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一种滚筒式连续蒸镀镀膜机的制作方法

2021-11-03 11:31:00 来源:中国专利 TAG:


1.本实用新型涉及真空蒸发镀膜设备技术领域,具体的说是一种滚筒式连续蒸镀镀膜机。


背景技术:

2.当前,玻璃加工企业为了提高玻璃产品的整体性能,一般会采取如下步骤:在真空条件下,对玻璃表面施加一种纯度高的金属膜或者化合物膜等,该类工艺中常用的设备为真空镀膜机;目前,国内外相关企业均采用单腔体间断式蒸镀设备,其结构一般为:设置一个单腔体的蒸发工艺室,蒸发工艺室下部装设电子蒸发装置,上部形成一个用于对玻璃产品镀膜的镀膜工作腔,其工作过程为:由工人将待镀膜产品及工件架从蒸发室正面打开的门处装入蒸发室内的旋转机构上,然后关闭蒸发工艺室,开始对蒸发工艺室抽真空,当蒸发工艺室处于高真空(≤5x10

3pa)时,启动电子蒸发装置开始镀膜,当镀膜完成时,由工人打开蒸发室门,人工从蒸发室内取出工件架进行下片工作,然后装片,并进入到下一个循环。如此以来,每经过一次镀膜工艺,蒸发工艺室均需要经过反复抽放气的时间,不但生产效率低下,加工出的产品的稳定性也相对较差,而且反复抽放气操作还造成极大的资源浪费。


技术实现要素:

3.为解决上述技术问题,本实用新型的目的是提出一种滚筒式连续蒸镀镀膜机,可实现玻璃产品镀膜期间以连续蒸镀方式进行,并保证工艺蒸发室环境相对不变的前提下,完成产品的镀膜,这样不仅提高了产品的成膜质量,同时也减少了工艺室反复抽放气的时间,从而提高了生产效率,减少资源浪费。
4.本实用新型采用的技术方案是:
5.一种滚筒式连续蒸镀镀膜机,包括工艺蒸发室,所述工艺蒸发室下部腔室内装设有电子蒸发装置,上部形成一个用于对产品镀膜的镀膜工作腔,位于镀膜工作腔的两侧,在工艺蒸发室上设有进出镀膜工作腔用的封闭门,在工艺蒸发室的两侧分别设有一缓冲室,每一侧所述的缓冲室为一独立的腔室结构,并设有进出其腔室内的封闭门,每一个缓冲室均对应设有一上下片段,在每一个上下片段上均设有用于安装待镀膜工件的工件架,工件架通过传送机构送入指定的缓冲室内,并经该缓冲室进入工艺蒸发室内进行镀膜;
6.还设有真空抽气系统,所述真空抽气系统对工艺蒸发室和位于工艺蒸发室两侧缓冲室的气压分别进行调节控制。
7.进一步优化,所述工艺蒸发室和缓冲室上设置的进出用的封闭门为翻板阀。
8.进一步优化,所述工艺蒸发室下部装设有2

4组电子蒸发装置。
9.进一步优化,所述的镀膜工作腔内设有用于限定工件架位置的定位机构。
10.进一步优化,所述的工件架包括绝缘底盘、设置在绝缘底盘上的旋转架、安装在旋转架上的可自由转动的装片滚筒架以及传动连接组件,待镀膜工件安装在所述装片滚筒架上,驱动机构输出动力,通过传动连接组件带动旋转架公转的同时装片滚筒架绕自身轴线
自转,实现待镀膜工件在镀膜腔室内完成均匀镀膜。
11.进一步优化,还设有顶部驱动机构,所述的顶部驱动机构连接在工艺蒸发室上盖上,顶部驱动机构的动力输出端伸入至镀膜工作腔内与传动连接组件相连接并将旋转动力传递给工件架。
12.本实用新型的有益效果是:
13.其一、本方案通过首次创新,对整个镀膜设备进行优化,在工艺蒸发室两侧设置缓冲室,可实现玻璃产品镀膜期间以连续蒸镀方式进行,可以在保证工艺蒸发室环境相对不变的前提下,完成产品的镀膜,这样不仅提高了产品的成膜质量,同时也减少了工艺室反复抽放气的时间,从而提高了生产效率,减少资源浪费。
14.其二、通过对工件架的安装结构的优化,实现从蒸发室外引入动力使小车上的待镀工件连续不断地公转和自转,保证了蒸发镀膜的均匀性;并且在蒸镀完成后,之前引入的动力可及时脱开,以便小车由腔体辊道传送出去,方便后续取出已镀产品和再次装入待镀工件,保证了整个光学镀膜机的连续运行。
附图说明
15.图1是本实用新型的结构示意图;
16.图2是顶部驱动机构与工件架连接状态下的结构示意图。
17.图3是工艺蒸发室内电子蒸发装置的结构示意图。
18.图4是工件架的结构示意图。
19.附图标记:1、第一上下片段,2、第二上下片段,3、第一缓冲室,4、第二缓冲室,5、工艺蒸发室,51、电子蒸发装置,52、镀膜工作腔,53、顶部驱动机构,6、传送机构,7、工件架,71、绝缘底盘,72、旋转架,73、装片滚筒架,74、待镀膜工件,75、传动连接组件,76、导向轮组件,77、支撑轮,8、翻板阀ⅰ,9、翻板阀ⅱ,10、翻板阀ⅲ,11、翻板阀ⅳ。
具体实施方式
20.下面,通过示例性的实施方式对本实用新型进行具体描述。然而应当理解,在没有进一步叙述的情况下,一个实施方式中的元件、结构和特征也可以有益的结合到其他实施方式中。
21.需要说明的是:除非另做定义,本文所使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本实用新型专利申请说明书以及权利要求书中所使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。同样,“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表述数量限制,而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语指出现在“包括”或者“包含”前面的元件或者物件涵盖出现在“包括”或者“包含”后面列举的元件或者物件及其等同,但并不排除其他元件或者物件。
22.一种滚筒式连续蒸镀镀膜机,包括工艺蒸发室5,所述工艺蒸发室5下部腔室内装设有电子蒸发装置51,上部形成一个用于对产品镀膜的镀膜工作腔52,位于镀膜工作腔的两侧,在工艺蒸发室上设有进出镀膜工作腔用的封闭门,在工艺蒸发室的两侧分别设有一缓冲室,每一侧所述的缓冲室为一独立的腔室结构,并设有进出其腔室内的封闭门,每一个
缓冲室均对应设有一上下片段,在每一个上下片段上均设有用于安装待镀膜工件的工件架,工件架通过传送机构送入指定的缓冲室内,并经该缓冲室进入工艺蒸发室内进行镀膜;还设有真空抽气系统,所述真空抽气系统对工艺蒸发室和位于工艺蒸发室两侧缓冲室的气压分别进行调节控制。
23.下面结合附图对本方案的详细结构进行描述:如图1

