绝缘膜形成用树脂组合物、利用其制造的绝缘膜、图像显示装置及绝缘膜制造方法与流程

1.本发明涉及绝缘膜形成用树脂组合物、利用其制造的绝缘膜、图像显示装置以及绝缘膜制造方法。


背景技术：

2.感光性树脂对于滤色器、液晶显示材料、有机发光元件等显示器而言是必要的材料，根据滤色器中所使用的红色像素(r)、绿色像素(g)、蓝色像素(b)、黑矩阵(bm)、柱状间隔物(cs)等使用目的，可以存在诸多种类的感光性树脂组合物。
3.此外，感光性树脂组合物也可以作为用于形成以保护近年来开发的诸多半导体元件或显示器中所包含的多个配线和电路且使其绝缘为目的的绝缘膜的感光性树脂组合物来使用，特别是，对于最近的显示装置而言，由于在图案的尺寸随着分辨率增加而变小的同时提高可靠性的要求增加，且因外部氧和水分渗透而对显示器用装置的保护也增加，因而积极使用这样的感光性树脂组合物。
4.作为可以在这样的绝缘膜中使用的物质，可以使用聚乙烯、聚氯乙烯、天然橡胶、聚酯、环氧树脂、三聚氰胺树脂、酚醛树脂、聚氨酯之类的合成树脂等多种多样的物质。
5.另一方面，随着感光性树脂组合物在诸多方面的用处增加，近年来，不仅是配线的电绝缘的目的，还以显示器等装置内部平坦化为目的或者以对电流的流向也产生影响的方式进行设计。
6.具体而言，要求开发耐化学试剂性优异、且能够调节绝缘膜的线宽和孔大小的感光性树脂组合物，尤其要求与绝缘膜接触的部分的金属腐蚀改善效果。
7.特别是，为了实现用于设备驱动的通电而在绝缘膜的下部配置铜等金属膜的情况下，由于有机膜的特性，会因水分渗透而诱发铜的腐蚀。为此，要求能够防止或改善与绝缘膜相邻而配置的铜等金属膜的腐蚀的特性。
8.注册专利第10
‑
0732641号也公开了一种树脂组合物，其通过组合氰基丙烯酸酯紫外线吸收剂和苯并三唑紫外线吸收剂而与树脂组合物混合，从而表现出优异的耐光性，而且即使长时间使用也不发生黄变。但是，在耐化学试剂性、调节所形成的涂膜或图案的线宽和孔的大小方面、与相邻的膜的防腐蚀效果方面存在局限。为此，近年来，对于显示装置而言，由于图案的小型化和显示器的薄型化，具有更加多样的用处的树脂组合物的必要性凸显出来。
9.现有技术文献
10.专利文献
11.韩国注册专利第10
‑
0732641号


技术实现要素：

12.所要解决的课题
13.本发明的目的在于，提供图案特性、孔(hole)特性以及斜面(taper)特性提高了的绝缘膜形成用树脂组合物。
14.此外，本发明的目的在于，提供耐化学试剂性提高了的绝缘膜形成用树脂组合物。
15.此外，本发明的目的在于，提供对于下部金属等的防蚀性提高了的绝缘膜形成用树脂组合物。
16.此外，本发明的目的在于，提供低温下的工序性提高了的绝缘膜形成用树脂组合物。
17.此外，本发明的目的在于，提供利用上述绝缘膜形成用树脂组合物制造的绝缘膜以及包含其的图像显示装置。
18.此外，本发明的目的在于，提供使用上述绝缘膜形成用树脂组合物的绝缘膜的制造方法。
19.解决课题的方法
20.本发明涉及一种绝缘膜形成用树脂组合物，其包含(a)粘合剂树脂、(b)光聚合性化合物、(c)光聚合引发剂、(d)光吸收剂以及(e)溶剂，上述(b)光聚合性化合物包含芴(fluorene)系化合物，上述(d)光吸收剂包含唑(azole)系化合物。
21.本发明的第一观点中，上述(a)粘合剂树脂可以包含四氢吡喃(tetrahydropyran；thp)系环。
22.本发明的第二观点中，上述四氢吡喃(thp)系环可以通过包含聚合时能够形成四氢吡喃(thp)系环的非环状化合物和环状化合物中的至少一种以上聚合而成。
23.本发明的第三观点中，上述非环状化合物可以包含以下化学式1所表示的化合物。
24.[化学式1]
[0025][0026]
(上述化学式1中，r1、r2各自独立地为包含或不包含杂原子的碳原子数1～20的脂肪族烃基或碳原子数6～18的芳香族烃基。)
[0027]
本发明的第四观点中，上述环状化合物可以包含选自由四氢吡喃
‑2‑
基(甲基)丙烯酸酯、(四氢吡喃
‑2‑
基)甲基(甲基)丙烯酸酯、2,6
‑
二甲基
‑8‑
(四氢吡喃
‑2‑
基氧基)
‑1‑
辛烯
‑3‑
酮、1
‑
(四氢吡喃
‑2‑
基氧基)
‑3‑
丁烯
‑2‑
酮、4
‑
(1,4
‑
二氧杂
‑5‑
氧代
‑6‑
庚烯基)
‑6‑
甲基
‑2‑
吡喃酮以及4
‑
(1,5
‑
二氧杂
‑6‑
氧代
‑7‑
辛烯基)
‑6‑
甲基
‑2‑
吡喃酮组成的组中的一种以上。
[0028]
本发明的第五观点中，上述(a)粘合剂树脂可以包含环氧系粘合剂树脂。
[0029]
本发明的第六观点中，上述环氧系粘合剂树脂可以包含以下化学式2所表示的化合物。
[0030]
[化学式2]
[0031][0032]
(上述化学式2中，r3和r4各自独立地为氢或ch3，
[0033]
a和b各自独立地为3～20的整数。)
[0034]
本发明的第七观点中，上述芴系化合物可以包含以下化学式3所表示的化合物。
[0035]
[化学式3]
[0036][0037]
(上述化学式3中，x1和x2各自独立地表示羟基、
‑
(o
‑
a
‑
o)
p
h基(a表示碳原子数2～3的亚烷基，p表示1～10的整数。)，r5～r8各自独立地表示可被取代的碳原子数1～20的烃基、可被取代的碳原子数1～20的烷氧基或卤素原子，m1和m2各自独立地为0～3的整数，n1～n4各自独立地为0～4的整数。其中，m1 n1和m2 n2各自独立地为0～5的整数。)
[0038]
本发明的第八观点中，相对于绝缘膜形成用树脂组合物中固体成分总重量，上述芴系化合物的含量可以为3～35重量％。
[0039]
本发明的第九观点中，上述唑系化合物可以包含选自由苯并三唑(benzotriazole；bta)和吡唑(pyrazole)组成的组中的一种以上。
[0040]
本发明的第十观点中，相对于绝缘膜形成用树脂组合物中固体成分总重量，可以包含(a)粘合剂树脂10～50重量％、(b)光聚合性化合物5～70重量％、(c)光聚合引发剂3～20重量％、(d)光吸收剂1～10重量％，并且相对于绝缘膜形成用树脂组合物总重量，可以包含(e)溶剂60～90重量％。
[0041]
本发明的第十一观点中，上述绝缘膜形成用树脂组合物能够防止铜腐蚀。
[0042]
本发明的第十二观点中，上述绝缘膜形成用树脂组合物的烧成温度可以为80～150℃。
[0043]
本发明的第十三观点中，上述烧成温度可以为后烧成温度。
[0044]
此外，本发明涉及由上述绝缘膜形成用树脂组合物形成的绝缘膜。
[0045]
此外，本发明涉及包含上述绝缘膜的图像显示装置。
[0046]
此外，本发明涉及绝缘膜制造方法，其包括使用上述绝缘膜形成用树脂组合物且通过80～150℃的低温烧成工序而形成绝缘膜的步骤。
[0047]
发明效果
[0048]
根据本发明的绝缘膜形成用树脂组合物，与以往绝缘膜形成用树脂组合物相比，能够进一步提高图案特性、孔特性以及斜面特性。
[0049]
此外，根据本发明的绝缘膜形成用树脂组合物，与以往绝缘膜形成用树脂组合物相比，能够进一步提高耐化学试剂性。
[0050]
此外，根据本发明的绝缘膜形成用树脂组合物，与以往绝缘膜形成用树脂组合物相比，能够进一步提高对于下部金属等的防蚀性。
[0051]
此外，根据本发明的绝缘膜形成用树脂组合物，与以往绝缘膜形成用树脂组合物相比，能够进一步提高低温下的工序性。
具体实施方式
