用于形成图案化材料层的方法和装置与流程

技术特征：
1.一种形成图案化材料层的方法，包括：在沉积过程期间照射衬底的表面的选定部分，所述照射在所述选定部分中局部驱动所述沉积过程，并且由此在由所述选定部分限定的图案中形成沉积材料层；以及对所述沉积材料进行退火以改变所述沉积材料。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述沉积过程被配置为形成单层。3.根据权利要求2所述的方法，其中用于驱动所述沉积过程的照射和用于退火的照射按顺序执行，并且所述顺序被重复以在所述选定部分中逐渐构建所述沉积材料的多个单层。4.根据权利要求1所述的方法，其中对所述沉积材料的退火包括：第一步骤，在所述第一步骤中所述衬底的全部被预热到高于室温的目标温度；以及第二步骤，在所述第一步骤之后，在所述第二步骤中所述衬底的选定局部区域被加热到高于所述目标温度的温度，所述选定局部区域小于整个衬底。5.根据权利要求1所述的方法，其中：第一辐射源被用来提供用于驱动所述沉积过程的照射；第二辐射源被用来对所述沉积材料进行退火；以及所述第一辐射源不同于所述第二辐射源。6.根据权利要求1所述的方法，其中相同辐射源在不同时间被用来提供用于驱动所述沉积过程的照射和用于对所述沉积材料进行退火的照射。7.根据权利要求6所述的方法，其中用于驱动所述沉积过程的照射与用于对所述沉积材料进行退火的照射相比以更精细的空间分辨率来执行。8.根据权利要求6所述的方法，其中用于驱动所述沉积过程的照射使用图案形成装置来执行，该图案形成装置用于对辐射束进行图案化，并且由此限定所述沉积材料层的图案，并且用于对所述沉积材料进行退火的照射使用不同的图案形成装置或不使用图案形成装置来执行。9.根据权利要求1所述的方法，其中所述沉积材料的改变包括：增加所述沉积材料的结晶程度。10.根据权利要求1所述的方法，其中用于驱动所述沉积过程的辐射使用具有小于100nm的波长的电磁辐射来执行。11.根据权利要求1所述的方法，其中所述沉积材料包括碳。12.根据权利要求1所述的方法，其中所述沉积材料包括硼。13.根据权利要求1所述的方法，其中：用于驱动所述沉积过程的照射使用与以下项中的一项或多项进行组合的具有小于100nm的波长的辐射来执行：电子束；具有在100nm到400nm范围内的波长的辐射；以及激光辐射。14.一种用于形成图案化材料层的装置，包括：照射系统，被配置为在沉积过程期间照射衬底的表面的选定部分，所述照射在所述选定部分中局部驱动所述沉积过程，并且由此在由所述选定部分限定的图案中形成沉积材料层；以及退火系统，被配置为对所述沉积材料进行退火以改变所述沉积材料。
15.根据权利要求14所述的装置，其中每个照射系统包括光刻装置，所述光刻装置被配置为通过将来自图案形成装置的图案化辐射束投影到所述衬底上来提供所述选定部分的照射。

技术总结
本发明公开用于形成图案化材料层的方法和装置。在一个布置中，衬底的表面的选定部分在沉积过程期间被照射，所述照射在所述选定部分中局部驱动所述沉积过程，并且由此在由所述选定部分限定的图案中形成沉积材料层。对所述沉积材料进行退火以改变所述沉积材料。沉积材料进行退火以改变所述沉积材料。沉积材料进行退火以改变所述沉积材料。


技术研发人员：T
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：2020.03.20
技术公布日：2021/12/17