4所示,一种滚筒式连续蒸镀镀膜机由第一上下片段1、第一缓冲室3、第二上下片段2、第二缓冲室4以及工艺蒸发室5组成,其中第一上下片段1和第一缓冲室3设置在工艺蒸发室5的一侧,第二上下片段2和第二缓冲室4设置在工艺蒸发室5的另一侧,由于第一缓冲室3和第二缓冲室4分别为一个独立的腔室结构,其两侧需要设置进出用的封闭门,该封闭门可以采用翻板阀,工件架7通过传送机构6送入指定的缓冲室内,并经该缓冲室进入工艺蒸发室内进行镀膜,在工艺蒸发室5下部装设有2

4组电子蒸发装置51,该蒸发装置可同时蒸发一种材料,实现材料的共蒸发。从而可确保镀膜的生成效率;工艺蒸发室5上部形成一个用于对产品镀膜的镀膜工作腔52,并在该镀膜工作腔52内设有用于限定工件架位置的定位机构,保证工件架7行进至指定位置时实现快速定位。
24.需要说明的是:本方案中,所述的工件架7由绝缘底盘71、设置在绝缘底盘上的旋转架72、安装在旋转架上的可自由转动的装片滚筒架73以及传动连接组件75,待镀膜工件74安装在所述装片滚筒架73上,在旋转架72的一周还设有若干导向轮组件76和支撑轮77,外部驱动机构输出动力,通过传动连接组件75带动旋转架公转的同时装片滚筒架绕自身轴线自转,实现待镀膜工件在镀膜腔室内完成均匀镀膜。本方案实现从蒸发室外引入动力使小车上的待镀工件连续不断地公转和自转,保证了蒸发镀膜的均匀性;并且在蒸镀完成后,之前引入的动力可及时脱开,以便小车由腔体辊道传送出去,方便后续取出已镀产品和再次装入待镀工件,保证了整个光学镀膜机的连续运行。
25.需要说明的是:本方案中从外部引入动力机构,即为:顶部驱动机构53连接在工艺蒸发室5上盖上,顶部驱动机构53的动力输出端伸入至镀膜工作腔52内与传动连接组件75相连接并将旋转动力传递给工件架。
26.本方案中,所述的传送机构6可采用滚轮式传送组件。
27.本方案,其具体工作过程如下:
28.首先工艺蒸发室5开始抽气,当处于高真空(≤5x10

3pa)时,此时第一缓冲室3处于大气状态,工件架7从第一上下片段1由传送机构6传递到第一缓冲室3内,而后关闭翻板阀ⅰ8,第一缓冲室3开始抽真空,当真空抽到≤5pa后,打开翻板阀ⅱ9,工件架7进入到工艺蒸发室5内,关闭翻板阀ⅱ9,第一缓冲室3开始抽真空,当真空抽到≤5pa后等待保压,同时镀膜工艺室也开始抽气,达到镀膜真空度(≤5x10

3pa)后,开始镀膜。与此同时,另一侧的工件架开始装上未镀膜的工件,装好后,打开第二缓冲室4,工件架7从第二上下片段2由传输滚轮6传递到第二缓冲室4内,而后关闭翻板阀ⅳ11,第二缓冲室4开始抽真空,当真空抽到≤5pa后,待工艺蒸发室5内工件完成后,打开翻板阀ⅱ9,工件架7开始传回到第一缓冲室3内,并关闭翻板阀ⅱ9,接着第一缓冲室3放大气,并把工件架传回到第一上下片段1上,完成工件的下片、装片,并进入到下一个循环。与此同时,打开翻板阀ⅲ10,工件小车7进入到工艺蒸发室5内,而后关闭翻板阀ⅲ10,第二缓冲室4开始抽真空,当真空抽到≤5pa后等待保压,同时镀膜工艺室也开始抽气,达到镀膜真空度(≤5x10

3pa)后,开始镀膜。工件架上
的工件完成镀膜后,打开翻板阀ⅳ11,工件架开始传回到第二缓冲室4内,并关闭翻板阀ⅳ11,接着第二缓冲室4放大气,并把工件架传回到第二上下片段2上,完成工件的下片、装片,并进入到下一个循环。这样既可完成工件的交替镀膜,从而提高设备的生产效率。
29.应当指出,虽然通过上述实施方式对本实用新型进行了描述,然而本实用新型还可以有其他的多种实施方式。在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,熟悉本领域的技术人员显然可以对本实用新型做出各种相应的改变和变形,但这些改变和变形都应当属于本实用新型所附权利要求及其等效物所保护的范围内。
再多了解一些

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