[0052]
本发明提供绝缘膜形成用树脂组合物、利用其制造的绝缘膜、图像显示装置以及绝缘膜制造方法，上述绝缘膜形成用树脂组合物的特征在于，包含含有芴系化合物的光聚合性化合物以及含有唑系化合物的光吸收剂。
[0053]
本发明的绝缘膜形成用树脂组合物通过包含含有芴系化合物的光聚合性化合物，从而能够提高耐热性、耐化学试剂性以及透过性，能够防止下部金属(比如，铜(cu)等)的腐蚀。此外，通过包含含有唑系化合物的光吸收剂，从而通过实现光固化度的调节而能够提高微细图案和孔特性。
[0054]
更详细而言，本发明提供绝缘膜形成用树脂组合物、利用其制造的绝缘膜、图像显示装置以及绝缘膜制造方法，上述绝缘膜形成用树脂组合物包含(a)粘合剂树脂、(b)光聚合性化合物、(c)光聚合引发剂、(d)光吸收剂以及(e)溶剂，上述(b)光聚合性化合物包含芴系化合物，上述(d)光吸收剂包含唑系化合物。
[0055]
本发明中所记载的“固体成分”的含义是除了溶剂以外的剩余成分。
[0056]
<绝缘膜形成用树脂组合物>
[0057]
本发明的绝缘膜形成用树脂组合物只要是包含含有芴系化合物的光聚合性化合物以及含有唑系化合物的光吸收剂的树脂组合物就没有特别限制。
[0058]
从最小化与其他官能团的反应而提高保存稳定性方面出发，本发明的绝缘膜形成用树脂组合物优选不包含胺化合物以及二胺化合物。
[0059]
此外，本发明的绝缘膜形成用树脂组合物具有防止与由上述绝缘膜形成用树脂组合物制造的绝缘膜相邻的金属的腐蚀的功能，优选可以用于防止相邻的铜(cu)的腐蚀。
[0060]
此外，本发明的绝缘膜形成用树脂组合物的烧成温度可以为80～150℃，优选后烧成温度可以为80～150℃。
[0061]
(a)粘合剂树脂
[0062]
本发明的绝缘膜形成用树脂组合物中所包含的粘合剂树脂只要能够向利用绝缘膜形成用树脂组合物形成的绝缘膜赋予碱溶性而赋予图案形成性就没有特别限制。
[0063]
一实施例中，上述粘合剂树脂可以包含四氢吡喃(thp)系环。该情况下，在能够提高涂膜的透明性、耐热性以及图案特性方面具有优点。
[0064]
上述四氢吡喃(thp)系环可以通过包含聚合时能够形成四氢吡喃(thp)系环的非环状化合物和环状化合物中的至少一种以上聚合而成。
[0065]
上述非环状化合物可以在主链具有形成四氢吡喃(thp)系环的不饱和键。例如，可以包含以下化学式1所表示的化合物，该情况下，从聚合时能够使共聚物中的环形成效率最大化方面考虑是优选的，但并非必然限定于此。
[0066]
[化学式1]
[0067][0068]
上述化学式1中，r1、r2各自独立地为包含或不包含杂原子的碳原子数1～20的脂肪族烃基或碳原子数6～18的芳香族烃基。
[0069]
作为上述r1和r2的具体例，可以举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、叔丁基、叔戊基、硬脂基、月桂基、环己基、乙基己基、甲氧基乙基、乙氧基乙基、苄基等，其中，优选为甲基、乙基、环己基、苄基。
[0070]
上述所谓杂原子可以为氧(o)、硫(s)、氮(n)等，但并非必然限定于此。
[0071]
在以单体包含上述化学式1的化合物而进行聚合的情况下，可以在高分子内形成如下两种形成四氢吡喃(thp)系环的重复单元，对于各重复单元的比例没有特别限制，在粘合剂树脂内，两种重复单元之一可以为主重复单元。
[0072][0073]
上述环状化合物可以在一分子内包含吡喃(pyran)系环和/或四氢吡喃(thp)系环且具有能够聚合的不饱和键。例如，包含吡喃系环的化合物可以为4
‑
(1,4
‑
二氧杂
‑5‑
氧代
‑6‑
庚烯基)
‑6‑
甲基
‑2‑
吡喃酮以及4
‑
(1,5
‑
二氧杂
‑6‑
氧代
‑7‑
辛烯基)
‑6‑
甲基
‑2‑
吡喃酮等，包含四氢吡喃(thp)系环的化合物可以为四氢吡喃
‑2‑
基(甲基)丙烯酸酯、(四氢吡喃
‑2‑
基)甲基(甲基)丙烯酸酯、2,6
‑
二甲基
‑8‑
(四氢吡喃
‑2‑
基氧基)
‑1‑
辛烯
‑3‑
酮以及1
‑
(四氢吡喃
‑2‑
基氧基)
‑3‑
丁烯
‑2‑
酮等。
[0074]
上述粘合剂树脂可以包含具有能够与上述非环状化合物和环状化合物共聚的不饱和键的化合物。上述具有能够共聚的不饱和键的化合物没有特别限制，例如，可以举出含不饱和羧基的单体以及其他不饱和单体等。
[0075]
作为上述含不饱和羧基的单体，例如，可以举出不饱和单羧酸或者不饱和二羧酸、不饱和多元羧酸等分子中具有1个以上的羧基的不饱和羧酸等。
[0076]
作为上述不饱和单羧酸，例如，可以举出丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、α
‑
氯丙烯酸、肉硅酸等。
[0077]
作为上述不饱和二羧酸，例如，可以举出马来酸、富马酸、衣康酸、柠康酸、中康酸
等。
[0078]
上述不饱和多元羧酸也可以为酸酐，具体可以举出马来酸酐、衣康酸酐、柠康酸酐等。此外，上述不饱和多元羧酸也可以为其单(2
‑
甲基丙烯酰氧基烷基)酯，比如，可以为琥珀酸单(2
‑
丙烯酰氧基乙基)酯、琥珀酸单(2
‑
甲基丙烯酰氧基乙基)酯、邻苯二甲酸单(2
‑
丙烯酰氧基乙基)酯、邻苯二甲酸单(2
‑
甲基丙烯酰氧基乙基)酯等。上述不饱和多元羧酸也可以为其两末端二羧基聚合物的单(甲基)丙烯酸酯，比如，可以举出ω
‑
羧基聚己内酯单丙烯酸酯、ω
‑
羧基聚己内酯单甲基丙烯酸酯等。
[0079]
上述含不饱和羧基的单体可以各自单独使用或将两种以上混合使用。
[0080]
作为上述其他不饱和单体，例如，可以举出苯乙烯、α
‑
甲基苯乙烯、邻乙烯基甲苯、间乙烯基甲苯、对乙烯基甲苯、对氯苯乙烯、邻甲氧基苯乙烯、间甲氧基苯乙烯、对甲氧基苯乙烯、邻乙烯基苄基甲基醚、间乙烯基苄基甲基醚、对乙烯基苄基甲基醚、邻乙烯基苄基缩水甘油基醚、间乙烯基苄基缩水甘油基醚、对乙烯基苄基缩水甘油基醚、茚等芳香族乙烯基化合物；丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正丁酯、丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸
‑2‑
羟基乙酯、甲基丙烯酸
‑2‑
羟基乙酯、丙烯酸
‑2‑
羟基丙酯、甲基丙烯酸
‑2‑
羟基丙酯、丙烯酸
‑3‑
羟基丙酯、甲基丙烯酸
‑3‑
羟基丙酯、丙烯酸
‑2‑
羟基丁酯、甲基丙烯酸
‑2‑
羟基丁酯、丙烯酸
‑3‑
羟基丁酯、甲基丙烯酸
‑3‑
羟基丁酯、丙烯酸
‑4‑
羟基丁酯、甲基丙烯酸
‑4‑
羟基丁酯、丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸烯丙酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸苄酯、丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸环己酯、丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苯酯、丙烯酸
‑2‑
甲氧基乙酯、甲基丙烯酸
‑2‑
甲氧基乙酯、丙烯酸
‑2‑
苯氧基乙酯、甲基丙烯酸
‑2‑
