一种纯铜膜生产用基片清洗装置的制作方法

1.本实用新型涉及纯铜膜制造技术领域，尤其涉及一种纯铜膜生产用基片清洗装置。


背景技术：

2.光学薄膜在建筑、汽车、电子行业的应用非常广泛，尤其是在显示器与触摸屏产业。铜膜是光学薄膜的一种，铜膜在加工制造之前需要对基片(通常为卷装的光学pet基材)进行清洗、烘干，基片的清洗效果直接影响基片表面附着力的大小，从而影响成膜的牢固与否，因此对铜膜的质量至关重要。现有的清洗装置大多只能对基片进行简单的清洗，无法彻底去除基片表面附着的污垢、灰尘等，清洗效果不理想，清洗效率较低，并且清洗成本高。


技术实现要素：

3.针对现有技术存在的技术问题，本实用新型提供了一种纯铜膜生产用基片清洗装置。
4.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种纯铜膜生产用基片清洗装置，包括清洗水槽，所述清洗水槽上方设有支撑箱，所述支撑箱的左侧、右侧、底部均为开口设置，支撑箱内从左至右依次设有进料辊组、清洗辊组、出料辊组，所述进料辊组包括两个相对设置且转动连接于支撑箱上的进料辊，所述清洗辊组包括导向辊、压辊、顶辊，所述导向辊设有两个，导向辊转动连接于支架一上，所述支架一沿竖直滑动连接于支撑箱上，所述压辊设有两个且转动连接于安装板上，压辊设于两个导向辊之间，所述顶辊设有两个且转动连接于安装板上，顶辊设于两个压辊之间，所述安装板连接有支架二，所述支架二沿竖直方向滑动连接于支撑箱上，支架二连接有清洗气缸，所述清洗气缸固定于支撑箱内顶壁上，每个支架一和支架二之间设有滑轮，所述滑轮上缠绕有牵引绳，所述牵引绳的两端分别连接在支架一和支架二上，所述出料辊组包括两个相对设置且转动连接于支撑箱上的出料辊。
5.优选的，所述支撑箱侧壁上设有用于与支架一滑动配合的滑槽一和用于与支架二滑动配合的滑槽二，支架一上连接有与滑槽一匹配的滑块一，支架二上连接有与滑块二匹配的滑块二。
6.优选的，所述清洗水槽底部设有超声波换能器，所述超声波换能器上端设有超声波振子。
7.优选的，所述清洗辊组和出料辊组之间设有擦拭辊组，所述擦拭辊组包括转动连接于支撑箱上的上擦拭辊和下擦拭辊。
8.优选的，所述上擦拭辊和下擦拭辊的外侧均设有挤水板，所述挤水板与上擦拭辊或下擦拭辊相切设置，挤水板固定于支撑箱上，上擦拭辊的一侧还设有接水槽，所述接水槽设于挤水板下方。
9.本实用新型还包括能够使一种纯铜膜生产用基片清洗装置正常使用的其它组件，
均为本领域的常规技术手段。另外，本实用新型中未加限定的装置或组件均采用本领域中的常规技术手段。
10.本实用新型能对铜膜生产中的基片进行双面同时清洗，清洗效率高，清洗效果好，大大提高了工作效率，降低了清洗成本。
附图说明
11.图1是实施例1的主视图。
12.图2是实施例1的内部结构示意图。
13.图3是实施例1安装板上升时的结构示意图。
14.图4是实施例2的结构示意图。
15.图中：1清洗水槽、2支撑箱、3进料辊、4导向辊、5压辊、6顶辊、7支架一、8安装板、9支架二、10清洗气缸、11滑轮、12牵引绳、13出料辊、14滑槽一、15滑槽二、16基片、17超声换能器、18接水槽、19上擦拭辊、20下擦拭辊、21挤水板。
具体实施方式
16.下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
17.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
18.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
19.实施例1
20.参见图1
