密封胶、显示面板及其制备方法与流程

技术特征：
1.一种密封胶，其特征在于，所述密封胶包括依次设置的第一层、第二层及第三层；所述第一层包括偶氮苯衍生物；所述第二层包括混合的所述偶氮苯衍生物和遮光胶；所述第三层包括遮光胶。2.如权利要求1所述的密封胶，其特征在于，所述第二层的偶氮苯衍生物占所述第二层的质量分数为10％
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40％。3.如权利要求1所述的密封胶，其特征在于，所述偶氮苯衍生物的分子结构式：其中，r＝(
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c5h
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)。4.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，如权利要求1
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3任一项所述的密封胶；所述密封胶位于所述阵列基板和所述彩膜基板的至少一侧边缘。5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述密封胶的所述第一层的涂布面积为所述阵列基板和所述彩膜基板同侧边缘的面积之和的50％
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80％。6.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述密封胶的所述第二层的涂布面积或者所述第三层的涂布面积等于所述阵列基板和所述彩膜基板同侧边缘的面积之和。7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括:提供一阵列基板，在所述阵列基板的对向设置一彩膜基板；在所述阵列基板与所述彩膜基板的至少一侧边缘涂布密封胶；其中，所述密封胶包括依次设置的第一层、第二层及第三层；所述第一层包括偶氮苯衍生物；所述第二层包括混合的所述偶氮苯衍生物和遮光胶；所述第三层包括遮光胶。8.如权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述密封胶的涂布步骤包括：在第一光照下涂布成膜及固化形成第一层，所述第一层的涂布面积为所述阵列基板和所述彩膜基板同侧边缘的面积之和的50％
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80％；在第一光照和第二光照下涂布成膜及固化形成第二层，所述第二层的涂布面积等于所述阵列基板和所述彩膜基板同侧边缘的面积之和；在第二光照下涂布成膜及固化形成第三层，所述第三层的涂布面积等于所述阵列基板和所述彩膜基板同侧边缘的面积之和；其中，所述第一光照为绿光，所述第二光照为紫外光。9.如权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第二层的偶氮苯衍生物占所述第二层的质量分数为10％
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40％。10.如权利要求9所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述偶氮苯衍生物的分子结构式：
其中，r＝(
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c5h
11
)。

技术总结
本发明公开了一种密封胶、显示面板及其制备方法。所述密封胶包括依次设置的第一层、第二层及第三层；所述第一层包括偶氮苯衍生物；所述第二层包括按比例混合的所述偶氮苯衍生物和遮光胶；所述第三层包括遮光胶。所述显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，位于所述阵列基板和所述彩膜基板的至少一侧边缘的密封胶。本发明中的显示面板包括密封胶，所述密封胶通过三次成膜工艺制备形成，在保持高粘着力的性能下，实现高度可逆的光控粘合剂，提升了密封胶的重工性。提升了密封胶的重工性。提升了密封胶的重工性。


技术研发人员：周世新
受保护的技术使用者：TCL华星光电技术有限公司
技术研发日：2021.07.08
技术公布日：2021/10/23