苯氧基乙酯、甲氧基二乙二醇丙烯酸酯、甲氧基二乙二醇甲基丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇甲基丙烯酸酯、甲氧基丙二醇丙烯酸酯、甲氧基丙二醇甲基丙烯酸酯、甲氧基二丙二醇丙烯酸酯、甲氧基二丙二醇甲基丙烯酸酯、丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸二环戊二烯酯、甲基丙烯酸二环戊二烯酯、丙烯酸
‑2‑
羟基
‑3‑
苯氧基丙酯、甲基丙烯酸
‑2‑
羟基
‑3‑
苯氧基丙酯、甘油单丙烯酸酯、甘油单甲基丙烯酸酯等不饱和羧酸酯类；丙烯酸
‑2‑
氨基乙酯、甲基丙烯酸
‑2‑
氨基乙酯、丙烯酸
‑2‑
二甲基氨基乙酯、甲基丙烯酸
‑2‑
二甲基氨基乙酯、丙烯酸
‑2‑
氨基丙酯、甲基丙烯酸
‑2‑
氨基丙酯、丙烯酸
‑2‑
二甲基氨基丙酯、甲基丙烯酸
‑2‑
二甲基氨基丙酯、丙烯酸
‑3‑
氨基丙酯、甲基丙烯酸
‑3‑
氨基丙酯、丙烯酸
‑3‑
二甲基氨基丙酯、甲基丙烯酸
‑3‑
二甲基氨基丙酯等不饱和羧酸氨基烷基酯类；丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯等不饱和羧酸缩水甘油酯类；乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等羧酸乙烯基酯类；乙烯基甲基醚、乙烯基乙基醚、烯丙基缩水甘油基醚等不饱和醚类；丙烯腈、甲基丙烯腈、α
‑
氯丙烯腈、双氰亚乙烯等氰化乙烯基化合物；丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、α
‑
氯丙烯酰胺、n
‑2‑
羟乙基丙烯酰胺、n
‑2‑
羟乙基甲基丙烯酰胺等不饱和酰胺类；马来酰亚胺、n
‑
苄基马来酰亚胺、n
‑
苯基马来酰亚胺、n
‑
环己基马来酰亚胺等不饱和酰亚胺类；1,3
‑
丁二烯、异戊二烯、氯丁二烯等脂肪族共轭二烯类；以及聚苯乙烯、聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸正丁酯、聚甲基丙烯酸正丁酯、聚硅氧烷的聚合物分子链的末端具有单丙烯酰基或单甲基丙烯酰基的大单体类等。这些单体可以各自单独使用或将两种以上混合使用。
[0081]
一实施例中，上述粘合剂树脂可以包含环氧系粘合剂树脂。该情况下，通过将绝缘膜形成用树脂组合物的烧成温度、优选后烧成温度降低至80～150℃，从而对于高温下无法实施工序的基材也能够适当实施工序，能够提高可靠性。
[0082]
上述环氧系粘合剂树脂可以从本发明所属技术领域中所使用的多种多样的聚合物中选择，可以单独使用一种或将两种以上组合使用，构成粘合剂的官能团可以按照符合期望的目的的组合来使用。在组合两种以上的情况下，例如，可以举出由不同的共聚成分构成的两种以上的粘合剂树脂、不同重均分子量的两种以上的粘合剂树脂、不同分散度的两种以上的粘合剂树脂。
[0083]
一个或多个实施方式中，上述环氧系粘合剂树脂可以包含选自由双酚型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、叔丁基邻苯二酚型环氧树脂、萘型环氧树脂、缩水甘油胺型环氧树脂、联苯型环氧树脂、苯酚芳烷基型环氧树脂、甲酚酚醛清漆型环氧树脂、线性脂肪族环氧树脂、脂环式环氧树脂、杂环式环氧树脂、含螺环的环氧树脂、环己烷二甲醇型环氧树脂以及卤化环氧树脂组成的组中的一种以上。
[0084]
一实施例中，上述环氧系粘合剂树脂可以包含以下化学式2所表示的化合物，该情况下，从显影性和可靠性方面考虑是优选的。以下化学式2所表示的化合物可以包含追加有公知的官能团的结构。
[0085]
[化学式2]
[0086][0087]
上述化学式2中，
[0088]
r3和r4各自独立地为氢或ch3，优选可以为氢。
[0089]
a和b各自独立地为3～20的整数，优选可以为5～15的整数。
[0090]
上述环氧系粘合剂树脂可以通过包含一种以上作为含有3,4
‑
环氧三环[5.2.1.0
2,6
]癸烷环的化合物的单体以及一种以上作为不饱和羧酸或其酸酐的单体共聚而成，可以追加进一步包含官能团。
[0091]
上述含有3,4
‑
环氧三环[5.2.1.0
2,6
]癸烷环的化合物可以举出3,4
‑
环氧三环[5.2.1.0
2,6
]癸烷
‑9‑
基丙烯酸酯、3,4
‑
环氧三环[5.2.1.0
2,6
]癸烷
‑8‑
基丙烯酸酯等，优选为3,4
‑
环氧三环[5.2.1.0
2,6
]癸烷
‑9‑
基丙烯酸酯与3,4
‑
环氧三环[5.2.1.0
2,6
]癸烷
‑8‑
基丙烯酸酯的混合物，更优选为上述3,4
‑
环氧三环[5.2.1.0
2,6
]癸烷
‑9‑
基丙烯酸酯与3,4
‑
环氧三环[5.2.1.0
2,6
]癸烷
‑8‑
基丙烯酸酯以50:50的体积比混合而成的混合物。
[0092]
上述羧酸或其酸酐可以为丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、马来酸、富马酸、
柠康酸、中康酸等α,β
‑
不饱和羧酸及其酸酐(马来酸酐、衣康酸酐等)，优选为甲基丙烯酸。
[0093]
本发明的绝缘膜形成用树脂组合物的图案化过程中，作为造成较大影响的因素，可以是粘合剂树脂的分子量和酸值，分子量会对组合物的粘度和所形成的图案的表面造成影响，酸值会对工序过程中图案形成造成影响。
[0094]
本发明的上述粘合剂树脂的由gpc测定的聚苯乙烯换算的重均分子量(以下叫做“分子量(mw)”)可以为5,000～30,000，优选可以为7,000～28,000，分子量分布(mw/mn)可以为2.0～3.0，优选可以为2.1～2.5。
[0095]
此外，本发明的上述粘合剂树脂的酸值可以为20～100mgkoh/g，优选可以为30～90mgkoh/g。
[0096]
在上述粘合剂树脂的分子量(mw)和酸值满足上述范围的情况下，在图案特性、孔特性以及提高显影性方面具有优点。
[0097]
相对于绝缘膜形成用树脂组合物中固体成分总重量，上述粘合剂树脂的含量可以为10～50重量％，优选可以为20～45重量％。在满足上述范围的情况下，在组合物的图案特性、孔特性以及提高显影性方面具有优点。
[0098]
(b)光聚合性化合物
[0099]
本发明的光聚合性化合物只要是接收紫外线等光照射而聚合且固化的物质就没有特别限制，优选包含芴系化合物。该情况下，能够防止下部铜(cu)的腐蚀，耐热性和耐化学试剂性优异，且能够提高透过度。
[0100]
一实施例中，上述芴系化合物可以包含以下化学式3所表示的化合物。
[0101]
[化学式3]
[0102][0103]
上述化学式3中，x1和x2各自独立地表示羟基、
‑
(o
‑
a
‑
o)
p
h基(a表示碳原子数2～3的亚烷基，p表示1～10的整数。)，r5～r8各自独立地表示可被取代的碳原子数1～20的烃基、可被取代的碳原子数1～20的烷氧基或卤素原子，m1和m2各自独立地为0～3的整数，n1～n4各自独立地为0～4的整数。其中，m1 n1和m2 n2为0～5的整数。
[0104]
上述x1和x2的取代位置没有特别限制，相对于芴可以为邻位(ortho)、间位(meta)或对位(para)，优选为间位或对位。
[0105]
上述烃基可以为直链或支链的碳原子数1～6的烷基、直链或支链的碳原子数2～6的烯基、碳原子数5～6的环烷基、碳原子数5～6的环烯基、碳原子数6～10的芳基、碳原子数6～10的芳基
