原子层沉积设备的制作方法

技术特征：
1.一种原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备包括：一腔体，具有底部抽气口；一基材载台，设置于所述腔体内；一下抽气装置，通过所述底部抽气口，持续不间断地对所述腔体进行下抽气；一上抽气装置，具有复数抽气孔；以及一挡件，设置于所述腔体内，其中所述挡件及所述上抽气装置之间形成至少一上抽气路径。2.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，其中所述挡件包括彼此连接的横向延伸部与复数纵向延伸部，所述横向延伸部连接所述基材载台的外缘，而所述纵向延伸部分別对应于所述上抽气装置的所述抽气孔，所述挡件与所述上抽气装置的底部之间形成所述上抽气路径，而所述基材载台与所述挡件之间则形成下抽气路径。3.根据权利要求2所述的原子层沉积设备，其特征在于，其中所述横向延伸部与所述上抽气装置的底部之间具有第一纵向距离，以及所述横向延伸部与基材载台之间具有小于所述第一纵向距离的第二纵向距离。4.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备更包括：一喷头组件，提供至少一前驱物或涤洗气体至所述腔体内。5.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述抽气孔位于所述上抽气装置的底部或侧边。6.一种原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备包括：一腔体，具有底部抽气口；一基材载台，设置于所述腔体内；复数个中空部件，所述复数中空部件具有抽气孔，且所述复数中空部件的底部设置于所述基材载台的上方；以及一挡件，设置于所述腔体内，其中所述复数中空部件的所述抽气孔对应所述挡件，并于所述挡件与所述中空部件之间形成上抽气路径。7.根据权利要求6所述的原子层沉积设备，其特征在于，其中所述挡件具有彼此连接的横向延伸部与复数纵向延伸部，所述横向延伸部连接所述基材载台的外缘，并位于所述中空部件与所述基材载台之间。8.根据权利要求7所述的原子层沉积设备，其特征在于，其中所述横向延伸部与该中空部件的底部之间具有第一纵向距离，以及所述横向延伸部与所述基材载台之间具有小于所述第一纵向距离的第二纵向距离。9.根据权利要求8所述的原子层沉积设备，其特征在于，其中所述原子层沉积设备还包括升降装置，连接所述基材载台，其中所述升降装置驱动该基材载台与所述挡件靠近或远离所述中空部件，以调整所述中空部件与所述挡件之间的所述第一纵向距离。10.根据权利要求6所述的原子层沉积设备，其特征在于，其中所述抽气孔位于所述中空部件的底部或侧边。

技术总结
本实用新型是一种原子层沉积设备。原子层沉积设备包括腔体、基材载台、中空部件与挡件，其中中空部件具有抽气孔且其底部的一部份对应设置于基材载台的上方。所述挡件对应抽气孔设置，其中挡件具有纵向延伸部与横向延伸部。再者，中空部件上方可连接马达以形成上抽气装置。当上抽气装置做动时，挡件与中空部件之间可形成上抽气路径，以及挡件与基材载台之间可形成下抽气路径。所述上与下抽气路径分别包括第一纵向距离与第二纵向距离，其中第一与第二纵向距离之间的比例可受调整，进而调节腔体内的制程流体的流场，以使原子层沉积制程中的基材可受前驱物均匀的沉积。材可受前驱物均匀的沉积。材可受前驱物均匀的沉积。


技术研发人员：林俊成 易锦良 许雲齐 姚信宇
受保护的技术使用者：鑫天虹(厦门)科技有限公司
技术研发日：2020.11.24
技术公布日：2021/10/15