一种纯铜膜生产用基片清洗装置的制作方法

技术特征：
1.一种纯铜膜生产用基片清洗装置，包括清洗水槽，其特征在于：所述清洗水槽上方设有支撑箱，所述支撑箱的左侧、右侧、底部均为开口设置，支撑箱内从左至右依次设有进料辊组、清洗辊组、出料辊组，所述进料辊组包括两个相对设置且转动连接于支撑箱上的进料辊，所述清洗辊组包括导向辊、压辊、顶辊，所述导向辊设有两个，导向辊转动连接于支架一上，所述支架一沿竖直滑动连接于支撑箱上，所述压辊设有两个且转动连接于安装板上，压辊设于两个导向辊之间，所述顶辊设有两个且转动连接于安装板上，顶辊设于两个压辊之间，所述安装板连接有支架二，所述支架二沿竖直方向滑动连接于支撑箱上，支架二连接有清洗气缸，所述清洗气缸固定于支撑箱内顶壁上，每个支架一和支架二之间设有滑轮，所述滑轮上缠绕有牵引绳，所述牵引绳的两端分别连接在支架一和支架二上，所述出料辊组包括两个相对设置且转动连接于支撑箱上的出料辊。2.根据权利要求1所述的一种纯铜膜生产用基片清洗装置，其特征在于：所述支撑箱侧壁上设有用于与支架一滑动配合的滑槽一和用于与支架二滑动配合的滑槽二，支架一上连接有与滑槽一匹配的滑块一，支架二上连接有与滑块二匹配的滑块二。3.根据权利要求1所述的一种纯铜膜生产用基片清洗装置，其特征在于：所述清洗水槽底部设有超声波换能器，所述超声波换能器上端设有超声波振子。4.根据权利要求1所述的一种纯铜膜生产用基片清洗装置，其特征在于：所述清洗辊组和出料辊组之间设有擦拭辊组，所述擦拭辊组包括转动连接于支撑箱上的上擦拭辊和下擦拭辊。5.根据权利要求4所述的一种纯铜膜生产用基片清洗装置，其特征在于：所述上擦拭辊和下擦拭辊的外侧均设有挤水板，所述挤水板与上擦拭辊或下擦拭辊相切设置，挤水板固定于支撑箱上，上擦拭辊的一侧还设有接水槽，所述接水槽设于挤水板下方。

技术总结
本实用新型涉及纯铜膜制造技术领域，公开了一种纯铜膜生产用基片清洗装置，包括清洗水槽，清洗水槽上方设有支撑箱，支撑箱内从左至右依次设有进料辊组、清洗辊组、出料辊组，清洗辊组包括导向辊、压辊、顶辊，导向辊连接于支架一上，压辊设有两个且连接于安装板上，压辊设于两个导向辊之间，顶辊设有两个且连接于安装板上，顶辊设于两个压辊之间，安装板连接有支架二，支架二连接有清洗气缸，每个支架一和支架二之间设有滑轮，滑轮上缠绕有牵引绳，牵引绳的两端分别连接在支架一和支架二上。本实用新型能对铜膜生产中的基片进行双面同时清洗，清洗效率高，清洗效果好，大大提高了工作效率，降低了清洗成本。降低了清洗成本。降低了清洗成本。


技术研发人员：陈重贤 李祥文 刘凯 全健 张开威
受保护的技术使用者：焦作嵩阳光电科技有限公司
技术研发日：2021.01.05
技术公布日：2021/10/8