‑
直链或支链的碳原子数1～4的烷基等。
[0106]
上述烷氧基可以为直链或支链的碳原子数1～6的烷氧基。
[0107]
上述卤素原子包含氟(f)、氯(cl)、溴(br)和碘(i)原子。
[0108]
在烃基和烷氧基具有取代基的情况下，作为取代基，可以为甲氧基等烷氧基、苯基、苄基、甲苯基等芳基、亚苯基、亚萘基等亚芳基、(甲基)丙烯酰基、(甲基)丙烯酰氧基、硝基、羟基、苯氧基等，优选为(甲基)丙烯酰基、(甲基)丙烯酰氧基、羟基。此外，取代基也可以有多个。作为具有取代基的烃基，例如，可以举出2
‑
乙氧基乙基、2
‑
丁氧基乙基、2
‑
硝基丙基、2
‑
(甲基)丙烯酰氧基乙基、2
‑
(甲基)丙烯酰氧基丙基等，优选为2
‑
(甲基)丙烯酰氧基乙基、2
‑
(甲基)丙烯酰氧基丙基。此外，作为具有取代基的烷氧基，例如，可以举出4
‑
甲氧基苯基、2
‑
甲氧基
‑2‑
硝基乙氧基、2
‑
(甲基)丙烯酰氧基乙氧基、3
‑
(甲基)丙烯酰氧基
‑2‑
羟基丙氧基等。
[0109]
上述n1～n4各自独立地可以为0～4的整数，优选可以为0～2的整数，更优选为0或1。
[0110]
上述n3和n4优选为0～3的整数，更优选为0～2的整数。
[0111]
上述m1和m2各自独立地可以为0～3的整数，优选可以为0～2的整数，更优选可以为0或1。
[0112]
上述m1 n1和m2 n2各自独立地可以为0～5的整数。
[0113]
上述化学式3所表示的化合物例如可以有9,9
‑
双[4
‑
(2
‑
丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴、9,9
‑
双[4
‑
(3
‑
丙烯酰氧基
‑2‑
羟基丙氧基)苯基]芴、9,9
‑
双(4
‑
羟基苯基)芴、9,9
‑
双(4
‑
羟基
‑3‑
甲基苯基)芴、9,9
‑
双(3
‑
羟基
‑2‑
甲基苯基)芴、9,9
‑
双(4
‑
羟基
‑
3,5
‑
二甲基苯基)芴、9,9
‑
双(4
‑
羟基
‑
2,6
‑
二甲基苯基)芴、9,9
‑
双(4
‑
羟基
‑
3,5
‑
二叔丁基苯基)芴、9,9
‑
双(3,4
‑
二羟基苯基)芴、9,9
‑
双(2,4
‑
二羟基苯基)芴、9,9
‑
双(2,5
‑
二羟基苯基)芴、9,9
‑
双(3,4
‑
二羟基
‑5‑
甲基苯基)芴、9,9
‑
双(3,4
‑
二羟基
‑6‑
甲基苯基)芴、9,9
‑
双(2,4
‑
二羟基
‑
3,6
‑
二甲基苯基)芴、9,9
‑
双(3,4,5
‑
三羟基苯基)芴、9,9
‑
双(2,4,6
‑
三羟基苯基)芴、9,9
‑
双(2,4,5
‑
三羟基苯基)芴、9,9
‑
双(2,3,4
‑
三羟基苯基)芴、9,9
‑
双(2,3,5
‑
三羟基苯基)芴、9,9
‑
双(2,3,6
‑
三羟基苯基)芴、9,9
‑
双(4
‑
羟基乙氧基苯基)芴、9,9
‑
双(4
‑
羟基乙氧基
‑3‑
甲基苯基)芴、9,9
‑
双(4
‑
羟基异丙氧基3
‑
甲基苯基)芴、9,9
‑
双(4
‑
羟基乙氧基
‑
3,5
‑
二甲基苯基)芴、9,9
‑
双(4
‑
羟基异丙氧基2,6
‑
二甲基苯基)芴、9,9
‑
双(4
‑
羟基乙氧基
‑3‑
环己基苯基)芴、9,9
‑
双(4
‑
羟基乙氧基
‑3‑
苯基苯基)芴、9,9
‑
双[3,4
‑
二(2
‑
羟基乙氧基)苯基]芴、9,9
‑
双[3,4,5
‑
三(2
‑
羟基乙氧基)苯基]芴等。
[0114]
相对于绝缘膜形成用感光性树脂组合物中固体成分总重量，上述芴系化合物的含量可以为3～35重量％。在上述芴系化合物的含量小于3重量％的情况下，耐化学试剂性、斜面特性以及铜(cu)防蚀性可能不良，在大于35重量％的情况下，图案特性以及孔特性可能不良。
[0115]
一个或多个实施方式中，上述光聚合性化合物除了上述化学式3所表示的化合物以外可以进一步包含单官能单体、二官能单体、其他多官能单体等。
[0116]
作为上述单官能单体的种类，没有特别限定，例如，可以举出丙烯酸壬基苯基卡必醇酯、丙烯酸
‑2‑
羟基
‑3‑
苯氧基丙酯、丙烯酸
‑2‑
乙基己基卡必醇酯、丙烯酸
‑2‑
羟基乙酯、n
‑
乙烯基吡咯烷酮等。
[0117]
作为上述二官能单体的种类，没有特别限定，例如，可以举出1,6
‑
己二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚a的双(丙烯酰氧基乙基)醚、3
‑
甲基戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
[0118]
作为上述多官能单体的种类，没有特别限定，例如，可以举出三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。
[0119]
相对于感光性树脂组合物中固体成分总重量，上述光聚合性化合物的含量可以为5～70重量％，优选可以为20～60重量％。在满足上述范围的情况下，在像素部的强度或平滑性的方面具有优点。
[0120]
(c)光聚合引发剂
[0121]
光聚合引发剂只要是由于照射了活性光线而能够引发上述光聚合性化合物等的聚合的成分就没有特别限制，可以使用以往或日后开发的光聚合引发剂。
[0122]
作为本发明的光聚合引发剂，在一个或多个实施方式中，可以包含选自由苯乙酮系、二苯甲酮系、三嗪系、噻吨酮系、肟系、苯偶姻系以及联咪唑系化合物组成的组中的一种以上。
[0123]
作为上述苯乙酮系化合物，例如，可以举出二乙氧基苯乙酮、2
‑
羟基
‑2‑
甲基
‑1‑
苯基丙烷
‑1‑
酮、苯偶酰二甲基缩酮、2
‑
羟基
‑1‑
[4
‑
(2
‑
羟基乙氧基)苯基]
‑2‑
甲基丙烷
‑1‑
酮、1
‑
羟基环己基苯基酮、2
‑
甲基
‑1‑
(4
‑
甲基硫代苯基)
‑2‑
吗啉代丙烷
‑1‑
酮、2
‑
苄基
‑2‑
二甲基氨基
‑1‑
(4
‑
吗啉代苯基)丁烷
‑1‑
酮、2
‑
羟基
‑2‑
甲基[4
‑
(1
‑
甲基乙烯基)苯基]丙烷
‑1‑
酮的低聚物等。
[0124]
作为上述二苯甲酮系化合物，例如，可以举出二苯甲酮、2,2
’‑
羟基
‑
4,4
’‑
二甲氧基二苯甲酮、邻苯甲酰苯甲酸甲酯、4
‑
苯基二苯甲酮、4
‑
苯甲酰
‑
4'
‑
甲基二苯基硫醚、3,3',4,4'
‑
四(叔丁基过氧化羰基)二苯甲酮、2,4,6
‑
三甲基二苯甲酮等。
[0125]
作为上述三嗪系化合物，例如，可以举出2,4
‑
双(三氯甲基)
‑6‑
(4
‑
甲氧基苯基)
‑
1,3,5
‑
三嗪、2,4
‑
双(三氯甲基)
‑6‑
(4
‑
甲氧基萘基)
‑
1,3,5
‑
三嗪、2,4
‑
双(三氯甲基)
‑6‑
(4
‑
甲氧基苯乙烯基)
‑
1,3,5
‑
三嗪、2,4
‑
双(三氯甲基)
‑6‑
[2
‑
(5
‑
甲基呋喃
‑2‑
基)亚乙基]
‑
1,3,5
‑
三嗪、2,4
‑
双(三氯甲基)
‑6‑
[2
‑
(呋喃
‑2‑
基)亚乙基]
‑
1,3,5
‑
三嗪、2,4
‑
双(三氯甲基)
‑6‑
[2
‑
(4
‑
二乙基氨基
‑2‑
甲基苯基)亚乙基]
‑
1,3,5
‑
三嗪、2,4
‑
双(三氯甲基)
‑6‑
[2
‑
(3,4
‑
二甲氧基苯基)亚乙基]
‑
1,3,5