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3，一种纯铜膜生产用基片清洗装置，包括清洗水槽1，所述清洗水槽1上方设有支撑箱2，所述支撑箱2的左侧、右侧、底部均为开口设置，支撑箱2内从左至右依次设有进料辊组、清洗辊组、出料辊组，所述进料辊组包括两个相对设置且转动连接于支撑箱2上的进料辊3，所述清洗辊组包括导向辊4、压辊5、顶辊6，所述导向辊4设有两个，导向辊4转动连接于支架一7上，所述支架一7沿竖直滑动连接于支撑箱2上，所述压辊5设有两个且转动连接于安装板8上，压辊5设于两个导向辊4之间，所述顶辊6设有两个且转动连接于安装板8上，顶辊6设于两个压辊5之间，所述安装板8连接有支架二9，所述支架二9沿竖直方向滑动连接于支撑箱2上，支架二9连接有清洗气缸10，所述清洗气缸10固定于支撑箱2内顶壁上，每个支架一7和支架二9之间设有滑轮11，所述滑轮11上缠绕有牵引绳12，所述牵引绳12
的两端分别连接在支架一7和支架二9上，所述出料辊组包括两个相对设置且转动连接于支撑箱2上的出料辊13。
21.所述支撑箱2侧壁上设有用于与支架一7滑动配合的滑槽一14和用于与支架二9滑动配合的滑槽二15，支架一上连接有与滑槽一匹配的滑块一，支架二上连接有与滑块二匹配的滑块二。这种设置能使支架一和支架二的升降更加平稳。
22.使用时，基片16从两个进料辊3之间、两个出料辊13之间穿过，进料辊组和出料辊组对卷装的基片进行传输；两个导向辊4设于基片上方，对基片进行导向，并使基片浸入清洗水槽内，使清洗水槽内的清洗介质对基片的两面同时进行清洗；清洗时，压辊5位于基片的上方，顶辊6位于基片的下方，清洗气缸10不停的伸缩，带动安装板8上下移动，从而使基片在清洗水槽1内上下移动，能增加清洗介质的流动速度及清洗介质对基片的作用力，从而改善基片的清洗效果，提高清洗效率。
23.本实施例中，当清洗气缸10带动安装板8上升时，两个顶辊6将基片顶起，两个压辊5与基片脱离，与此同时，由于牵引绳12的作用，支架二9在自身重力作用下下移，两个导向辊4将基片压低，这种设置能保证进料辊组和出料辊组之间的基片长度始终保持一致，从而使得基片的张紧度一致，避免基片由于张紧度频繁变化而发生断裂。
24.实施例2
25.参见图4，本实施例与实施例1的区别在于：所述清洗水槽1底部设有超声换能器17。
26.所述清洗辊组和出料辊组之间设有擦拭辊组，所述擦拭辊组包括转动连接于支撑箱2上的上擦拭辊19和下擦拭辊20。
27.所述上擦拭辊19和下擦拭辊20的外侧均设有挤水板21，所述挤水板21与上擦拭辊19或下擦拭辊20相切设置，挤水板固定于支撑箱2上，上擦拭辊19的一侧还设有接水槽18，所述接水槽18设于挤水板21下方。
28.本实施例中，超声波换能器17能使清洗介质中的微气泡在声波的作用下保持振动，从而破坏污垢、灰尘等与基片表面的吸附力，进一步提高清洗介质的清洗效果。超声波换能器为现有技术，不再详述。
29.上擦拭辊19和下擦拭辊20采用吸水材质制成。上擦拭辊19和下擦拭辊20反向旋转，对清洗后的基片进行擦拭，除去基片表面的清洗介质，加速基片的干燥，为下一工序做好准备。上擦拭辊19或下擦拭辊20在对基片擦拭后经过挤水板21时，受到挤水板21的挤压力，其吸附的清洗介质被挤出。其中下擦拭辊20挤出的清洗介质直接流入清洗水槽内重复利用，上擦拭辊19挤出的清洗介质流入接水槽18内，可在接水槽18底部连接排水管，使接水槽18内的清洗介质排出至清洗水槽内重复利用。
30.本实施例可对清洗后的基片进行擦拭，且能对擦拭辊进行自动挤水，使擦拭辊始终保持对清洗介质的吸附力。
31.以上已经描述了本实用新型的实施例，上述说明是示例性的，并非穷尽性的，并且也不限于所披露的实施例。在不偏离所说明实施例的范围和精神的情况下，对于本技术领域的普通技术人员来说许多修改和变更都是显而易见的。