纳米结构化制品的制作方法

技术特征：

1.一种制品，其包括具有第一主表面和大致相背对的第二主表面的基材和在所述第一主表面上的第一层，其中所述第一层包括基质和纳米级分散相，且具有无规的第一纳米结构化各向异性表面，其中所述无规的第一纳米结构化各向异性表面包含具有至少10:1的高宽比的纳米特征，其中所述纳米特征垂直于所述第一主表面，其中所述纳米特征的大部分被所述纳米级分散相覆盖，其中所述第一层具有至多0.5微米的平均厚度，并且所述第一层本身的所述无规的第一纳米结构化各向异性表面在可见光范围内具有小于1％的反射百分率。

2.根据权利要求1所述的制品，其中所述基质为聚合物基质。

3.根据前述权利要求中任一项所述的制品，其中所述第一层具有至多0.15微米的平均厚度。

4.根据权利要求1或2所述的制品，所述制品还包括设置在所述基材的所述第一主表面和所述第一层之间的功能层，其中所述功能层为透明导电层或气体阻挡层中的至少一者。

5.根据权利要求1或2所述的制品，所述制品还包括设置在所述无规的第一纳米结构化表面上的功能层，其中所述功能层为透明导电层或气体阻挡层中的至少一者。

6.根据权利要求1或2所述的制品，所述制品还包括在所述基材的所述第二主表面上的第二层，其中所述第二层具有无规的纳米结构化表面，并且其中所述第二层具有至多0.5微米的平均厚度。

7.根据权利要求6所述的制品，所述制品还包括设置在所述基材的所述第二主表面和所述第二层之间的功能层，其中所述功能层为透明导电层或气体阻挡层中的至少一者。

8.根据权利要求6所述的制品，所述制品还包括设置在所述无规的第二纳米结构化表面上的功能层，其中所述功能层为透明导电层或气体阻挡层中的至少一者。