曝光装置和曝光方法与流程

技术特征：
1.一种曝光装置，其特征在于，具有：光调制元件阵列，其由多个光调制元件呈二维地排列而成；扫描部，其使相对于主扫描方向以规定的倾斜角度倾斜的所述光调制元件阵列的曝光区域相对于被描绘体在主扫描方向上进行相对移动；以及曝光控制部，其按照规定的间距间隔对所述多个光调制元件进行调整，进行多重曝光动作，所述曝光控制部在规定的单位曝光区域中，在沿着所述倾斜角度的多个曝光点线之间按照每次曝光动作切换规定曝光点的曝光点线。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光控制部在相邻地排列的多个曝光点线之间依次切换曝光点线。3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光控制部将在下一次曝光动作中曝光点会从所述规定的单位曝光区域离开的曝光点线切换为在下一次曝光动作中曝光点会在所述规定的单位曝光区域内移动的曝光点线。4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光控制部以使各曝光点线的曝光点间隔成为相等的间距间隔进行多重曝光动作。5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光控制部以使相邻的曝光点线的沿着主扫描方向的曝光点位置错开的间距间隔进行多重曝光动作。6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光控制部在所述规定的单位曝光区域内，在第2k-1个曝光点线与第2k个曝光点线之间交替地切换曝光点线，其中，k＝1、2、
…
。7.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光控制部以使相邻的曝光点线的沿着主扫描方向的曝光点位置成为相同的间距间隔的方式进行多重曝光动作。8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光控制部在所述规定的单位曝光区域内，在第3k-2个曝光点线、第3k-1个曝光点线和第3k个曝光点线之间依次切换曝光点线，其中，k＝1、2、
…
。9.根据权利要求1至8中的任意一项所述的曝光装置，其特征在于，如果设所述规定的间距间隔为p，设光调制元件的单位曝光区域为c，设m为2以上的整数，设n为任意的整数，设u为小于m的整数，设a为小于c的值，则p能够以下式表示：p＝(n u/m)c a。10.一种曝光方法，其特征在于，配置由多个光调制元件呈二维地排列而成的光调制元件阵列，使所述光调制元件阵列的曝光区域相对于主扫描方向以规定的倾斜角度倾斜，使所述曝光区域相对于被描绘体在主扫描方向上进行相对移动，按照规定的间距间隔对所述多个光调制元件进行调整，进行多重曝光动作，在规定的单位曝光区域中，在沿着所述倾斜角度的多个曝光点线之间按照每次曝光动
作切换规定曝光点的曝光点线。

技术总结
本发明提供一种曝光装置和曝光方法。能够使曝光点均匀分散的新的多重曝光。在曝光装置(10)中，通过基于下述式(1)的上述间距(P)进行多重曝光动作。通过设定基准曝光点在单位曝光区域内的位置，使曝光点在多个曝光点线之间依次移动，从而使曝光点在主扫描方向(X)和副扫描方向(Y)上分散。其中，将固定的间距间隔设为P，将光调制元件的单位曝光区域设为C，将m设为2以上的整数，将n设为任意的整数，将u设为比m小的整数，将a设为比C小的值，满足P＝(n u/m)C a。 a。 a。


技术研发人员：奥山隆志
受保护的技术使用者：株式会社ORC制作所
技术研发日：2020.11.25
技术公布日：2021/9/28