一种靶材组件中间层的清洗方法与流程

技术特征：
1.一种靶材组件中间层的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括以下步骤：(1)将待清洗中间层依次采用有机溶剂和水进行超声波清洗；(2)将步骤(1)处理后的中间层进行鼓泡酸洗；(3)将步骤(2)处理后的中间层再次进行超声波水洗，干燥后得到清洗后的靶材组件中间层。2.根据权利要求1所述的清洗方法，其特征在于，步骤(1)所述中间层的材质包括钛；优选地，步骤(1)所述中间层的形状包括圆盘形；优选地，步骤(1)所述中间层的厚度为2.6～3.5mm。3.根据权利要求1或2所述的清洗方法，其特征在于，步骤(1)所述有机溶剂包括异丙醇、乙醇或煤油中任意一种或至少两种的组合；优选地，步骤(1)所述超声波清洗时超声波的频率为42～60khz；优选地，步骤(1)所述超声波清洗的温度为15～25℃；优选地，步骤(1)采用有机溶剂和水进行超声波清洗的时间独立地为3～6min。4.根据权利要求1
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3任一项所述的清洗方法，其特征在于，步骤(2)所述鼓泡酸洗所用的酸包括硝酸和/或氢氟酸；优选地，步骤(2)所述鼓泡酸洗的温度为30～35℃；优选地，步骤(2)所述鼓泡酸洗的时间为1～3min。5.根据权利要求1
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4任一项所述的清洗方法，其特征在于，步骤(2)所述鼓泡酸洗过程中向酸洗液中通入气体；优选地，所述通入的气体包括压缩空气；优选地，步骤(2)所述鼓泡酸洗完成后，将中间层置于水中浸泡水洗；优选地，所述浸泡水洗的时间为4～6min。6.根据权利要求1
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5任一项所述的清洗方法，其特征在于，步骤(3)所述超声波水洗的次数至少为1次，优选为2～3次；优选地，步骤(3)所述超声波水洗时超声波的频率为42～60khz；优选地，步骤(3)所述超声波水洗的温度为15～25℃；优选地，步骤(3)所述超声波水洗的总时间为10～20min。7.根据权利要求1
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6任一项所述的清洗方法，其特征在于，步骤(3)所述干燥依次包括吹扫干燥和真空干燥；优选地，所述吹扫干燥采用压缩气体对中间层进行吹扫；优选地，所述压缩气体包括惰性气体和/或氮气；优选地，所述压缩气体的压力为1～5kpa；优选地，所述吹扫干燥的时间为4～6min。8.根据权利要求7所述的清洗方法，其特征在于，所述真空干燥的温度为60～100℃；优选地，所述真空干燥的压力为
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0.09～
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0.1mpa；优选地，所述真空干燥的时间为40～90min。9.根据权利要求1
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8任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述中间层清洗完成后进行检测、包装；优选地，所述检测包括对清洗后的中间层进行纯度检测；
优选地，所述包装为对清洗后的中间层进行真空包装。10.根据权利要求1
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9任一项所述的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括以下步骤：(1)将待清洗中间层依次采用有机溶剂和水进行超声波清洗，所述中间层的材质包括钛，所述中间层的厚度为2.6～3.5mm，所述有机溶剂包括异丙醇、乙醇或煤油中任意一种或至少两种的组合，所述超声波清洗时超声波的频率为42～60khz，温度为15～25℃，采用有机溶剂和水进行超声波清洗的时间独立地为3～6min；(2)将步骤(1)处理后的中间层进行鼓泡酸洗，所述鼓泡酸洗所用的酸包括硝酸和/或氢氟酸，所述鼓泡酸洗的温度为30～35℃，时间为1～3min，鼓泡酸洗过程中向酸洗液中通入气体，完成后将中间层置于水中浸泡水洗4～6min；(3)将步骤(2)处理后的中间层再次进行超声波水洗，所述超声波水洗的次数至少为1次，超声波的频率为42～60khz，温度为15～25℃，总时间为10～20min，然后依次进行吹扫干燥和真空干燥，所述吹扫干燥采用压缩气体对中间层进行吹扫，所述压缩气体的压力为1～5kpa，吹扫干燥的时间为4～6min，所述真空干燥的温度为60～100℃，压力为
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0.09～
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0.1mpa，时间为40～90min，得到清洗后的靶材组件中间层。

技术总结
本发明提供了一种靶材组件中间层的清洗方法，所述清洗方法包括以下步骤：将待清洗中间层依次采用有机溶剂和水进行超声波清洗；将处理后的中间层进行鼓泡酸洗；再将处理后的中间层再次进行超声波水洗，干燥后得到清洗后的靶材组件中间层。本发明所述方法根据中间层的材质及表面污渍，依次采用超声波清洗、鼓泡酸洗以及超声波水洗的操作，将中间层表面的杂质、脏污、油污以及氧化层等充分去除，清洗后中间层的纯度较高，保证其用于扩散焊接时焊接面的致密性及均匀性，提高靶材组件的焊接强度；所述方法操作简单，清洗成本较低，产生废液量较少，适用范围广。适用范围广。


技术研发人员：姚力军 边逸军 潘杰 王学泽 侯宇
受保护的技术使用者：宁波江丰电子材料股份有限公司
技术研发日：2021.07.12
技术公布日：2021/10/15