‑
三嗪等。
[0126]
作为上述噻吨酮系化合物，例如，可以举出2
‑
异丙基噻吨酮、4
‑
异丙基噻吨酮、2,4
‑
二乙基噻吨酮、2,4
‑
二氯噻吨酮、1
‑
氯
‑4‑
丙氧基噻吨酮等。
[0127]
作为上述肟系化合物，例如，可以举出1
‑
[4
‑
(苯基硫代)苯基]
‑
庚烷
‑
1,2
‑
二酮2
‑
(o
‑
苯甲酰肟)、1
‑
[4
‑
(苯基硫代)苯基]
‑
辛烷
‑
1,2
‑
二酮2
‑
(o
‑
苯甲酰肟)、1
‑
[4
‑
(苯甲酰)苯基]
‑
辛烷
‑
1,2
‑
二酮2
‑
(o
‑
苯甲酰肟)、1
‑
[9
‑
乙基
‑6‑
(2
‑
甲基苯甲酰)
‑
9h
‑
咔唑
‑3‑
基]
‑
乙酮1
‑
(o
‑
乙酰肟)、1
‑
[9
‑
乙基
‑6‑
(3
‑
甲基苯甲酰)
‑
9h
‑
咔唑
‑3‑
基]
‑
乙酮1
‑
(o
‑
乙酰肟)、1
‑
(9
‑
乙基
‑6‑
苯甲酰
‑
9h
‑
咔唑
‑3‑
基)
‑
乙酮1
‑
(o
‑
乙酰肟)、乙酮
‑1‑
[9
‑
乙基
‑6‑
(2
‑
甲基
‑4‑
四氢呋喃基苯甲酰)
‑
9.h.
‑
咔唑
‑3‑
基]
‑1‑
(o
‑
乙酰肟)、乙酮
‑1‑
[9
‑
乙基
‑6‑
(2
‑
甲基
‑4‑
四氢吡喃基苯甲酰)
‑
9.h.
‑
咔唑
‑3‑
基]
‑1‑
(o
‑
乙酰肟)、乙酮
‑1‑
[9
‑
乙基
‑6‑
(2
‑
甲基
‑5‑
四氢呋喃基苯甲酰)
‑
9.h.
‑
咔唑
‑3‑
基]
‑1‑
(o
‑
乙酰肟)、乙酮
‑1‑
[9
‑
乙基
‑6‑
(2
‑
甲基
‑5‑
四氢吡喃基苯甲酰)
‑
9.h.
‑
咔唑
‑3‑
基]
‑1‑
(o
‑
乙酰肟)、乙酮
‑1‑
[9
‑
乙基
‑6‑
{2
‑
甲基
‑4‑
(2,2
‑
二甲基
‑
1,3
‑
二氧戊环基)苯甲酰}
‑
9.h.
‑
咔唑
‑3‑
基]
‑1‑
(o
‑
乙酰肟)、乙酮
‑1‑
[9
‑
乙基
‑6‑
(2
‑
甲基
‑4‑
四氢呋喃基甲氧基苯甲酰)
‑
9.h.
‑
咔唑
‑3‑
基]
‑1‑
(o
‑
乙酰肟)、乙酮
‑1‑
[9
‑
乙基
‑6‑
(2
‑
甲基
‑4‑
四氢吡喃基甲氧基苯甲酰)
‑
9.h.
‑
咔唑
‑3‑
基]
‑1‑
(o
‑
乙酰肟)、乙酮
‑1‑
[9
‑
乙基
‑6‑
(2
‑
甲基
‑5‑
四氢呋喃基甲氧基苯甲酰)
‑
9.h.
‑
咔唑
‑3‑
基]
‑1‑
(o
‑
乙酰肟)、乙酮
‑1‑
[9
‑
乙基
‑6‑
(2
‑
甲基苯甲酰)
‑
9h
‑
咔唑
‑3‑
基]
‑1‑
(o
‑
乙酰肟)、乙酮
‑1‑
[9
‑
乙基
‑6‑
(2
‑
甲基
‑5‑
四氢吡喃基甲氧基苯甲酰)
‑
9.h.
‑
咔唑
‑3‑
基]
‑1‑
(o
‑
乙酰肟)、乙酮
‑1‑
[9
‑
乙基
‑6‑
{2
‑
甲基
‑4‑
(2,2
‑
二甲基
‑
1,3
‑
二氧戊环基)甲氧基苯甲酰}
‑
9.h.
‑
咔唑
‑3‑
基]
‑1‑
(o
‑
乙酰肟)等。
[0128]
作为上述苯偶姻系化合物，例如，可以举出苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚,苯偶姻异丁基醚等。
[0129]
作为上述联咪唑系化合物，例如，可以举出2,2'
‑
双(2
‑
氯苯基)
‑
4,4',5,5'
‑
四(4
‑
乙氧基羰基苯基)
‑
1,2'
‑
联咪唑、2,2'
‑
双(2
‑
溴苯基)
‑
4,4',5,5'
‑
四(4
‑
乙氧基羰基苯基)
‑
1,2'
‑
联咪唑、2,2'
‑
双(2
‑
氯苯基)
‑
4,4',5,5'
‑
四苯基
‑
1,2'
‑
联咪唑、2,2'
‑
双(2,4
‑
二氯苯基)
‑
4,4',5,5'
‑
四苯基
‑
1,2'
‑
联咪唑、2,2'
‑
双(2,4,6
‑
三氯苯基)
‑
4,4',5,5'
‑
四苯基
‑
1,2'
‑
联咪唑、2,2'
‑
双(2
‑
溴苯基)
‑
4,4',5,5'
‑
四苯基
‑
1,2'
‑
联咪唑、2,2'
‑
双(2,4
‑
二溴苯基)
‑
4,4',5,5'
‑
四苯基
‑
1,2'
‑
联咪唑、2,2'
‑
双(2,4,6
‑
三溴苯基)
‑
4,4',5,5'
‑
四苯基
‑
1,2'
‑
联咪唑等。
[0130]
相对于绝缘膜形成用树脂组合物中固体成分总重量，上述光聚合引发剂的含量可以为3～20重量％，优选可以为5～15重量％。在满足上述范围的情况下，在调节图案形成以及提高固化度方面具有优点。
[0131]
此外，为了提高本发明的绝缘膜形成用树脂组合物的灵敏度，上述光聚合引发剂可以进一步包含光聚合引发助剂。本发明的绝缘膜形成用树脂组合物通过含有光聚合引发助剂，从而能够进一步提高灵敏度而提高生产率。
[0132]
上述光聚合引发助剂优选可以使用选自由例如胺化合物、羧酸化合物、多官能硫醇化合物组成的组中的一种以上化合物。
[0133]
作为上述胺化合物，优选使用芳香族胺化合物，具体可以使用三乙醇胺、甲基二乙醇胺、三异丙醇胺等脂肪族胺化合物、4
‑
二甲基氨基苯甲酸甲酯、4
‑
二甲基氨基苯甲酸乙酯、4
‑
二甲基氨基苯甲酸异戊酯、4
‑
二甲基氨基苯甲酸2
‑
乙基己酯、苯甲酸2
‑
二甲基氨基乙酯、n,n
‑
二甲基对甲苯胺、4,4'
‑
双(二甲基氨基)二苯甲酮(通称：米蚩酮)、4,4'
‑
双(二乙基氨基)二苯甲酮等。
[0134]
上述羧酸化合物优选为芳香族杂乙酸类，具体可以举出苯基硫代乙酸、甲基苯基硫代乙酸、乙基苯基硫代乙酸、甲基乙基苯基硫代乙酸、二甲基苯基硫代乙酸、甲氧基苯基硫代乙酸、二甲氧基苯基硫代乙酸、氯苯基硫代乙酸、二氯苯基硫代乙酸、n
‑
苯基甘氨酸、苯氧基乙酸、萘基硫代乙酸、n
‑
萘基甘氨酸、萘氧基乙酸等。
[0135]
作为上述多官能硫醇化合物，有三
‑
[(3
‑
巯基丙酰氧基)
‑
乙基]
‑
异氰脲酸酯(tris
‑
[(3
‑
mercaptopropionyloxy)
‑
ethyl]
‑
isocyanurate)、三羟甲基丙烷三
‑3‑
巯基丙酸酯(trimethylolpropane tris
‑3‑
mercaptopropionate)、季戊四醇四
‑3‑
巯基丙酸酯(pentaerythritol tetrakis
‑3‑
mercaptopropionate)、二季戊四醇六
‑3‑
巯基丙酸酯(dipentaerythritol hexa
‑3‑
mercaptopropionate)等。
[0136]
在进一步包含上述光聚合引发助剂的情况下，相对于上述粘合剂树脂和上述光聚
合性化合物的固体成分总重量，光聚合引发助剂的含量可以为0.1～40重量％，优选可以为1～30重量％。在满足上述范围的情况下，能够提供着色感光性树脂组合物的灵敏度进一步提高，且使用上述着色感光性树脂组合物形成的滤色器的生产率提高的效果。
[0137]
(d)光吸收剂
[0138]
本发明的绝缘膜形成用树脂组合物可以包含光吸收剂。上述光吸收剂只要包含吸收光的官能团和附着于基本结构的取代基就没有特别限制，优选包含唑系化合物。该情况下，从能够提高图案特性、孔特性以及斜面特性方面考虑是优选的。
[0139]
一实施例中，上述唑系化合物可以包含选自由苯并三唑(bta)和吡唑组成的组中的一种以上。
[0140]
