方向。6.如权利要求4所述的一种等离子工艺下料管调整装置，其特征在于：所述水平标记件(7)为水平尺。7.如权利要求4所述的一种等离子工艺下料管调整装置，其特征在于：所述位置限定件(8)为标尺。

技术总结
本申请公开了一种等离子工艺下料管调整装置。包括：下料管、接料管，等离子头和下料管调整装置。本申请设计有下料管，其具有输送材料的下料口；下料口对应设置有接料口，接料口位于接料管上；接料口的一侧沿第一方向设有等离子头，第一方向与下料管轴线垂直；等离子头上套设有下料管调整装置。启动石英玻璃制造装置前，将下料管调整装置套设于等离子头上，调整下料管调整装置，使得下料管移动到设定位置，取下等离子头上的下料管调整装置，完成设备调整。此方案可使石英玻璃制备过程中下料管位置的设定变得省时省力，以解决人工调整下料管位置带来的不确定和误差。管位置带来的不确定和误差。管位置带来的不确定和误差。


技术研发人员：刘念宗 孙庆伟 冯军 陈秀磊 朱浩 国维 刘乐健
受保护的技术使用者：久智光电子材料科技有限公司
技术研发日：2021.11.08
技术公布日：2022/5/17