技术特征:
1.一种基于干法刻蚀的微器件,其特征在于:包括衬底(11)、导电粘附层(10)和微器件结构体(9),其中所述微器件结构体(9)由生长衬底(1)上经干法刻蚀分立形成的悬挂式外延结构体(4),先通过粘性物质层(6)从生长衬底(1)上粘附拾取到临时衬底(7)上,再通过导电粘附层(10)从临时衬底(7)上粘附转移到衬底(11)上而形成。
2.根据权利要求1所述基于干法刻蚀的微器件,其特征在于:所述生长衬底(1)位于悬挂式外延结构体(4)底面的部分经干法刻蚀形成为沙漏状结构(5)。
3.根据权利要求1所述基于干法刻蚀的微器件,其特征在于:所述粘性物质层(6)为PDMS层、PMMA层、SU8层、polyimide层或水溶性polymer层。
4.根据权利要求1所述基于干法刻蚀的微器件,其特征在于:所述悬挂式外延结构体(4)通过机械拉应力、横向剪切力、超声波震动或机械自动化控制手臂来实现与生长衬底(1)分离。
5.根据权利要求1所述基于干法刻蚀的微器件,其特征在于:所述临时衬底(7)为柔性衬底或玻璃衬底。
再多了解一些
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