包含上述苯并三唑(bta)和/或吡唑的光吸收剂借助长波长区域的光吸收特性而调节固化度，从而能够提高图案和孔特性、可靠性等。
[0141]
绝缘膜形成用树脂组合物包含苯并三唑(bta)以及吡唑的情况可以通过通常使用的分析方法来分析。具体而言，可以使用核磁共振光谱、红外吸收光谱、质量分析光谱等来分析绝缘膜形成用树脂组合物中所包含的苯并三唑以及吡唑的含量等。
[0142]
相对于绝缘膜形成用树脂组合物中固体成分总重量，上述光吸收剂的含量可以为1重量％～10重量％，优选可以为2～6重量％。在满足上述范围的情况下，在图案特性以及孔特性方面具有优点。
[0143]
(e)溶剂
[0144]
上述溶剂可以无特别限制地使用本领域公知的有机溶剂。
[0145]
作为上述溶剂的具体例，可以举出乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇单丙基醚、乙二醇单丁基醚等乙二醇单烷基醚类，二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇二丙基醚、二乙二醇二丁基醚等二乙二醇二烷基醚类，甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯等乙二醇烷基醚乙酸酯类，丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单丙基醚乙酸酯、甲氧基丁基乙酸酯和甲氧基戊基乙酸酯等亚烷基二醇烷基醚乙酸酯类，苯、甲苯、二甲苯、均三甲苯等芳香族烃类，甲基乙基酮、丙酮、甲基戊基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮类，乙醇、丙醇、丁醇、己醇、环己醇、乙二醇、甘油等醇类，3
‑
乙氧基丙酸乙酯、3
‑
甲氧基丙酸甲酯等酯类，γ
‑
丁内酯等环状酯类等。
[0146]
从涂布性和干燥性方面考虑，上述溶剂优选可以使用沸点为100℃～200℃的有机溶剂，更优选可以使用亚烷基二醇烷基醚乙酸酯类、酮类、3
‑
乙氧基丙酸乙酯或3
‑
甲氧基丙酸甲酯等酯类，进一步优选可以使用丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯、环己酮、3
‑
乙氧基丙酸乙酯、3
‑
甲氧基丙酸甲酯等。
[0147]
上述溶剂可以各自单独使用或两种以上混合使用。
[0148]
相对于绝缘膜形成用树脂组合物总重量，上述溶剂的含量可以为60～90重量％，优选可以为70～85重量％。在满足上述范围的情况下，利用辊涂机、旋涂机、狭缝式旋涂机、狭缝式涂布机(有时也称为模涂机)、喷墨印刷机等涂布装置进行涂布时提供涂布性变佳的效果，因此优选。
[0149]
(f)添加剂
[0150]
本发明的感光性树脂组合物视需要可以进一步包含添加剂，上述添加剂的种类可以根据使用者的需要来确定，本发明中没有特别限定，例如，可以举出填充剂、其他高分子
化合物、固化剂、表面活性剂、密合促进剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、防凝剂、分散剂、拒墨剂等。上述例示的添加剂可以单独使用或两种以上混合使用。
[0151]
上述填充剂具体可以使用玻璃、二氧化硅、氧化铝等，但不限定于此。
[0152]
作为上述其他高分子化合物，具体可以使用环氧树脂、马来酰亚胺树脂等固化性树脂；聚乙烯醇、聚丙烯酸、聚乙二醇单烷基醚、聚氟烷基丙烯酸酯、聚酯、聚氨酯等热塑性树脂；等，但不限定于此。
[0153]
上述固化剂为了提高深部固化和机械强度而使用，具体可以使用环氧化合物、多官能异氰酸酯化合物、三聚氰胺化合物、氧杂环丁烷化合物等，但不限定于此。上述环氧化合物具体可以使用双酚a型环氧树脂、氢化双酚a型环氧树脂、双酚f型环氧树脂、氢化双酚f型环氧树脂、酚醛清漆型环氧树脂、其他芳香族系环氧树脂、脂环族系环氧树脂、缩水甘油酯系树脂、缩水甘油胺系树脂、或这些环氧树脂的溴化衍生物、环氧树脂及其溴化衍生物以外的脂肪族、脂环族或芳香族环氧化合物、丁二烯(共)聚合物环氧化物、异戊二烯(共)聚合物环氧化物、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯(共)聚合物、异氰脲酸三缩水甘油酯等，但不限定于此。上述氧杂环丁烷化合物具体可以使用碳酸酯双氧杂环丁烷、二甲苯双氧杂环丁烷、己二酸酯双氧杂环丁烷、对苯二甲酸酯双氧杂环丁烷、环己烷二羧酸双氧杂环丁烷等，但不限定于此。
[0154]
上述固化剂可以并用能够使环氧化合物的环氧基、氧杂环丁烷化合物的氧杂环丁烷骨架开环聚合的助固化化合物。上述助固化化合物具体可以使用多元羧酸类、多元羧酸酐类、产酸剂等。上述羧酸酐类可利用市售的环氧树脂固化剂。作为市售的上述环氧树脂固化剂，例如，可以举出adeka hardener eh
‑
700(商品名，adeka工业(株)制造)、rikacid hh(商品名，新日本理化(株)制造)、mh
‑
700(商品名，新日本理化(株)制造)等。
[0155]
上述例示的固化剂以及助固化化合物可以各自单独使用或两种以上混合使用。
[0156]
作为上述表面活性剂，可以使用市售的表面活性剂，可以举出有机硅系表面活性剂、氟系表面活性剂以及它们的混合物等。作为上述有机硅系表面活性剂，可以例举具有硅氧烷键的表面活性剂等。作为市售品，可以举出toray silicone dc3pa、toray silicone sh7pa、toray silicone dc11pa、toray silicone sh21pa、toray silicone sh28pa、toray silicone 29shpa、toray silicone sh30pa、聚醚改性硅油sh8400(东丽有机硅(株)制造)、kp321、kp322、kp323、kp324、kp326、kp340、kp341(信越有机硅制造)、tsf400、tsf401、tsf410、tsf4300、tsf4440、tsf4445、tsf
‑
4446、tsf4452、tsf4460(ge东芝有机硅(株)制造)等。
[0157]
作为上述氟系表面活性剂，可以例举具有氟碳链的表面活性剂等。具体可以例举fluorinert(商品名)fc430、fluorinert fc431(住友3m(株)制造)、megafac(商品名)f142d、megafac f171、megafac f172、megafac f173、megafac f177、megafac f183、megafac f251、megafac f410、megafac f430、megafac f444、megafac f477、megafac f551、megafac f553、megafac f554、megafac f556、megafac f557、megafac f558、megafac f559、megafac f562、megafac f563、megafac f565、megafac f570、megafac r30、megafac r40、megafac r41、megafac r43、megafac r94(日本dic公司制造)、eftop(商品名)ef301、eftop ef303、eftop ef351、eftop ef352(新秋田化成(株)制造)、surflon(商品名)s381、surflon s382、surflon sc101、surflon sc105(旭硝子(株)制造)、e5844((株)大金精细化
