一种低电流辉光和高电流弧光等离子体组合渗氮方法与流程

技术特征：
1.一种低电流辉光和高电流弧光等离子体组合渗氮方法，其特征在于，包括以下步骤：s1：将试样打磨，并进一步抛光至镜面状态，在丙酮或酒精溶液中清洗干净并烘干；s2：试样装载入辉光和弧光等离子体组合渗氮设备内，打开真空泵，抽真空至5.0
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pa；s3：电阻加热开启，炉温升温至渗氮所需温度400～550℃；s4：通入氩气，加电压700-800v，电离氩气形成辉光等离子体清洗试样表面，去除材料表面的氧化物等杂质，激活材料表面；s5：接着利用柱弧源产生的弧光等离子体中的电子流电离氩气，进行二次激活，电弧源弧靶电流为100～200a；s6：通入含氮的气体，电离产生氮离子，利用形成的氮离子进行渗氮；s7：试样随炉冷却。2.如权利要求1所述的一种低电流辉光和高电流弧光等离子体组合渗氮方法，其特征在于，所述步骤s1中试样为不锈钢、工具钢、高速钢、轴承钢中的任意一种。3.如权利要求1所述的一种低电流辉光和高电流弧光等离子体组合渗氮方法，其特征在于，所述步骤s2中的辉光和弧光等离子体组合渗氮设备包括炉体、三维旋转试样架、阴极蒸发源、电弧源、电弧屏蔽罩、电子收集器，所述三维旋转试样架位于所述炉体内，用于放置待处理试样，所述阴极蒸发源设于所述三维旋转试样架两侧，所述电弧源设于所述三维旋转试样架一端，所述电子收集器设于所述三维旋转试样架另一端的炉体内壁上，所述电弧屏蔽罩位于所述电弧源与所述三维旋转试样架之间。4.如权利要求1所述的一种低电流辉光和高电流弧光等离子体组合渗氮方法，其特征在于，所述步骤s5中电弧源为柱弧源或平面电弧源，靶材为钛靶。5.如权利要求1所述的一种低电流辉光和高电流弧光等离子体组合渗氮方法，其特征在于，所述步骤s6的渗氮过程中电弧源的弧靶电流为100～200a，渗氮气压为1～3pa。6.如权利要求1所述的一种低电流辉光和高电流弧光等离子体组合渗氮方法，其特征在于，所述步骤s5的渗氮过程中试样接负偏压300～500v。7.如权利要求1所述的一种低电流辉光和高电流弧光等离子体组合渗氮方法，其特征在于，所述步骤s6中含氮的气体为氮气、氮气/氨气的组合气体、氮气/氨气/氢气的组合气体中的任意一种。

技术总结
本发明涉及等离子体渗氮技术领域，具体涉及一种低电流辉光和高电流弧光等离子体组合渗氮方法：对试样抛光至镜面并清洗、烘干后装载入炉内，打开真空泵，抽真空至5.0


技术研发人员：王启民 杨阳 张世宏 郑军 周祥 门尚武
受保护的技术使用者：安徽工业大学
技术研发日：2021.10.27
技术公布日：2022/1/21