一种钼钛合金溅射镀膜靶材的制备方法与流程

技术特征：
1.一种钼钛合金溅射镀膜靶材的制备方法，其特征在于：包括以下制备步骤：步骤一、选取由钼粉、钛粉或钼粉、钛粉及镍粉组成的合金粉末，过筛处理，备用；步骤二、将步骤一选取的合金粉末装入柔性模具中，通过冷等静压制成粉质合金坯；步骤三、步骤二处理后的粉质坯装入烧结炉，在真空环境下进行烧结，得到烧结坯；步骤四、将烧结坯加热，根据设计图纸配合相应模具进行锻造，制成锻造坯备用；步骤五、将步骤四的锻造坯进行退火处理，退火温度为600~1250℃，退火保温时间1~12h，然后随炉冷却备用；步骤六、将步骤五处理后的坯体机加工至目标要求尺寸，然后进行缺陷探伤和结晶扫描检测；步骤七、对步骤六检验合格后的产品使用洁净水进行冲洗，干燥后真空包装，得成品。2.根据权利要求1所述的一种钼钛合金溅射镀膜靶材的制备方法，其特征在于：步骤一筛选的合金粉末粒径为160 ~500目。3.根据权利要求1所述的一种钼钛合金溅射镀膜靶材的制备方法，其特征在于：步骤一中的合金粉末为钼粉、钛粉和镍粉组成的三元合金粉末，按质量份数计算，其中，钼粉70~85份、钛粉15~20份和镍粉1~15份。4.根据权利要求1所述的一种钼钛合金溅射镀膜靶材的制备方法，其特征在于：步骤一中的合金粉末为钼粉和钛粉组成的二元合金粉末，按质量份数计算，其中，钼粉75~85份、钛粉15~25份。5.根据权利要求1所述的一种钼钛合金溅射镀膜靶材的制备方法，其特征在于：步骤二中压制压力150~280mpa，保压时间为10~60min。6.根据权利要求1所述的一种钼钛合金溅射镀膜靶材的制备方法，其特征在于：步骤三中烧结温度为1000~1650℃，烧结时间为6~72h。7.根据权利要求1所述的一种钼钛合金溅射镀膜靶材的制备方法，其特征在于：步骤三中烧结坯的致密度大于98%。8.根据权利要求1所述的一种钼钛合金溅射镀膜靶材的制备方法，其特征在于：步骤四中加热温度为600~1350℃，加热时间为60~180min。

技术总结
本发明提供了一种钼钛合金溅射镀膜靶材的制备方法，包括将单组份的钼粉与钛粉形成的二元合金粉末或者钼粉、钛粉以及镍粉形成的三元合金粉末过筛处理的步骤、冷等静压步骤、真空烧结步骤、锻造加工步骤、退火处理步骤、机加工步骤、洁净处理步骤，制得钼钛合金溅射镀膜靶材；本发明通过冷等静压、真空烧结及锻造加工步骤，实现致密度高、耐腐蚀性能好且导电性能好的高性能钼钛合金的制备，制得实际密度趋近或者等于合金的理论密度，且平均晶粒尺寸≤50um的钼钛合金。50um的钼钛合金。


技术研发人员：张灵杰
受保护的技术使用者：洛阳科威钨钼有限公司
技术研发日：2021.05.31
技术公布日：2021/10/8