学研究所制造)、bm
‑
1000、bm
‑
1100(商品名：bmchemie公司制造)等。
[0158]
上述密合促进剂具体可以使用选自由乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2
‑
甲氧基乙氧基)硅烷、n
‑
(2
‑
氨基乙基)
‑3‑
氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n
‑
(2
‑
氨基乙基)
‑3‑
氨基丙基三甲氧基硅烷、3
‑
氨基丙基三乙氧基硅烷、3
‑
环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、3
‑
环氧丙氧丙基甲基二甲氧基硅烷、2
‑
(3,4
‑
环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3
‑
氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3
‑
氯丙基三甲氧基硅烷、3
‑
甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3
‑
巯基丙基三甲氧基硅烷、3
‑
异氰酸酯丙基三甲氧基硅烷以及3
‑
异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷组成的组中的一种或两种以上的混合物。
[0159]
上述抗氧化剂例如可以包含选自由磷系抗氧化剂、硫系抗氧化剂和酚系抗氧化剂组成的组中的一种以上，该情况下，能够抑制工序中高温下可能发生的色变现象或显示器制作后可能由光源引发而发生的黄变。上述抗氧化剂可以包含选自由酚系化合物、磷系化合物和硫系化合物组成的组中的一种以上，它们可以按照酚系
‑
磷系化合物、酚系
‑
硫系化合物、磷系
‑
硫系化合物、或酚系
‑
磷系
‑
硫系化合物的组合来使用。
[0160]
上述紫外线吸收剂具体可以使用2
‑
(3
‑
叔丁基
‑2‑
羟基
‑5‑
甲基苯基)
‑5‑
氯苯并三唑、烷氧基二苯甲酮等，但不限定于此。
[0161]
上述防凝剂具体可以使用聚丙烯酸钠等，但不限定于此。
[0162]
上述分散剂是为了维持颜料的分散稳定性而添加，可以无限制地使用本领域一般使用的分散剂。
[0163]
上述拒墨剂在分子内具有氟原子。由此，拒墨剂具有在使用含有其的感光性树脂组合物而形成固化膜的过程中向上表面迁移的性质(上表面迁移性)和拒墨性。通过使用拒墨剂，从而所得到的固化膜的包含上表面的上层部成为拒墨剂致密地存在的层(以下，有时也称为“拒墨层”)，赋予固化膜上表面拒墨性。此外，从提高拒墨剂在拒墨层中的固定性的观点出发，拒墨剂优选为具有乙烯性双键的化合物。由于拒墨剂具有乙烯性双键，因而自由基对于迁移至上表面的拒墨剂的乙烯性双键进行作用，能够使拒墨剂之间或者拒墨剂与隔壁形成用感光性树脂组合物所含有的具有乙烯性双键的其他成分通过(共)聚合而实现交联。
[0164]
上述拒墨剂的种类没有特别限定，例如，可以举出水解性硅烷化合物的部分水解缩合物。水解性硅烷化合物可以单独使用一种，也可以将两种以上并用。可以使用由水解性硅烷化合物的部分水解缩合物构成、而且具有氟原子的拒墨剂，也可以使用由主链为烃链、侧链含有氟原子的化合物构成的拒墨剂。
[0165]
关于上述添加剂，本领域的技术人员可以在不损害本发明的效果的范围内适当追加使用。比如，相对于感光性树脂组合物总重量，上述添加剂的可以以0.05～10重量％、优选以0.1～10重量％、更优选以0.1～5重量％使用，但不限定于此。
[0166]
<绝缘膜>
[0167]
本发明包含在基板上由绝缘膜形成用树脂组合物形成的绝缘膜。
[0168]
上述基板只要通过包含由绝缘膜形成用树脂组合物形成的绝缘膜而起到提供其他元件等的结构性基体(base)作用就没有特别限制。一个或多个实施方式中，上述基板可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、聚酯等的聚合性膜等。
[0169]
一实施例中，上述绝缘膜可以包含预定的图案，例如，可以包含在基板上涂布上述
的绝缘膜形成用树脂组合物、且以预定的图案进行曝光和显影而形成的图案。
[0170]
具体而言，可以包括以下步骤来制造：制造混合有绝缘膜形成用树脂组合物的溶液的步骤(s1)；将上述(s1)中制造的溶液涂布在基板上的步骤(s2)；为了将上述步骤(s2)中涂布的溶液的溶剂去除而加热的步骤(s3)；通过曝光和显影而形成图案的步骤(s4)；以及为了提高上述所形成的图案的固化度而加热的步骤(s5)。
[0171]
将上述溶液涂布在基板上的步骤(s2)中，通过将绝缘膜形成用树脂组合物涂布在基板上后加热干燥，从而能够将溶剂等挥发成分去除而形成平滑的涂膜。
[0172]
作为涂布方法，可以通过例如旋涂、柔性涂布法、辊涂法、狭缝式旋涂或狭缝涂布法等来实施。涂布后，在加热干燥(前烘)或减压干燥后，通过加热而使溶剂等挥发成分挥发。
[0173]
为了将上述溶剂去除而加热的步骤(s3)通常可以在70～150℃进行，优选可以在80～130℃进行。
[0174]
上述通过曝光和显影而形成图案的步骤(s4)中，首先，通过用于形成目标图案的掩模来照射紫外线。此时，为了对曝光部整体均匀地照射平行光线，且实施掩模与基板的精确的位置对准，优选使用掩模对准器或步进器等装置。此时，掩模图案可以与绝缘膜直接接触，也可以通过能够透过活性光线的膜来接触，隔着一定的距离形成也无妨。
[0175]
作为活性光线的光源，可以使用以往或日后实施曝光时所使用的活性光线的光源，可以使用碳弧灯、汞蒸气弧灯、超高压汞灯、高压汞灯、氙气灯等有效发出紫外线的灯，摄影用平板灯泡、太阳能灯等有效发出可见光线的灯等。
[0176]
然后，使完成光固化的涂膜与显影液接触而使未曝光部溶解，从而能够形成具备所需图案的绝缘膜。
[0177]
为了提高上述所形成的图案的固化度而加热的步骤(s5)可以在80℃～150℃进行。
[0178]
由本发明的绝缘膜形成用树脂组合物形成的绝缘膜在提高可靠性方面具有优异的效果，提供下部铜基板的腐蚀防止效果。
[0179]
<图像显示装置>
[0180]
本发明提供包含上述绝缘膜的显示装置。
[0181]
本发明的显示装置可以包括以往或日后将要开发的显示装置，一个或多个实施方式中，可以为液晶显示装置(liquid crystal display；lcd)、电致发光(electro luminescent；el)显示装置、等离子体显示装置(plasma display panel；pdp)、场发射显示装置(field emission display；fed)、有机发光元件(organic light emitting diode；oled)显示装置等。
[0182]
上述显示装置除了包含上述的绝缘膜以外可以包含本技术领域通常已知的构成。
[0183]
以下，以实施例为基础对本发明进行更详细的说明，但以下公开的本发明的实施方式仅为例示，本发明的范围不受这些实施方式的限定。本发明的范围表示在权利要求书中，而且包含与权利要求书的记载等同的含义以及范围内的所有变形。此外，以下的实施例、比较例中表示含量的“％”和“份”除非特别提及则为质量基准。
