一种具有小角度效应的高饱和度全介质薄膜的制作方法

技术特征：
1.一种具有小角度效应的高饱和度全介质薄膜，其特征在于：包括玻璃基层(001)和折射膜层(002)组成，所述折射膜层(002)由多层的高折射率膜层(201)和多层的低折射率膜层(202)交替层叠组成；所述全介质薄膜的反射率大于85％；所述全介质薄膜的反射光谱从截止区到高反射区的过段波段斜率为1.1
‑
1.4之间，其中600nm以下波长为截止区间；所述全介质薄膜反射在600
‑
800nm红色颜色映射上介于0
‑
45
°
之间具有偏移色差，lab*a*b颜色映射在30
‑
45
°
之间。2.根据权利要求1所述的具有小角度效应的高饱和度全介质薄膜，其特征在于：所述低折射率膜层(202)的折射率为1.3
‑
2.0，所述高折射率膜层(201)的射率膜层的折射率为2.0
‑
2.8。3.根据权利要求2所述的具有小角度效应的高饱和度全介质薄膜，其特征在于：所述高折射率膜层(201)为二氧化钛、二氧化铪、五氧化二钽、五氧化二铌、二氧化锆、氮化硅、硫化锌中的一种。4.根据权利要求3所述的具有小角度效应的高饱和度全介质薄膜，其特征在于：所述低折的射率膜层(202)为二氧化硅、三氧化二铝、氟化镁中的一种。5.根据权利要求3所述的具有小角度效应的高饱和度全介质薄膜，其特征在于：所述高折射率膜层(201)的材质为二氧化钛；所述低折射率膜层(202)的材质为二氧化硅。

技术总结
本实用新型涉及一种具有小角度效应的高饱和度全介质薄膜，属于薄膜技术领域，包括玻璃基层和折射膜层组成，折射膜层由多层的高折射率膜层和多层的低折射率膜层交替层叠组成，全介质薄膜反射率大于85％；全介质薄膜的反射光谱从截止区到高反射区的过段波段斜率为1.1


技术研发人员：卢世义
受保护的技术使用者：广州鑫铂颜料科技有限公司
技术研发日：2020.12.02
技术公布日：2021/9/21