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一种砚台组件的制作方法

2021-09-29 03:54:00 来源:中国专利 TAG:砚台 文具用品 组件 特别


1.本实用新型涉及文具用品技术领域,特别涉及一种砚台组件。


背景技术:

2.砚台是中国传统书法、绘画时所使用的一种重要工具,但传统砚台在使用后需要及时清理砚台中的墨水,清洗毛笔头,否则容易造成墨水干涸,同时毛笔的笔头会凝结,后续无法直接使用。
3.授权公告号为cn 211892661 u的公开了一种可竖直放置毛笔的带盖砚台,具体公开了一种可搁置毛笔,且无需对使用后的毛笔进行水洗的带盖砚台,将毛笔直立放置在砚台上,带有砚台盖的砚台可将砚台与毛笔笔头所带有的墨水在封闭在密闭空间内,防止其干涸。实际中,随着时间的推移,笔头由于长时间没有接触到墨汁或水,仍然会发生干涸、凝结,导致后续无法直接使用。
4.授权公告号为cn 20379292 u的实用新型专利公开了一种能长时间保湿的毛笔砚台座,具体公开了将笔头置于存放水的凹槽里进行保湿的技术特征。实际使用中,笔头能够保持湿润,但是在下次使用时,仍然需将花费一定的时间将笔头放在砚池中进行浸润,使饱含水分的笔头逐渐饱含一定浓度的墨汁,从而书写或绘画才更加具有美感。


技术实现要素:

5.本实用新型对以上背景技术中存在的问题,解决了书写或绘画完毕后无需清洗毛笔,并且能够在下次直接使用的技术问题,提供如下技术方案:一种砚台组件,包括砚池1、笔舔2、盖子3、支撑杆4、夹持器5,所述支撑杆4下端固定于砚池1,上端固定夹持器5;其特征在于:毛笔的笔管与夹持器5相连,调节毛笔的夹持位置,确保笔头有一部分时刻浸入砚池1的墨汁液面之下。笔舔2位于砚池1内,其数量为1

10个,且其将砚池1分隔为两个或多个互不联通的储墨空间。夹持器5的数量为1

10个。砚池1可为方形、圆形,或异型,材料为金属、非金属、竹、木、陶瓷或石料,周长为50

500mm,高度为5

200mm。笔舔2上沿有一个或多个凹槽。盖子3上设有缺口,缺口尺寸略大于笔管外径。
6.本发明的有益效果在于,在提升了对书写或绘画美感的体验的同时,既免除了劳动,节省了时间,又节约了水资源,同时还美化了桌面环境,达到了“即兴即书、即停即净、无需洗笔”的目的。
附图说明
7.图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
8.下面结合附图1对本实用新型做进一步的说明。如图所示:首次进行书写或绘画前,将一定量的墨汁倒入砚池1中,可以在不同的储墨空间内倒入不同浓度的墨汁。在书写
或绘画过程中,可以尝试用多只毛笔,如不同尺寸、不同笔毛、不同笔锋的毛笔,配合不同浓度的墨汁,以求找到最具美感的书写、绘画体验。书写完毕后,无需用水清洗毛笔,只需要将毛笔的笔管放到夹持器5上,并调整夹持部位,确保毛笔的笔头有一部分浸没在砚池的墨汁液面之下,然后将盖子3盖在砚池上,以减缓墨汁中水分的蒸发。实际使用中,在干燥的环境下,墨汁的蒸发量每天在1毫米这个数值左右,因此,盖子3是否严密,是否盖上,对墨汁的总量和浓度不存在太大影响。在下次使用时,只需打开盖子3,选择毛笔后松开其夹持器5,马上就可以开始书写或绘画。


技术特征:
1.一种砚台组件,包括砚池(1)、笔舔(2)、盖子(3)、支撑杆(4)、夹持器(5),所述支撑杆(4)下端固定于砚池(1),上端固定夹持器(5);其特征在于:毛笔的笔管与夹持器(5)相连,调节毛笔的夹持位置,确保笔头有一部分时刻浸入砚池(1)的墨汁液面之下。2.根据权利要求1所述的砚台组件,其特征在于:笔舔(2)位于砚池(1)内,其数量为1

10个,且其将砚池(1)分隔为两个或多个互不联通的储墨空间。3.根据权利要求1所述的砚台组件,其特征在于:夹持器(5)的数量为1

10个。4.根据权利要求1所述的砚台组件,其特征在于:砚池(1)的周长为50

500mm。5.根据权利要求1所述的砚台组件,其特征在于:砚池(1)的高度为5

200mm。6.根据权利要求1所述的砚台组件,其特征在于:砚池(1)的材料为金属、非金属、竹、木、陶瓷或石料。7.根据权利要求1所述的砚台组件,其特征在于:砚池(1)可为方形、圆形,或异型。8.根据权利要求1所述的砚台组件,其特征在于:笔舔(2)上沿有一个或多个凹槽。9.根据权利要求1所述的砚台组件,其特征在于:盖子(3)上设有缺口,缺口尺寸略大于笔管外径。

技术总结
本实用新型涉及一种砚台组件,包括砚池1、笔舔2、盖子3、支撑杆4、夹持器5,所述支撑杆4下端固定于砚池1,上端固定夹持器5;其特征在于:毛笔的笔管与夹持器5相连,调节毛笔的夹持位置,确保笔头有一部分时刻浸入砚池1的墨汁液面之下。本发明的有益效果在于,在提升了对书写或绘画美感的体验的同时,既免除了劳动,节省了时间,又节约了水资源,同时还美化了桌面环境,达到了“即兴即书、即停即净、无需洗笔”的目的。目的。目的。


技术研发人员:刘莉 甘霞 马蒋凌 姚艳琳
受保护的技术使用者:武汉乐为环保技术有限公司
技术研发日:2021.01.13
技术公布日:2021/9/28
再多了解一些

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