[0184]
<制造例1：粘合剂树脂的制造>
[0185]
在安装有滴液漏斗、温度计、冷凝管和搅拌机的四口烧瓶中，加入甲基
‑2‑
(溴甲
基)
‑
丙烯酸酯(奥德里奇公司制品)23.3g、三乙基胺(奥德里奇公司制品)15.8g以及丙二醇甲基醚(tci公司制品)115.0g，并将四口烧瓶的内部置换成氮气。接着，将烧瓶加热至90℃，经1小时滴加甲基
‑2‑
(羟基甲基)
‑
丙烯酸酯(奥德里奇公司制品)15.1g、2,2'
‑
偶氮二异丁腈(和光(wako)公司制品)3.2g以及丙二醇甲基醚(tci公司制品)110.0g的混合溶液后，进行30分钟聚合反应，从而生产含吡喃聚合物。接着，经1小时缓慢滴加甲基丙烯酸37.5g、甲基丙烯酸甲酯19.0g、丙二醇甲基醚225.0g以及2,2'
‑
偶氮二异丁腈(和光公司制品)3.2g的混合溶液，然后实施8小时聚合，之后冷却至室温。将四口烧瓶的内部置换成氮气后，向烧瓶中添加甲基丙烯酸缩水甘油酯(三菱丽阳公司制品)61.5g、四正丁基溴化铵(tci公司制品)3.6g以及4
‑
甲氧基苯酚(methoquinone(4
‑
methoxyphenol)，纯正公司制品)0.15g，在80℃反应12小时，从而得到共聚物的羧基上加成有gma的粘合剂树脂b1。由gpc测定的粘合剂树脂b1的重均分子量(mw)为23,000。
[0186]
<制造例2：粘合剂树脂的制造>
[0187]
在具备搅拌机、温度计、回流冷凝管、滴液漏斗和氮气导入管的内容积1升的分离型烧瓶中投入甲氧基丁基乙酸酯277g，升温至80℃后，经5小时滴加使3,4
‑
环氧三环[5.2.1.0,2,6]癸烷
‑9‑
基丙烯酸酯与3,4
‑
环氧三环[5.2.1.0,2,6]癸烷
‑8‑
基丙烯酸酯的混合物[50:50(摩尔比)]301g、甲基丙烯酸49g以及偶氮双二甲基戊腈23g溶解于甲氧基丁基乙酸酯350g而成的混合溶液，而且通过3小时熟化，从而得到粘合剂树脂b3[固体成分(nv)35.0重量％]。所得的粘合剂树脂b3的酸值(干燥(dry))为69.8mgkoh/g，重均分子量(mw)为12,300，分散度(mw/mn)为2.1。
[0188]
<实施例和比较例>
[0189]
参照以下表1～表2，分别制造实施例和比较例的绝缘膜形成用树脂组合物。
[0190]
[表1]
[0191]
[0192][0193]
[表2]
[0194]
[0195][0196]
<实验例>
[0197]
对于实施例和比较例的绝缘膜形成用树脂组合物，评价图案特性、孔特性、耐化学试剂性、铜(cu)腐蚀以及斜面特性，将结果示于以下表3～表4中。
[0198]
(1)基板制作
[0199]
将5cm
ⅹ
5cm的基材用中性洗涤剂以及水清洗后干燥。可应用的基材根据评价方法可以为玻璃基板(康宁公司)或带有cu图案的基板。在基材上以最终膜厚度成为2.0μm的方式分别旋涂上述实施例和比较例中制造的绝缘膜形成用树脂组合物，在80～120℃通过前烧成而干燥1～3分钟从而将溶剂去除。之后，以曝光量30～80mj/cm2进行曝光而形成图案，使用碱水溶液将非曝光部去除。接着，在100～180℃进行20～60分钟后烧成而制造基板。
[0200]
(2)图案特性和孔特性
[0201]
按照如上制作基准，制作带有图案的基板。对其利用snu(sis
‑
2000)设备测定图案的大小以及孔大小。cd偏差(cd
‑
bias)通过掩模的图案大小与实际生成的图案的大小差异来计算。
[0202]
cd偏差＝(掩模尺寸(mask size))
‑
(实际图案尺寸)
[0203]
<图案特性评价基准>
[0204]
o：cd偏差≤ 4μm
[0205]
x：cd偏差> 4μm
[0206]
<孔特性评价基准>
[0207]
o：cd偏差为
‑
4～
‑
7μm
[0208]
x：cd偏差小于
‑
7μm或大于
‑
4μm
[0209]
(3)耐化学试剂性
[0210]
将按照如上基准制作的基板在蚀刻液和剥离液中依次浸渍后，确认膜厚度变化。在将蚀刻液维持在45℃的同时将制作的基板浸渍2分钟后确认膜厚度。之后，在以60℃维持的剥离液中浸渍5分钟后确认膜厚度。将这一过程全部进行之后，确认浸渍于蚀刻液之前的膜厚度与浸渍于剥离液之后的膜厚度之差。
[0211]
δ膜厚度＝耐化学试剂性评价前膜厚度
‑
剥离液浸渍后膜厚度
[0212]
<耐化学试剂性评价基准>
[0213]
o：δ膜厚度≤0.2μm
[0214]
x：δ膜厚度>0.2μm
[0215]
(4)cu腐蚀
[0216]
将按照如上基准制作的基板利用高压蒸煮试验(pressure cooker test，pct)设备确认cu腐蚀。实验中，在温度110℃、湿度为100％的设备内将所制作的基板维持72小时，然后利用显微镜判断是否腐蚀。该评价使用带有cu图案的基材，确认10处中发生几处腐蚀。
[0217]
<铜(cu)腐蚀评价基准>
[0218]
o：10处中2处以内腐蚀
[0219]
x：3处以上腐蚀
[0220]
(5)斜面特性
[0221]
使用sem(日立(hitachi)公司，s
‑
4300)设备测定按照如上基准制作的图案的斜面。
[0222]
<斜面特性评价基准>
[0223]
o：锥角(taper angle)为15
°
以上且小于80
°
[0224]
x：锥角为小于15
°
或为80
°
以上
[0225]
[表3]
[0226][0227]
[表4]
[0228][0229]
参照上述表3～4，利用本发明的实施例的绝缘膜形成用树脂组合物制造绝缘膜的情况下，图案的临界尺寸偏差(critical dimension bias，cd偏差)表现出 4μm以下的值，所形成的孔的cd偏差表现出
‑
4～
‑
7μm的值，因此可知湿式蚀刻(wet etching)中可能出现的底切(undercut)现象减少，在形成微细图案和孔方面提供有利的效果。
[0230]
此外，依次在蚀刻液(etchant)和剥离液(stripper)中浸渍后的膜厚度变化量表现出0.2μm以下，因此可以确认能够使剥离(stripping)过程中可能发生的绝缘膜的损失最小化。
[0231]
此外，可以确认到基板上的铜图案共10处中的2处以内的铜图案发生腐蚀，由此显示出对于设备、尤其显示装置中可能发生的高温、高湿条件下的铜的防腐蚀具有优异的效果。
[0232]
此外，所形成的图案的所测定的锥角显示出15
°
以上且小于80
°
，因此可知所形成的斜面特性良好。
[0233]
另一方面，利用不包含芴系化合物作为光聚合性化合物的比较例1～4的绝缘膜形成用树脂组合物制造绝缘膜的情况下，可以确认到膜厚度差异大于0.2μm而在剥离过程中过度发生绝缘膜的损失，且可以确认到铜图案共10处中的3处以上的图案发生腐蚀，由此显示出不适合在设备、尤其显示器等图像显示装置中使用。
[0234]
此外，所形成的图案的锥角显示出小于15
°
或为80
°
以上，因此可以确认斜面特性不良。
[0235]
此外，利用不包含苯并三唑(bta)和吡唑作为光吸收剂的比较例5和6的绝缘膜形成用树脂组合物制造绝缘膜的情况下，与比较例1～4的情况相同，可以确认到耐化学试剂
性、斜面特性以及铜(cu)防腐蚀力不良，并且所形成的图案的cd偏差大于4μm，所形成的孔的cd偏差小于
‑
7μm或大于
‑
4μm而图案特性和孔特性也不良。